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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109454548A(43)申请公布日2019.03.12(21)申请号201811032707.5(22)申请日2018.09.05(30)优先权数据2017-1708532017.09.06JP(71)申请人创技股份有限公司地址日本神奈川县(72)发明人田中敬杉山将贵(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司72001代理人李婷刘林华(51)Int.Cl.B24B37/28(2012.01)B24B57/02(2006.01)权利要求书1页说明书8页附图6页(54)发明名称两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮(57)摘要本发明提供一种被研磨物保持用游星轮,该被研磨物保持用游星轮是两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮,用于获得具有精密的上下面粗糙度、并且具有优良的平行度、优良的平坦度的被研磨物。利用下述两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮解决问题,该被研磨物保持用游星轮具有一个或者一个以上用于保持被研磨物的保持孔,其特征在于,在比假想同心圆靠内侧的游星轮基材上穿孔多个小孔,并且在比前述假想同心圆靠外侧的游星轮基材上穿孔多个具有比前述小孔大的直径的小孔,该假想同心圆与用于保持被研磨物的保持孔具有相同的中心,并且以具有比该保持孔的半径大的半径的方式描绘。CN109454548ACN109454548A权利要求书1/1页1.一种两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮,该被研磨物保持用游星轮具有一个或者一个以上用于保持被研磨物的保持孔,所述被研磨物保持用游星轮的特征在于,在比假想同心圆靠内侧的游星轮基材上穿孔多个小孔,并且在比前述假想同心圆靠外侧的游星轮基材上穿孔多个具有比前述小孔大的直径的小孔,前述假想同心圆具有与前述保持孔相同的中心,并且该假想同心圆以具有比前述保持孔的半径大的半径的方式描绘。2.如权利要求1所述的两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮,其特征在于,前述被研磨物的半径与前述假想同心圆的半径之间的差为前述保持孔的半径以下。3.如权利要求1或2所述的两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮,其特征在于,在比前述假想同心圆靠内侧的游星轮基材上穿孔的多个小孔的直径是被研磨物的半径的3%以上且15%以下。4.如权利要求1或2所述的两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮,其特征在于,在比前述假想同心圆靠外侧的游星轮基材上穿孔的多个小孔的直径是被研磨物的半径的6%以上且30%以下。5.如权利要求1或2所述的两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮,其特征在于,在比前述假想同心圆靠内侧的游星轮基材上穿孔的小孔与相邻的小孔之间的间隔是前述小孔的直径以下。6.如权利要求1或2所述的两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮,其特征在于,在比前述假想同心圆靠外侧的游星轮基材上穿孔的小孔与相邻的小孔之间的间隔是前述小孔的直径以下。2CN109454548A说明书1/8页两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮技术领域[0001]本发明涉及一种被研磨物保持用游星轮,该被研磨物保持用游星轮用于两面研磨装置,该两面研磨装置一边将被研磨物夹持并压接在粘贴了研磨布的上下定盘之间,一边使该上下定盘以及该被研磨物中的至少一个旋转从而同时研磨加工该被研磨物的两面,其中,该被研磨物保持用游星轮在被研磨物保持孔的周围设置有研磨剂通过用的小孔。背景技术[0002]在由硅晶圆、化合物半导体晶圆、铝制磁性硬盘基板、玻璃制磁性硬盘基板或者光罩用玻璃、水晶震荡子、陶瓷等构成的被研磨物的两面研磨加工中,被研磨物被保持于被研磨物保持用游星轮的保持孔中,该被研磨物保持用游星轮具有与被研磨物的形状对应的保持孔并且以在其外周缘部具有与两面研磨装置的内齿轮和太阳齿轮啮合的外周齿的方式成型,被研磨物借助内齿轮和太阳齿轮的旋转以进行行星运动的方式旋转,与此同时通过旋转驱动上下定盘,同时研磨加工被研磨物的上下两面。该被研磨物保持用游星轮被用作下述研磨装置的部件,该研磨装置的部件用于对被研磨物两面同时地进行研磨加工、镜面研磨加工。[0003]以往被研磨物保持用游星轮通常按照以下方法进行制造:使用铁或者不锈钢等金属材料、纤维强化树脂(FRP)等作为材料,将被研磨物保持用游星轮加工成具有能够保持被研磨物的大小的保持孔,进而将其外周加工成具有与内齿轮以及太阳齿轮的齿轮形状啮合的外周齿。[0004]在上述的研磨加工中,在研磨加工中研磨液从形成于上定盘的研磨液供给孔供给至加工部,从保持孔的间隙也进入到下定盘侧,从而同时对被研磨物的上下两面进行研磨加工。然而,在使用在被研磨物保持用游星轮上穿孔的孔仅为被研磨物保持孔那样的被研磨物保持用游星轮的情况下,成为被研磨物保持用游星轮以及被研磨物覆盖下定盘的几乎整面的方式,因此研磨液向下定盘侧的绕入