基板背面研磨构件的修整装置和修整方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109382707A(43)申请公布日2019.02.26(21)申请号201810908505.6(22)申请日2018.08.10(30)优先权数据2017-1557212017.08.10JP2018-0950952018.05.17JP(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本东京都(72)发明人冈本芳树滝口靖史久保明广保坂隼斗小篠龙人(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277代理人刘新宇张会华(51)Int.Cl.B24B1/00(2006.01)B24B55/00(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图13页(54)发明名称基板背面研磨构件的修整装置和修整方法(57)摘要本发明涉及基板背面研磨构件的修整装置和修整方法。在对用于对基板的背面进行研磨的研磨构件进行清洗、修整时，不使清洗液、残渣向周围飞散。修整装置(200)具有槽构件(203)，该槽构件(203)能够从上方收容研磨垫(131)，并具有顶板部(201)和设置到顶板部(201)的下表面侧的筒状的裙部(202)。在槽构件(203)设置有：二流体喷嘴(204)，其向研磨垫的研磨面喷出清洗液和气体；修整板(205)，其可与研磨垫(131)的研磨面抵接；以及冲洗喷嘴(206)，其向研磨垫(131)的研磨面与修整板(205)之间的接触面供给冲洗液。由于裙部202，清洗液、砂轮碎屑、或者残渣不向周围飞散。CN109382707ACN109382707A权利要求书1/2页1.一种基板背面研磨构件的修整装置，其用于进行对基板的背面进行研磨的研磨构件的修整，其特征在于，该基板背面研磨构件的修整装置具有：槽构件，其能够从上方收容所述研磨构件，该槽构件具有顶板部和设置到该顶板部的下表面侧的筒状的裙部；喷嘴，其设置于所述槽构件，该喷嘴向所收容的所述研磨构件的研磨面喷出清洗液和气体；以及修整构件，其设置于所述槽构件，该修整构件能够与所收容的所述研磨构件的研磨面抵接，该基板背面研磨构件的修整装置设置于在俯视时不与作为研磨对象的所述基板重叠的位置。2.根据权利要求1所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，该基板背面研磨构件的修整装置具有用于向所述研磨构件的研磨面供给冲洗液的喷嘴。3.根据权利要求1或2所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，设置为所述裙部的下端部位于比作为所述研磨对象的基板的表面靠下方的位置。4.根据权利要求1或2所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，所述修整构件具有所述研磨构件的研磨面侧呈平坦形状、且覆盖所述研磨构件的一半以上的形状。5.根据权利要求1或2所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，所述修整构件能够旋转。6.根据权利要求1或2所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，所述修整构件的外形呈圆柱形状，以所述修整构件的周面能够与所述研磨构件的研磨面抵接的方式配置，所述修整构件追随所述研磨构件的旋转而旋转。7.根据权利要求6所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，所述修整构件具有一端部的直径和另一端部的直径不同的锥形状。8.根据权利要求6所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，所述修整构件以设定到除了长度方向上的端部以外的支点为中心摆动自如。9.根据权利要求1或2所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，所述修整构件借助弹性构件设置于所述槽构件。10.根据权利要求1或2所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，所述修整构件借助万向接头设置于所述槽构件。11.根据权利要求1或2所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，所述清洗液被加热。12.根据权利要求1或2所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，该基板背面研磨构件的修整装置具有用于监视所述研磨构件的研磨面的拍摄装置。13.根据权利要求1或2所述的基板背面研磨构件的修整装置，其特征在于，该基板背面研磨构件的修整装置具有对所述研磨构件的研磨面的表面状态进行监视的激光位移计。2CN109382707A权利要求书2/2页14.一种基板背面研磨构件的修整方法，其进行对基板的背面进行研磨的研磨构件的修整，其特征在于，使用槽构件，在俯视时不与作为研磨对象的所述基板重叠的位置，在所述槽构件的内侧，一边使所述研磨构件旋转一边向所述研磨构件的研磨面供给清洗液来进行清洗，一边使所述研磨构件旋转一边使设置到所述槽构件的修整构件与研磨构件的研磨面抵接来进行修整，该槽构件能够从上方收容所述研磨构件，并具有顶板部和设置到该顶板部的下表面侧的筒状的裙部。15.根据权利要求14所述的基板背面研磨构件的修整方法，其特征在于，在所述槽构件的内侧，调节基板的背面研磨之际的、所述研磨构