基板清洗方法与清洗设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108620371A(43)申请公布日2018.10.09(21)申请号201710418550.9(22)申请日2017.06.06(30)优先权数据1061089672017.03.17TW(71)申请人亚智科技股份有限公司地址中国台湾桃园县中坜市自强三路三号(72)发明人黄建凯丁启民(74)专利代理机构北京汇泽知识产权代理有限公司11228代理人张秋越(51)Int.Cl.B08B3/02(2006.01)B08B13/00(2006.01)H01L21/67(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图11页(54)发明名称基板清洗方法与清洗设备(57)摘要本发明公开了一种清洗设备，包括第一腔室、移动元件、滚轮组、承接元件及喷管元件。移动元件位于第一腔室内。滚轮组容置于第一腔室，承接元件位于第一腔室内，承接元件用以承接移动元件所传送的基板。喷管元件位于第一腔室内，且喷管元件位于承接元件之下，喷管元件用以朝承接元件的镂空部内的基板的下表面喷洒液体。此外，一种基板清洗方法亦被提出。CN108620371ACN108620371A权利要求书1/2页1.一种基板清洗方法，该基板清洗方法适用于一清洗设备，其特征在于，该清洗设备包含一滚轮组、至少一喷管元件、至少一移动元件以及一承接元件，该滚轮组于一输送位置上输送一基板，该输送位置为该滚轮组位于该移动元件的一移动行程的一第一位置上，该移出位置为该滚轮组离开该移动行程，该移动元件沿该移动行程将该基板于该第一位置、一第二位置及一第三位置之间移动，该第二位置高于该第一位置，该第三位置低于该第一位置，该承接元件设于该第三位置，且该承接元件具有一镂空部，该基板清洗方法包括以下步骤：借由该移动元件将该基板沿着该移动行程由该第一位置上移至该第二位置；该滚轮组由该输送位置移动至该移出位置；借由该移动元件将该基板沿着该移动行程由该第二位置下移至该第三位置中的该承接元件；以及该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板的一下表面喷洒液体。2.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于，进行该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板该下表面喷洒液体的步骤后，还包括以下步骤：借由该移动元件将该基板沿该移动行程由该第三位置上移至该第二位置；该滚轮组由该移出位置移动至该输送位置；以及借由该移动元件将该基板沿该移动行程由该第二位置下移至该第一位置，使该基板位于该滚轮组上。3.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于，进行该滚轮组由该输送位置移动至该移出位置的步骤后，还包括以下步骤：清洗该滚轮组。4.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于，进行该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板的该下表面喷洒液体的步骤之前，还包括以下步骤：一盖体遮盖该基板的一上表面。5.如权利要求4所述的基板清洗方法，其特征在于，进行该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板的该下表面喷洒液体的步骤后，还包括以下步骤：该盖体脱离该基板的该上表面。6.如权利要求4所述的基板清洗方法，其特征在于，进行该盖体遮盖该基板的该上表面的步骤后，还包括以下步骤：于该盖体内朝该基板的该上表面提供一气流。7.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于，进行借由该移动元件将该基板沿着该移动行程由该第一位置上移至该第二位置之前，还包括以下步骤：借由该滚轮组将该基板移动至该第一位置。8.一种清洗设备，其特征在于，包括：一第一腔室；一移动元件，位于该第一腔室内，该移动元件沿一移动行程将该基板于一第一位置、一第二位置及一第三位置之间移动，其中该第二位置高于该第一位置，该第三位置低于该第一位置；一滚轮组，容置于该第一腔室，该滚轮组具有一输送位置及一移出位置，该输送位置为2CN108620371A权利要求书2/2页该滚轮组位于该移动行程的该第一位置上，该移出位置为该滚轮组离开该移动行程；一承接元件，位于该第一腔室内，且该承接元件设于该第三位置，该承接元件具有一镂空部，该承接元件用以承接该移动元件所传送的该基板；以及至少一喷管元件，位于该第一腔室内，且该至少一喷管元件位于该承接元件之下，该喷管元件用以朝该承接元件的该镂空部内的该基板的一下表面喷洒液体。9.如权利要求8所述的清洗设备，其特征在于，还包括：一清洗元件，位于该第一腔室内，该清洗元件用以清洗该滚轮组。10.如权利要求8所述的清洗设备，其特征在于，还包括：一盖体，位于该第一腔室内，该盖体用以遮盖该基板的一上表面。11.如权利要求10所述的清洗设备，其特征在于，还包括：一气流元件，位于该盖体内，该气流元件于该盖体内朝该基板的该上表面提供一气流。12.如权利要求8所述的清洗设备，其特征在于，还包括：一第二腔室，承接并清洗来自该第一腔室所输