一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109473269A(43)申请公布日2019.03.15(21)申请号201811199218.9(22)申请日2018.10.15(71)申请人珠海市格润新纳电子有限公司地址519000广东省珠海市香洲区南屏科技工业园屏东一路8号(72)发明人张伟三白明(74)专利代理机构广州嘉权专利商标事务所有限公司44205代理人俞梁清(51)Int.Cl.H01F41/02(2006.01)权利要求书1页说明书2页(54)发明名称一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法(57)摘要本发明公开了本发明的一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，包括以下步骤：步骤1、制备磁芯基体；步骤2、预固化：将磁芯基体进行初次浸胶固化处理，形成固化磁芯；步骤3、抽真空固化：将固化磁芯完全浸入硬固化胶水中，进行真空含浸，将含浸后的固化磁芯进行烘烤，形成二次固化磁芯；步骤4、切割：使用砂轮机对二次固化磁芯进行切割，得到切割面为镜面的磁芯。先将磁芯基体进行初次浸胶固化，使磁芯基体成型，再使用硬固化胶水对固化磁芯进行抽真空浸泡，之后进行烘烤，形成二次固化，这样后续切割时，切割面不易崩坏，且没有叠层痕迹，切割面达到镜面效果，提高了磁芯的使用性能，缩短加工工时，提高成品率，减少报废，降低成本。CN109473269ACN109473269A权利要求书1/1页1.一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1、制备磁芯基体：将纳米晶/非晶带材进行卷绕，并经退火处理形成磁芯基体；步骤2、预固化：将磁芯基体进行初次浸胶固化处理，形成固化磁芯；步骤3、抽真空固化：将固化磁芯完全浸入硬固化胶水中，进行真空含浸，将含浸后的固化磁芯进行烘烤，形成二次固化磁芯；步骤4、切割：使用砂轮机对二次固化磁芯进行切割，得到切割面为镜面的磁芯。2.根据权利要求1所述的一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，其特征在于：步骤2的具体步骤为：步骤2.1、将磁芯基体完全浸入含有环氧树脂、固化剂和稀释剂的胶水中，静置30分钟以上；步骤2.2、将浸过胶水的磁芯基体取出并置于烤箱中，烘烤温度控制在120±5℃，保温时间4小时以上。3.根据权利要求2所述的一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，其特征在于：步骤2.1中使用的胶水中环氧树脂、固化剂、稀释剂的比例为1：1：15至1:1:100。4.根据权利要求1所述的一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，其特征在于：步骤3的具体步骤为：步骤3.1、将固化磁芯和硬固化胶水放入容器中，硬固化胶水淹没固化磁芯的所有部分；步骤3.2、将容器放入真空机中进行抽真空处理，抽真空次数为4次以上，每次的抽真空总时长设置为45分钟以上，抽真空总时间包含抽真空时间和保压时间，每次的抽真空时间设置为1分钟；步骤3.3、将含浸后的固化磁芯取出并置于烤箱中，烘烤温度控制在170±5℃，保温时间240分钟以上。5.根据权利要求4所述的一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，其特征在于：步骤3.3中，将固化磁芯置于烤箱之前，对固化磁芯表面的硬固化胶水进行擦拭。2CN109473269A说明书1/2页一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法技术领域[0001]本发明涉及纳米晶/非晶磁芯制造技术领域，尤其涉及一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法。背景技术[0002]目前纳米晶/非晶磁芯镜面切割通常有两种方法：第一种是使用砂轮机直接将磁芯切割，再对切割面进行抛光、打磨，将磁芯切割面加工成为镜面，该方法因工序较多存在磁芯加工成本较高的问题；另一种是对磁芯灌胶烘烤使磁芯固化后使用砂轮机进行切割，该方法切割出的磁芯切割面会出现磁芯叠层痕迹，无法达到镜面要求，叠层痕迹非常影响磁芯的性能，甚至导致报废，因此报废率较高，加工成本较高。发明内容[0003]为了克服上述现有技术的不足，本发明提供了一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，用此方法加工出来的磁芯的切割面为镜面，可提高成品率，降低成本。[0004]本发明解决其技术问题所采用的技术方案为：[0005]一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，包括以下步骤：[0006]步骤1、制备磁芯基体：将纳米晶/非晶带材进行卷绕，并经退火处理形成磁芯基体；[0007]步骤2、预固化：将磁芯基体进行初次浸胶固化处理，形成固化磁芯；[0008]步骤3、抽真空固化：将固化磁芯完全浸入硬固化胶水中，进行真空含浸，将含浸后的固化磁芯进行烘烤，形成二次固化磁芯；[0009]步骤4、切割：使用砂轮机对二次固化磁芯进行切割，得到切割面为镜面的磁芯。[0010]作为上述技术方案的改进，步骤2的具体步骤为：[0011]步骤2.1、将磁芯基体完全浸入含有环氧树脂、固化剂和稀释剂的胶水中，静置30分钟以上；[0012]步骤2.2、将浸过胶水的磁芯基体