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一种用于轮毂的真空磁控溅射离子镀膜工艺.pdf
2023-08-27
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本发明公开了一种用于轮毂的真空磁控溅射离子镀膜工艺，其技术方案要点是：具体包括以下步骤：S1、初制二氧化硅靶材：选用二氧化硅粉末，和占二氧化硅粉末质量比为0.02％‑0.1％的粘合剂，初制二氧化硅靶材棒；S2、精制二氧化硅靶材；S3、抛光轮毂：把铝合金轮毂置于装有磨料的振动研磨机中，磨料采用粒度为80‑100目的金刚砂和目数为70‑90目的棕刚玉研磨石；S4、预真空磁控溅射镀膜：将所述S3中抛光后的铝合金轮毂置于真空磁控溅射镀膜机内的镀膜室正中；S5、真空磁控溅射镀膜；本工艺在轮毂表面镀硅时采用的二氧化硅
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