膜层厚度测量方法及膜层厚度测量装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108981624A(43)申请公布日2018.12.11(21)申请号201810634417.1(22)申请日2018.06.20(71)申请人长江存储科技有限责任公司地址430074湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室(72)发明人刘公才(74)专利代理机构上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)31294代理人董琳陈丽丽(51)Int.Cl.G01B15/02(2006.01)G06T7/00(2017.01)G06T7/13(2017.01)G06T7/62(2017.01)权利要求书3页说明书9页附图2页(54)发明名称膜层厚度测量方法及膜层厚度测量装置(57)摘要本发明提供了一种膜层厚度测量方法及膜层厚度测量装置。膜层厚度测量方法包括如下步骤：提供一图像，图像为两个以上同轴嵌套的膜层的截面图；选择一待测量膜层的膜层截面，待测量膜层的膜层截面包括相对的第一边界和第二边界；采用第一边缘检测算法获取第一边界的第一轮廓；采用第二边缘检测算法获取第二边界的第二轮廓；计算第一轮廓中的多个像素点到第二轮廓的垂直距离，得到第一膜层的厚度。本发明简化了膜层厚度的测量步骤，节省了人力成本，提高了膜层厚度测量的精准度和可靠性。CN108981624ACN108981624A权利要求书1/3页1.一种膜层厚度测量方法，其特征在于，包括如下步骤：提供一图像，所述图像为两个以上同轴嵌套的膜层的截面图，所述截面图显示有按序排列的若干膜层截面；选择一待测量膜层的膜层截面，所述待测量膜层的膜层截面包括相对的第一边界和第二边界；采用第一边缘检测算法获取所述第一边界的第一轮廓，所述第一边缘检测算法根据待测量膜层的物理性质、位于所述待测量膜层内侧的膜层的物理性质设置；采用第二边缘检测算法获取所述第二边界的第二轮廓，所述第二边缘检测算法根据待测量膜层的物理性质、位于所述待测量膜层外侧的膜层的物理性质设置；计算所述第一轮廓中的多个像素点到所述第二轮廓的垂直距离，得到所述待测量膜层的厚度。2.根据权利要求1所述的膜层厚度测量方法，其特征在于，采用第一边缘检测算法获取所述第一边界的第一轮廓的具体步骤包括：获取所述第一边界的第一骨架线；采用第一边缘检测算法检测所述第一边界的边缘，形成多个离散的第一区域；获取若干个所述第一区域与所述第一骨架线之间的距离；连通所述距离小于第一预设值的多个第一区域，构成所述第一轮廓。3.根据权利要求2所述的膜层厚度测量方法，其特征在于，还包括如下步骤：获取若干个所述第一区域与所述第一骨架线之间的距离以及若干个所述第一区域相互之间的形貌特征相似度；连通距离小于第一预设值且形貌特征相似度大于第二预设值的多个第一区域，构成所述第一轮廓。4.根据权利要求2所述的膜层厚度测量方法，其特征在于，连通所述距离小于第一预设值的多个第一区域，构成所述第一轮廓的具体步骤包括：连通所述距离小于第一预设值的多个第一区域，得到多个轮廓区域；计算每一轮廓区域的长度，并以长度最大的轮廓区域作为所述第一轮廓。5.根据权利要求1所述的膜层厚度测量方法，其特征在于，计算所述第一轮廓中的多个像素点到所述第二轮廓的垂直距离的具体步骤包括：获取所述第一轮廓中多个亚像素点的位置信息；计算所述第一轮廓中的多个亚像素点到所述第二轮廓的垂直距离。6.根据权利要求5所述的膜层厚度测量方法，其特征在于，获取的所述第一轮廓中亚像素点的数量在1500个以上。7.根据权利要求1所述的膜层厚度测量方法，其特征在于，所述图像还包括位于所述待测量膜层外侧的第一膜层的膜层截面，所述第一膜层的膜层截面包括与所述第二边界接触的第三边界以及与所述第三边界相对的第四边界；采用第三边缘检测算法获取所述第四边界的第三轮廓，所述第三边缘检测算法根据第一膜层的物理性质、位于所述第一膜层外侧的膜层的物理性质设置；计算所述第二轮廓中的多个像素点到所述第三轮廓的垂直距离，得到所述第一膜层的厚度。2CN108981624A权利要求书2/3页8.根据权利要求7所述的膜层厚度测量方法，其特征在于，所述图像为3DNAND存储器中的NAND串的横截面图像，包括由内至外同轴嵌套的沟道层、隧道层、电荷捕获层和阻挡层的横截面；所述待测量膜层、所述第一膜层为所述沟道层、所述隧道层、所述电荷捕获层、所述阻挡层中的任意相邻的两个膜层。9.根据权利要求8所述的膜层厚度测量方法，其特征在于，所述第一边缘检测算法、所述第二边缘检测算法和所述第三边缘检测算法均为Lanser边缘检测算法、Deriche边缘检测算法以及Canny边缘检测算法中的一种或几种。10.一种膜层厚度测量装置，其特征在于，包括：选择模块，用于从一图像中选择一待测量膜层的膜层截面