磁控溅射系统的旋转阴极.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103917690103917690A(43)申请公布日2014.07.09(21)申请号201280038420.8(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公(22)申请日2012.08.01司72001代理人李涛杨炯(30)优先权数据61/5150942011.08.04US(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2014.01.30(86)PCT国际申请的申请数据PCT/US2012/0491382012.08.01(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/019846EN2013.02.07(71)申请人零件喷涂公司地址美国明尼苏达州(72)发明人D.T.克劳利M.L.尼尔权权利要求书2页利要求书2页说明书6页说明书6页附图12页附图12页(54)发明名称磁控溅射系统的旋转阴极(57)摘要本发明提供一种磁控溅射装置，其包括阴极源总成，和可拆除地耦接到所述阴极源总成的阴极靶材总成。所述阴极源总成包括可旋转驱动杆，和位于所述可旋转驱动杆中且在所述阴极源总成的外端处耦接到管支持物的供水管。所述阴极靶材总成包括旋转阴极，其包括可旋转靶材圆柱体，所述旋转阴极可拆除地安装到可旋转驱动杆。所述靶材圆柱体内侧的磁棒耦接到所述供水管的末端部分。扫掠机构被耦接到所述磁棒且包括控制马达。分度滑轮可操作地耦接到所述控制马达，且磁棒滑轮通过皮带耦接到所述分度滑轮。所述磁棒滑轮被贴附到所述管支持物，以使所述磁棒滑轮的任何运动通过所述管支持物和所述供水管转移到所述磁棒。所述扫掠机构在溅射期间将独立于目标圆柱体旋转的预定运动赋予所述磁棒。CN103917690ACN103976ACN103917690A权利要求书1/2页1.一种磁控溅射装置，包括：阴极源总成，其包括：可旋转驱动杆；和供水管，其位于所述可旋转驱动杆中且在所述阴极源总成的外端处耦接到管支持物；阴极靶材总成，其可拆除地耦接到所述阴极源总成，所述阴极靶材总成包括：旋转阴极，其包括可旋转靶材圆柱体，所述旋转阴极可拆除地安装到所述可旋转驱动杆；和磁棒，其在所述靶材圆柱体内侧且耦接到所述供水管的末端部分；扫掠机构，其可操作地耦接到所述磁棒，所述扫掠机构包括：控制马达；分度滑轮，其可操作地耦接到所述控制马达；和磁棒滑轮，其通过皮带可操作地耦接到所述分度滑轮，所述磁棒滑轮贴附到所述管支持物以使所述磁棒滑轮的任何运动通过所述管支持物和所述供水管转移到所述磁棒；其中所述扫掠机构在溅射期间将独立于靶材圆柱体旋转的预定运动赋予所述磁棒。2.根据权利要求1所述的磁控溅射装置，其中所述控制马达被构造成产生不同的抖动模式用于移动所述磁棒。3.根据权利要求1所述的磁控溅射装置，其中所述控制马达包括步进马达或伺服马达。4.根据权利要求1所述的磁控溅射装置，其中所述控制马达利用马达安装座被附接到所述阴极源总成。5.根据权利要求1所述的磁控溅射装置，其中所述磁棒滑轮被附接到所述阴极源总成上的分度轴承外壳。6.根据权利要求1所述的磁控溅射装置，其中所述阴极靶材总成当安装在真空腔中时具有大体垂直定向。7.根据权利要求1所述的磁控溅射装置，其中所述阴极靶材总成当安装在真空腔中时具有大体水平定向。8.一种磁控溅射系统，其包括：真空涂覆腔；多个磁控溅射装置，每个所述磁控溅射装置包括：阴极源总成，其被安装到所述真空涂覆腔的壁且包括：可旋转驱动杆；和供水管，其位于所述可旋转驱动杆中且在所述阴极源总成的外端处耦接到管支持物；阴极靶材总成，其可拆除地耦接到所述阴极源总成且安置在所述真空涂覆腔中，所述阴极靶材总成包括：旋转阴极，其包括可旋转靶材圆柱体，所述旋转阴极可拆除地安装到所述可旋转驱动杆；和磁棒，其在所述靶材圆柱体内侧且耦接到所述供水管的末端部分；和扫掠机构，其可操作地耦接到所述磁棒，所述扫掠机构包括：控制马达；2CN103917690A权利要求书2/2页分度滑轮，其可操作地耦接到所述控制马达；和磁棒滑轮，其通过皮带可操作地耦接到所述分度滑轮，所述磁棒滑轮贴附到所述管支持物以使所述磁棒滑轮的任何运动通过所述管支持物和所述供水管转移到所述磁棒；其中所述磁棒扫掠机构在溅射期间将独立于靶材圆柱体旋转的预定运动赋予所述磁棒；其中所述旋转阴极被布置成大体相互平行且大体规则间隔，所述旋转阴极被安置在大体平行于将在所述真空腔中涂覆的基片的平面上。9.根据权利要求8所述的磁控溅射系统，其中所述控制马达被构造成产生不同的抖动模式用于移动所述磁棒。10.根据权利要求8所述的磁控溅射系统，其中所述控制马达包括步进马达或伺服马达。11.根据权利要求8所述的磁控溅射系统，其中所述控制马达利用马达安装座被