一种用于真空腔室的加热装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106906448A(43)申请公布日2017.06.30(21)申请号201710098425.4(22)申请日2017.02.23(71)申请人北京创世威纳科技有限公司地址100085北京市海淀区清河龙岗路27号(72)发明人王长梗关江敏(74)专利代理机构北京尚德技研知识产权代理事务所(普通合伙)11378代理人陈晓平(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种用于真空腔室的加热装置(57)摘要一种磁控溅射镀膜方法装置，其包括同轴设置的定齿轮、可旋转的公转支撑盘和可旋转的加热盘，所述公转支撑盘沿周向均布有多个可旋转的自转样片盘，所述自转样片盘的轴线在与所述定齿轮的轴线为中心的一个圆周上，所述自转样片盘设置有与所述定齿轮啮合的自转齿轮，所述加热盘在所述自转样片盘上方，所述加热盘设置有至少一个加工口，所述加工口设置在所述自转样片盘的轴线所在的圆周上方，所述加工口的面积大于所述圆形样片的面积。本发明所提供的一种用于真空腔室的加热装置，大大提高了加热效率，此外，可以一次放入多个样品，做多次不同工艺参数的实验，从而大大提高实验效率。CN106906448ACN106906448A权利要求书1/1页1.一种磁控溅射镀膜方法装置，其特征在于，所述真空腔室设置有至少一个圆形磁控靶，其安装在所述圆形磁控靶下方，其用于对多个圆形样片进行磁控溅射，其包括同轴设置的定齿轮、可旋转的公转支撑盘和可旋转的加热盘，所述公转支撑盘沿周向均布有多个可旋转的自转样片盘，所述自转样片盘的轴线在与所述定齿轮的轴线为中心的一个圆周上，所述自转样片盘设置有与所述定齿轮啮合的自转齿轮，所述加热盘在所述自转样片盘上方，所述加热盘设置有至少一个加工口，所述加工口设置在所述自转样片盘的轴线所在的圆周上方，所述加工口的面积大于所述圆形样片的面积。2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜方法装置，其特征在于，所述加热盘是铠装加热器或者石英红外加热器。3.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜方法装置，其特征在于，所述加热盘与所述自转样片盘的距离是3-8mm。4.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜方法装置，其特征在于，所述加热盘与所述公转支撑盘由同轴的不同的驱动轴来驱动。5.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜方法装置，其特征在于，所述加热盘包括一个壳体、设置在所述壳体内的多个加热模块以及一个盖板。6.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜方法装置，其特征在于，所述加工口是圆形，或开口的凹形。2CN106906448A说明书1/3页一种用于真空腔室的加热装置技术领域[0001]本发明涉及真空磁控溅射技术领域，特别涉及一种用于真空腔室的加热装置。背景技术[0002]在半导体、微电子行业，通常需要采用真空等离子体技术用圆形磁控靶对圆形样品进行溅射，从而进行小批量生产已验证各种设计。目前市场上的用于圆形样品小批量生产的设备通常是在真空腔室中的圆形磁控靶下方采用齿轮结构设置多个可自转+公转的圆台，从而可将圆形样品放置在圆台上在磁控靶下方自转完成溅射加工。但这种结构的缺陷是难以对各圆形样品均匀加热，因为用于放置圆形样品的圆台下方通常有较复杂的齿轮结构，因此没有放置加热器的空间，而如果采用侧壁加热的方式，由于在真空腔室中传热介质很少，因此所有的圆形样品被均匀加热就需要将整个真空腔体加热到特定温度，也就会需要很长的时间和消耗巨大的能量，这样不仅效率低，而且成本高。发明内容[0003]本发明要解决的技术问题是提供一种用于真空腔室的加热装置，以减少或避免前面所提到的问题。[0004]为解决上述技术问题，本发明提出了一种用于真空腔室的加热装置，所述真空腔室设置有至少一个圆形磁控靶，其安装在所述圆形磁控靶下方，其用于对多个圆形样片进行磁控溅射，其包括同轴设置的定齿轮、可旋转的公转支撑盘和可旋转的加热盘，所述公转支撑盘沿周向均布有多个可旋转的自转样片盘，所述自转样片盘的轴线在与所述定齿轮的轴线为中心的一个圆周上，所述自转样片盘设置有与所述定齿轮啮合的自转齿轮，所述加热盘在所述自转样片盘上方，所述加热盘设置有至少一个加工口，所述加工口设置在所述自转样片盘的轴线所在的圆周上方，所述加工口的面积大于所述圆形样片的面积。[0005]优选地，所述加热盘是铠装加热器或者石英红外加热器[0006]优选地，所述加热盘与所述自转样片盘的距离是3-8mm。[0007]优选地，所述加热盘与所述公转支撑盘由同轴的不同的驱动轴来驱动。[0008]优选地，所述加热盘包括一个壳体、设置在所述壳体内的多个加热模块以及一个盖板。[0009]优选地，所述加工口是圆形，或开口的凹形。[0010]本发明所提供的一种用于真