一种巨量转移装置及巨量转移方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110323162A(43)申请公布日2019.10.11(21)申请号201910379862.2(22)申请日2019.05.08(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人闫俊伟李丽高浩然(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司11243代理人许静刘伟(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)H01L21/78(2006.01)H01L27/15(2006.01)H01L33/48(2010.01)权利要求书3页说明书16页附图3页(54)发明名称一种巨量转移装置及巨量转移方法(57)摘要本发明提供一种巨量转移装置及巨量转移方法，该装置包括：第一承载台；承载目标基板的第二承载台，与第一承载台相对且平行设置；设置于第一承载台和第二承载台之间的辊轮，辊轮的转动轴与第一承载台的承载面平行设置，辊轮的外周面上、沿周向间隔设置有多组拾取单元，每组拾取单元包括沿辊轮的轴向间隔排列的多个拾取点，同组拾取单元中相邻两个拾取点在所述辊轮的轴向方向上的间距大于第一承载台上微元件之间的间距；第一承载台相对辊轮在第一方向上平移，第一方向为辊轮的外周面与第一承载面接触点处辊轮的旋转切线方向；第二承载台相对辊轮在第一方向相反的方向平移。本发明提高微元件巨量转移工作效率、转移对位精度高及产品良率。CN110323162ACN110323162A权利要求书1/3页1.一种巨量转移装置，其特征在于，包括：用于承载微元件晶片的第一承载台；用于承载待安装微元件的目标基板的第二承载台，所述第一承载台的承载面和所述第二承载台的承载面相对且平行设置；设置于所述第一承载台和所述第二承载台之间的辊轮，所述辊轮的转动轴与所述第一承载台的承载面平行设置，且所述辊轮的外周面上、沿周向依次间隔设置有多组拾取单元，每组所述拾取单元包括沿所述辊轮的轴向依次间隔排列的多个拾取点，同组所述拾取单元中相邻两个所述拾取点在所述辊轮的轴向方向上的间距大于所述第一承载台上的微元件之间的间距；其中，所述第一承载台相对所述辊轮在第一方向上平移，所述第一方向为所述辊轮的外周面与所述第一承载面接触点处所述辊轮的旋转切线方向；所述第二承载台相对所述辊轮在所述第一方向相反的方向上平移。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述辊轮相对所述第一承载台在第二方向上平移，所述第二方向与所述辊轮的轴向平行。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第二承载台相对所述辊轮在第三方向上进行升降，所述第三方向垂直于所述第二承载台的承载面。4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述拾取点包括设置于所述辊轮的外周面上的粘附结构，所述粘附结构的粘附力大于所述微元件晶片与所述微元件之间的键合力，以使所述粘附结构接触所述微元件时，从所述微元件晶片上拾取下所述微元件。5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，每组所述拾取单元包括粘贴于所述辊轮的外周面上的粘胶条；其中，所述粘胶条沿所述辊轮的轴向设置，在所述粘胶条上间隔分布有粘接区域和非粘接区域，所述粘接区域形成所述粘接结构。6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：用于对所述第一承载台上的所述微元件晶片进行预处理，以使与各所述拾取点位置对应的微元件与所述微元件晶片进行预分离的第一预处理机构，所述第一预处理机构包括：用于激光照射所述微元件晶片与所述微元件之间的固定材料，以使所述微元件晶片与所述第一承载台分离的第一激光发射器，所述第一激光发射器所发射的激光出射至所述第一承载台；和/或，用于将所述粘胶条上、与各所述拾取点对应位置处的粘接区域在与所述微元件晶片接触前进行预处理，以使所述粘胶条上与各所述拾取点对应位置处的粘接区域的粘附力增大的第二预处理机构，所述第一预处理机构包括：第二激光发射器，所述第二激光发射器所发射的激光出射至所述辊轮的外周面上；用于将所述拾取点上所拾取的微元件在转移至所述目标基板上之前，与所述辊轮预分离的第三预处理机构，所述第三预处理机构包括：第三激光发射器，所述第三激光发射器所发射的激光出射至所述辊轮的外周面上；2CN110323162A权利要求书2/3页以及，用于将所述目标基板在与所述拾取点上的微元件接触之前进行预处理，以使得所述目标基板与所述微元件之间的粘附力增大的第四预处理机构，所述第四预处理机构包括：第四激光发射器，所述第四激光发射器的激光出射至所述第二承载台的承载面上。7.根据权利要求1至6任一项所述的装置，其特征在于，还包括：键合机构，设置于所述第二承载台一侧，用于当各组所述拾取单元上所拾取的微元件与所述第二承载台上的目标基板接触时，将所述微元件与所述目标基板进行键合。8.