一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105420681A(43)申请公布日2016.03.23(21)申请号201510902154.4C23C14/24(2006.01)(22)申请日2015.12.09(71)申请人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所地址130033吉林省长春市东南湖大路3888号(72)发明人张立超才玺坤贺健康时光武潇野梅林隋永新杨怀江(74)专利代理机构长春菁华专利商标代理事务所22210代理人李外(51)Int.Cl.C23C14/50(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图1页(54)发明名称一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装(57)摘要本发明提供一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装，属于光学镀膜领域。解决现有的控制膜厚均匀性的方法需加入膜厚修正挡板的问题。该镀膜工装包括：附带主齿轮的主转动轴、附带行星盘上齿轮和行星盘下齿轮的行星盘转动轴、附带卫星盘齿轮的卫星盘转动轴、随卫星盘转动轴自转的元件承载架，所述的行星盘上齿轮与主齿轮咬合，行星盘下齿轮与卫星盘齿轮咬合。该工装通过采用行星式运动的方式，并且对各转动轴定位于最佳位置，通过将主转动轴与行星盘转动轴之间的距离、行星盘转动轴和卫星盘转动轴之间的距离设置为理论模拟或实验得到的满足膜厚均匀性控制要求的最佳距离，在无膜厚均匀性挡板的情况下，实现对膜厚均匀性的控制。CN105420681ACN105420681A权利要求书1/1页1.一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装，其特征在于，包括：附带主齿轮(2)的主转动轴(1)、附带行星盘上齿轮(4-1)和行星盘下齿轮(4-2)的行星盘转动轴(3)、附带卫星盘齿轮(6)的卫星盘转动轴(5)、随卫星盘转动轴(5)自转的元件承载架(4)，其中元件承载架(4)用于承载元件；所述的行星盘上齿轮(4-1)与主齿轮(2)咬合，行星盘下齿轮(4-1)与卫星盘齿轮(6)咬合。2.根据权利要求1所述的一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装，其特征在于，所述的主齿轮(2)与行星盘上齿轮(4-1)的齿轮比、行星盘下齿轮(4-2)与卫星盘齿轮(6)的齿轮比设为不能除尽的循环小数。2CN105420681A说明书1/2页一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装技术领域[0001]本发明涉及光学镀膜领域，尤其涉及一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装。背景技术[0002]在光学镀膜领域，目前应用最广泛的是基于蒸发原理的蒸镀技术。其基本特征在于蒸发源的类点源特性，这导致了在元件上蒸镀的膜厚空间分布的不均匀性。为解决这一不均匀性，人们利用元件在镀膜机内转动的方式实现元件上各点膜厚分布的均化效果，通常采用的方式包括单纯的元件自转，或同时也围绕镀膜机中轴线进行公转。[0003]采用这样的方法，通常可以使平面元件的膜厚均匀性得到一定的改善，但并不能完全解决问题，因此还必须在此基础上增加膜厚修正挡板才能将膜厚分布调整至所需范围内，这些挡板的形状必须经过复杂的数学计算才能够得到，且需要多次实验配合迭代才能够完成全过程，费时费力。另外，膜厚修正挡板的出现增加了元件镀膜过程的复杂性，元件在不断进出挡板遮挡范围的过程中，膜厚分布产生了中高频粗糙度，降低了成像质量。因此，需要发展合适的元件运动方式，能够在不引入膜厚修正挡板的前提下，实现膜厚均匀性的控制。发明内容[0004]本发明的目的是为了解决现有的控制膜厚均匀性的方法需加入膜厚修正挡板的问题，而提供一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装。[0005]本发明提供一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装，包括：附带主齿轮的主转动轴、附带行星盘上齿轮和行星盘下齿轮的行星盘转动轴、附带卫星盘齿轮的卫星盘转动轴、随卫星盘转动轴自转的元件承载架，其中元件承载架用于承载元件；[0006]所述的行星盘上齿轮与主齿轮咬合，行星盘下齿轮与卫星盘齿轮咬合。[0007]本发明的有益效果[0008]本发明提供一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装，该工装通过采用行星式元件运动的方式，并且对各转动轴定位于最佳位置，通过将主转动轴与行星盘转动轴之间的距离、行星盘转动轴和卫星盘转动轴之间的距离设置为理论模拟或实验得到的满足膜厚均匀性控制要求的最佳距离，在无膜厚均匀性挡板的情况下，实现对膜厚均匀性的控制。附图说明[0009]图1为本发明一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装的结构示意图。[0010]图2为口径为300mm平面基片在不同R1(主转动轴与行星盘转动轴之间的距离)和R2(行星盘转动轴和卫星盘转动轴之间的距离)时膜厚不均匀性分布图。具体实施方式3CN105420681A说明书2/2页[0011]本发明提供一种用于控制平面元件膜厚均匀性的镀膜工装，如图1所示，包括