膜材料和图案形成方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107957657A(43)申请公布日2018.04.24(21)申请号201710951406.1(22)申请日2017.10.13(30)优先权数据2016-2022942016.10.14JP(71)申请人信越化学工业株式会社地址日本东京(72)发明人浅井聪曾我恭子加藤英人(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人杜丽利(51)Int.Cl.G03F7/075(2006.01)G03F7/004(2006.01)权利要求书3页说明书19页(54)发明名称膜材料和图案形成方法(57)摘要膜材料包括相对于波长300-450nm的光具有至少60％透射率的支持膜和含有0.001-10重量％的具有至多10,000分子量的碱性化合物并且具有1-100μm的厚度的树脂层。通过将膜材料中的树脂层贴附至晶片上的化学放大负型抗蚀剂层，曝光，烘焙和显影抗蚀剂层形成图案。改进了图案中的开口的轮廓。CN107957657ACN107957657A权利要求书1/3页1.膜材料，其包括对于波长300至450nm的光具有至少60％的透射率的支持膜和设置在该支持膜的一个表面上的树脂层，所述树脂层含有0.001至10重量％的具有至多10,000的分子量的碱性化合物并且具有1至100μm的厚度。2.根据权利要求1所述的膜材料，其中所述树脂层基于选自以下的树脂：环氧树脂、酚醛树脂、丙烯酸系树脂、有机硅树脂、聚酯树脂、聚氨酯树脂和聚酰亚胺树脂。3.根据权利要求2所述的膜材料，其中所述树脂层基于具有3,000至500,000的重均分子量的含有硅氧烷骨架的树脂。4.图案形成方法，包括如下步骤：将根据权利要求1所述的膜材料中的树脂层贴附至晶片上的化学放大负型抗蚀剂层，将抗蚀剂层曝光至辐射，烘焙曝光的抗蚀剂层，和使经烘焙的抗蚀剂层显影。5.根据权利要求4所述的图案形成方法，其中用于曝光步骤中的辐射为波长190至500nm的辐射。6.根据权利要求4所述的图案形成方法，其中所述化学放大负型抗蚀剂层包含具有3,000至500,000的重均分子量的含有硅氧烷骨架的树脂。7.根据权利要求4所述的图案形成方法，其中所述化学放大负型抗蚀剂层包含：(A)由式(1)表示并且具有3,000至500,000的重均分子量的含硅氧烷骨架的聚合物，14其中，R至R各自独立地为C1-C8一价烃基，m为1至100的整数，a、b、c和d为以下范围的数：0≤a≤1、0≤b≤1、0≤c≤1、0≤d≤1、0<a+b≤1和a+b+c+d＝1，X为式(2)的二价有机基团和Y为式(3)的二价有机基团：2CN107957657A权利要求书2/3页其中Z1和Z2各自独立地为单键或选自以下的二价有机基团：58R至R各自独立地为C1-C4烷基或烷氧基，k和h各自独立地为0、1或2，(B)具有至少3个羟基的多元酚化合物，(C)光致产酸剂，其在曝光至波长190至500nm的辐射时分解产生酸，和(D)至少一种交联剂，其选自用甲醛或甲醛-醇改性的氨基缩合物、在分子中具有平均至少两个羟甲基或烷氧基羟甲基的酚化合物和具有被缩水甘油氧基替代的羟基的多元酚化合物。8.根据权利要求4所述的图案形成方法，其中所述化学放大负型抗蚀剂层由树脂组合物形成，所述树脂组合物包含：(A)由式(1)表示并且具有3,000至500,000的重均分子量的含硅氧烷骨架的聚合物，14其中，R至R各自独立地为C1-C8一价烃基，m为1至100的整数，a、b、c和d为以下范围的数：0≤a≤1、0≤b≤1、0≤c≤1、0≤d≤1、0<a+b≤1和a+b+c+d＝1，X为式(2)的二价有机基团和Y为式(3)的二价有机基团：3CN107957657A权利要求书3/3页其中Z1和Z2各自独立地为单键或选自以下的二价有机基团：58R至R各自独立地为C1-C4烷基或烷氧基，k和h各自独立地为0、1或2，(B)具有至少3个羟基的多元酚化合物，(C)光致产酸剂，其在曝光至波长190至500nm的辐射时分解产生酸，(D)至少一种交联剂，其选自用甲醛或甲醛-醇改性的氨基缩合物、在分子中具有平均至少两个羟甲基或烷氧基羟甲基的酚化合物和具有被缩水甘油氧基替代的羟基的多元酚化合物，和(G)溶剂。4CN107957657A说明书1/19页膜材料和图案形成方法[0001]相关申请的交叉引用[0002]本非临时申请在美国法典第35卷第119节(a)款下要求2016年10月14日于日本提交的第2016-202294号专利申请的优先权，所述专利申请的全部内容通过引用并入本文。技术领域[0003]本发明涉及膜材料和图案形成方法，并且更特别地涉及包含碱性化合物的膜材料和使用其的负型抗蚀剂图案形成方法。