蒸镀掩模.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110551973A(43)申请公布日2019.12.10(21)申请号201910940065.7H01L51/50(2006.01)(22)申请日2016.02.05H05B33/10(2006.01)(30)优先权数据2015-0246262015.02.10JP(62)分案原申请数据201680009233.52016.02.05(71)申请人大日本印刷株式会社地址日本东京都(72)发明人池永知加雄(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127代理人庞东成张志楠(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C25D1/08(2006.01)权利要求书1页说明书17页附图15页(54)发明名称蒸镀掩模(57)摘要本发明涉及蒸镀掩模。该蒸镀掩模是形成了从第1面延伸到第2面的2个以上的贯通孔的蒸镀掩模，其中，该蒸镀掩模具备以特定图案形成了上述贯通孔的金属层，在将上述贯通孔中位于上述第1面上的部分称为第1开口部、将上述贯通孔中位于上述第2面上的部分称为第2开口部的情况下，在沿着上述蒸镀掩模的法线方向观察上述蒸镀掩模时，上述贯通孔按照上述第2开口部的轮廓包围上述第1开口部的轮廓的方式来构成，上述金属层具有形成了上述第1开口部的第1金属层、以及层积于上述第1金属层且形成了上述第2开口部的第2金属层，上述第1金属层的端部的厚度小于上述第1金属层中与上述第2金属层连接的部分的厚度。CN110551973ACN110551973A权利要求书1/1页1.一种蒸镀掩模，其是形成了从第1面延伸到第2面的2个以上的贯通孔的蒸镀掩模，其中，该蒸镀掩模具备以特定图案形成了上述贯通孔的金属层，在将上述贯通孔中位于上述第1面上的部分称为第1开口部、将上述贯通孔中位于上述第2面上的部分称为第2开口部的情况下，在沿着上述蒸镀掩模的法线方向观察上述蒸镀掩模时，上述贯通孔按照上述第2开口部的轮廓包围上述第1开口部的轮廓的方式来构成，上述金属层具有形成了上述第1开口部的第1金属层、以及层积于上述第1金属层且形成了上述第2开口部的第2金属层，上述第1金属层的端部的厚度小于上述第1金属层中与上述第2金属层连接的部分的厚度。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其中，上述第1金属层的厚度从上述第1金属层中与上述第2金属层连接的部分朝向上述第1金属层的上述端部单调递减。3.如权利要求1或2所述的蒸镀掩模，其中，上述第1金属层向壁面的切面与上述蒸镀掩模的法线方向在上述第1金属层的上述端部所成的角度为30°以上。4.如权利要求1～3中任一项所述的蒸镀掩模，其中，上述第1金属层中与上述第2金属层连接的部分的厚度为5μm以下。5.如权利要求1～4中任一项所述的蒸镀掩模，其中，上述第2金属层的厚度为3～25μm的范围内。6.如权利要求1～5任一项所述的蒸镀掩模，其中，上述金属层为镀覆层。7.一种蒸镀掩模，其是形成了从第1面延伸到第2面的2个以上的贯通孔的蒸镀掩模，其中，该蒸镀掩模具备以特定图案形成了上述贯通孔的金属层，在将上述贯通孔中位于上述第1面上的部分称为第1开口部、将上述贯通孔中位于上述第2面上的部分称为第2开口部的情况下，在沿着上述蒸镀掩模的法线方向观察上述蒸镀掩模时，上述贯通孔按照上述第2开口部的轮廓包围上述第1开口部的轮廓的方式来构成，上述金属层包含含有38～54质量％的镍的铁合金。8.如权利要求7所述的蒸镀掩模，其中，上述金属层具有形成了上述第1开口部的第1金属层、以及层积于上述第1金属层且形成了上述第2开口部的第2金属层。2CN110551973A说明书1/17页蒸镀掩模[0001]本申请是分案申请，其原申请的国际申请号为PCT/JP2016/053581，中国国家申请号为201680009233.5，申请日为2016年2月5日，发明名称为“蒸镀掩模的制造方法和蒸镀掩模”。【技术领域】[0002]本发明涉及利用镀覆处理来制造形成有2个以上的贯通孔的蒸镀掩模的方法。本发明还涉及蒸镀掩模。【背景技术】[0003]近年来，对于智能手机、平板电脑等可携带器件中使用的显示装置，要求高精细、例如像素密度为400ppi以上。另外，可携带器件中，对应于超全高清上的需求也正在提高，这种情况下，显示装置的像素密度要求为例如800ppi以上。[0004]有机EL显示装置由于响应性的良好性、低耗电、高对比度的原因而受到瞩目。作为有机EL显示装置的像素形成方法，已知有使用包含以所期望的图案排列的贯通孔的蒸镀掩模，以所期望的图案形成像素的方法。具体地说，首先，使蒸镀掩模与有机EL显示装置用的基板密合，接着，将密合的蒸镀掩模和基板一同投入到蒸镀装置中，进行有机材料等的蒸镀。这种情况下，为了精密地制作