

一种用于真空腔室的加热装置.pdf
书生****35
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一种用于真空腔室的加热装置.pdf
一种磁控溅射镀膜方法装置,其包括同轴设置的定齿轮、可旋转的公转支撑盘和可旋转的加热盘,所述公转支撑盘沿周向均布有多个可旋转的自转样片盘,所述自转样片盘的轴线在与所述定齿轮的轴线为中心的一个圆周上,所述自转样片盘设置有与所述定齿轮啮合的自转齿轮,所述加热盘在所述自转样片盘上方,所述加热盘设置有至少一个加工口,所述加工口设置在所述自转样片盘的轴线所在的圆周上方,所述加工口的面积大于所述圆形样片的面积。本发明所提供的一种用于真空腔室的加热装置,大大提高了加热效率,此外,可以一次放入多个样品,做多次不同工艺参数的
包括低温空腔的用于加热空心主体的加热装置.pdf
用于加热具有空心主体的塑性材料制的毛坯(2)的加热装置(1),所述加热装置具有毛坯(2)在其中行进的空腔(8)并且包括:发射装置(12),其装有至少一指向空腔(8)的具有电磁辐射的辐射源(13);框架(7),其限定空腔(8)并且包括一组与空腔(8)毗邻的构件(9、10、11),每个毗邻的构件(9、10、11)具有朝向空腔(8)并且能够吸收来自发射装置(12)的电磁辐射或者向空腔(8)反射电磁辐射的内表面(14、15、16、17);整体在空腔(8)外形成的冷却回路(18),该冷却回路包括载热流体经过的流体通
一种用于真空腔室磁控溅射的装置.pdf
一种用于真空腔室磁控溅射的装置,其包括轴线重合的顺序连接的可旋转的第一大齿轮、可旋转的公转支撑盘和可旋转的遮挡盘,所述公转支撑盘沿周向均布有多个可旋转的自转样片盘,所述自转样片盘的轴线在以所述公转支撑盘的轴线为中心的一个圆周上,所述自转样片盘设置有与所述第一大齿轮啮合的自转齿轮,所述遮挡盘在所述自转样片盘上方,所述遮挡盘设置有至少一个加工口,所述加工口设置在所述自转样片盘的轴线所在的圆周上方,所述加工口的面积大于所述圆形样片的面积。本发明所提供的一种用于真空腔室磁控溅射的装置,可以一次放入多个样品,做多次
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本申请公开了一种用于真空回流焊炉的真空腔加热装置及其控温方法,真空腔加热装置包括:真空腔室,连通有氮气发生单元;至少两组独立控制的辐射加热模组,沿真空腔室的上腔壁依次排列,用于对所述真空腔室进行加热;每组辐射加热模组均配置有:灯管模组,包括并联设置的多根辐射灯管;以及独立的电源馈通件和热电偶;其中,多组辐射加热模组同时工作,独立控温,共同构成真空腔室内的发热区域。本申请兼顾经济性和灵活性,结构简单,安装方便,控温灵活,解决了现有技术所存在的需要对加热温度进行定制的问题。
一种用于真空腔室的顶针升降装置及等离子刻蚀系统.pdf
本发明公开了一种用于真空腔室的顶针升降装置及等离子刻蚀系统,包括多个顶针和一个顶针安装座;顶针安装座包括底板和多个限位块;底板上开设有多个与顶针通过孔一一对应的盲孔;每个盲孔内嵌入安装有若干叠加放置的弹性圈;弹性圈的内径小于顶针的直径,且若干弹性圈的下端面与盲孔底部相接,若干弹性圈叠加后的高度不低于盲孔高度;多个限位块可拆卸固定在底板上,且每个限位块的下表面一一对应压接一个盲孔内的若干弹性圈的上端面;每个限位块上设置有一个导向通孔;每个顶针穿过一个盲孔内的弹性圈及对应限位块的导向通孔。本发明将顶针固定并精