GaN肖特基器件电学性质的模拟研究的中期报告.docx
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GaN肖特基器件电学性质的模拟研究的中期报告.docx
GaN肖特基器件电学性质的模拟研究的中期报告这里给出一份可能的中期报告,仅供参考:中期报告:GaN肖特基器件电学性质的模拟研究一、研究背景和意义近年来,由于GaN材料具有较高的载流子饱和漂移速度、宽的能隙、高的硬度和热稳定性等优点,成为研究和应用的热点。GaN肖特基二极管作为GaN材料的典型应用之一,具有较低的串联电阻、较高的开关速度、稳定的热特性等优点,被广泛应用于高电压、高频、高温等场合。然而,在实际应用中,GaN肖特基二极管可能会出现一些电学问题,如漏电流、反向漏电流、低电压方向的冲击电流等。因此,
GaN的制备与GaN基肖特基器件的中期报告.docx
GaN的制备与GaN基肖特基器件的中期报告本文将对GaN的制备以及GaN基肖特基器件的中期报告进行介绍。1.GaN的制备GaN是一种优良的电子材料,具有高的电子迁移率、高的热稳定性、高的能隙以及优良的光学性能等特点。目前,GaN的制备主要有以下几个方法:(1)化学气相沉积法(CVD)CVD是一种常用的制备GaN的方法,通过将氨气和三甲基镓或三甲基铝在高温下反应,从而制备出GaN薄膜。该方法可以在不同的基片上制备出GaN薄膜,如蓝宝石、石英和Si等。(2)分子束外延法(MBE)MBE是一种将纯净金属材料以分
GaN基器件肖特基接触的新结构和新材料的研究的中期报告.docx
GaN基器件肖特基接触的新结构和新材料的研究的中期报告该报告旨在介绍GaN基器件肖特基接触的新结构和新材料的研究情况。1.研究背景GaN材料因具有较高的载流能力、热稳定性和较高的频率响应能力而在射频电子器件、功率电子器件和光电子器件等方面得到了广泛应用。而肖特基接触则是在GaN材料上制作高性能电极的一种重要方法。然而,传统的AlGaN/GaN肖特基接触存在一些问题,如低质量因子、导致漏电流等。为了解决这些问题,新的肖特基接触结构和材料被提出并研究。2.新结构(1)基于金属/半金属混合接触的结构通过在金属/
GaSb基肖特基型器件制备及性质研究的中期报告.docx
GaSb基肖特基型器件制备及性质研究的中期报告本次中期报告主要介绍了GaSb基肖特基型器件的制备过程及其性质研究的进展情况。一、制备过程1.GaSb衬底制备采用MBE生长技术,在GaSb衬底上生长GaSb外延层。在室温下,使用NH4OH溶液清洗硅衬底,使其表面变成亲水性,并去除氧化物。接着,用异丙醇-三甲胺-水的混合液洗涤硅衬底,去除其表面的杂质。放到真空箱中,使其真空度达到10^-6torr。加热至700℃,放入坩埚中的GaSb小颗粒,将挥发的GaK源输送到衬底上,田厚度为500nm左右。在GaSb衬底
GaN MOSFET器件的研究的中期报告.docx
GaNMOSFET器件的研究的中期报告以下是GaNMOSFET器件的中期研究报告:1.研究背景GaNMOSFET器件是当前半导体领域的研究热点之一,其具有高速、低损耗、高温度稳定性等优点,逐渐成为SiMOSFET器件的替代品。本研究旨在探究GaNMOSFET器件的基本性能,深入研究其特性,进一步优化其性能,提高其应用领域和市场竞争力。2.研究内容和进展本研究以GaNMOSFET器件为研究对象,主要研究内容包括器件制备、特性测试和性能优化。2.1器件制备采用MOCVD方法在GaN基板上生长GaN的epita