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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105987012A(43)申请公布日2016.10.05(21)申请号201610028614.X(22)申请日2016.01.15(30)优先权数据2015-0548442015.03.18JP(71)申请人株式会社岛津制作所地址日本京都府京都市中京区西之京桑原町1番地(72)发明人坪川彻也(74)专利代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司11019代理人寿宁张华辉(51)Int.Cl.F04D19/04(2006.01)F04D29/58(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图5页(54)发明名称涡轮分子泵(57)摘要本发明提供一种涡轮分子泵,能够抑制生成物对间隔件内周面的堆积。涡轮分子泵(1)包括:隔着环状的间隔件(29B)而积层的多个固定翼(21),以及相对于多个固定翼(21)旋转的多个旋转翼(12),并且,在间隔件(29B)设置着抑制从间隔件(29B)的内周部(291)向外周部(292)的热移动的热阻部(290)。CN105987012ACN105987012A权利要求书1/1页1.一种涡轮分子泵,其特征在于包括:多个固定翼,隔着环状的间隔件而积层;以及多个旋转翼,相对于所述多个固定翼旋转,并且在所述间隔件设置着抑制从所述间隔件的内周侧向外周侧的热移动的热阻部。2.根据权利要求1所述的涡轮分子泵,其特征在于:在所述热阻部形成着贯通槽或非贯通槽。3.根据权利要求1所述的涡轮分子泵,其特征在于:所述热阻部具有直径不同的环状的非贯通槽交替地形成于所述间隔件的表背面而成的迷宫结构。4.根据权利要求1所述的涡轮分子泵,其特征在于:所述间隔件由铝系材料形成,所述热阻部为形成于所述间隔件的内周面的防蚀铝处理层。5.根据权利要求1所述的涡轮分子泵,其特征在于:所述间隔件包括:环状的外周部;以及环状的所述热阻部,固定于所述外周部的内周侧,由导热率小于所述外周部的材料形成。2CN105987012A说明书1/7页涡轮分子泵技术领域[0001]本发明涉及一种适合于容易产生生成物堆积的气体的排出的涡轮分子泵。背景技术[0002]以前,半导体制造装置或液晶制造装置等的腔室排气中使用涡轮分子泵等真空泵。近年来,半导体制造装置或液晶制造装置的蚀刻工艺中,会产生如下问题:产生生成物对真空泵的堆积,而导致真空泵的转子与生成物接触这样的麻烦的增加,或装置运转后短期内需要彻底检修(Overhaul)等。[0003]生成物的凝固及堆积依存于其蒸气压,有在更低的压力、更高温的环境中凝固及堆积得到抑制的倾向。因此,在包括包含固定翼及旋转翼的涡轮翼泵部、及具有圆筒状的转子及定子的螺纹槽泵部的涡轮分子泵中,有在泵内压力相对高的螺纹槽泵部或泵排气口等处堆积量增多的倾向。因此,作为抑制该部分的堆积的对策,而提出有如下结构,即,在设置着螺纹槽泵部的定子及排气口的基底的周围或排气口安装加热器的结构,或利用加热器直接对螺纹槽泵部的定子进行加热的结构(例如参照专利文献1)。[0004][现有技术文献][0005][专利文献][0006][专利文献1]日本专利特开2011-80407号公报发明内容[0007][发明所要解决的问题][0008]在比螺纹槽泵部设置得靠排气上游侧的涡轮翼泵部,例如,在与旋转翼相向的间隔件内周面,也会产生生成物的附着及堆积。当生成物堆积在间隔件内周面时,有该生成物与旋转翼前端接触的担心。[0009][解决问题的技术手段][0010]本发明的优选的实施方式的涡轮分子泵包括:隔着环状的间隔件而积层的多个固定翼,及相对于所述多个固定翼旋转的多个旋转翼,在所述间隔件设置着抑制从该间隔件的内周侧向外周侧的热移动的热阻部。[0011]更优选的实施方式中,在所述热阻部形成着贯通槽或非贯通槽。[0012]更优选的实施方式中,所述热阻部具有直径不同的环状的非贯通槽交替地形成于所述间隔件的表背面而成的迷宫(labyrinth)结构。[0013]更优选的实施方式中,所述间隔件由铝系材料形成,所述热阻部为形成于所述间隔件的内周面的防蚀铝(alumite)处理层。[0014]更优选的实施方式中,所述间隔件包括:环状的外周部;以及环状的所述热阻部,固定于所述外周部的内周侧,由导热率小于所述外周部的材料形成。[0015][发明的效果][0016]根据本发明,能够抑制生成物对间隔件内周面的堆积。3CN105987012A说明书2/7页附图说明[0017]图1是表示本发明的涡轮分子泵的第一实施方式的图;[0018]图2(a)、图2(b)是表示间隔件的一例的图;[0019]图3(a)、图3(b)是表示积层状态的固定翼及间隔件的图;[0020]图4(a)、图4(b)是说明本发明的涡轮分子泵的第二实施