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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111409018A(43)申请公布日2020.07.14(21)申请号202010005341.3(22)申请日2020.01.03(30)优先权数据2019-0010142019.01.08JP(71)申请人联合材料公司地址日本东京(72)发明人石津智广山本义仁(74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司11112代理人常海涛孙微(51)Int.Cl.B24D7/06(2006.01)B24D7/00(2006.01)权利要求书1页说明书10页附图15页(54)发明名称超硬磨料砂轮(57)摘要在超硬磨料砂轮中可长时间维持良好的锐度。具备环状的基底金属(110)和圆柱状的多个超硬磨粒层(120)。多个超硬磨粒层(120)的每一个在基底金属(110)的表面上相互间隔开地配置。多个超硬磨粒层(120)中的至少一部分超硬磨粒层(120)被配置为使得在相对于基底金属(110)的旋转中心A以旋转对称方式排列的多条曲线L1上,沿着基底金属(110)的内周侧向外周侧方向而位于基底金属(110)的旋转方向1的上游侧。超硬磨粒层(120)中的超硬磨粒的浓度为1以上12以下。CN111409018ACN111409018A权利要求书1/1页1.一种超硬磨料砂轮,具备:环状的基底金属,以及在所述基底金属的表面上相互间隔开地配置的圆柱状的多个超硬磨粒层,所述多个超硬磨粒层中的至少一部分超硬磨粒层被配置为使得在相对于所述基底金属的旋转中心以旋转对称方式排列的多条曲线上,沿着所述基底金属的内周侧向外周侧方向而位于所述基底金属的旋转方向的上游侧,所述超硬磨粒层中的超硬磨粒的浓度为1以上12以下。2.根据权利要求1所述的超硬磨料砂轮,其中,所述多个超硬磨粒层的各自的作用面的合计面积相对于夹在外周圆和内周圆之间的环状区域的面积的比例即占有面积率为10%以上32%以下,其中所述外周圆与所述多个超硬磨粒层当中离所述基底金属的所述旋转中心最远处的超硬磨粒层的外周侧边缘相接且以所述旋转中心为中心,所述内周圆与所述多个超硬磨粒层中离所述基底金属的所述旋转中心最近处的超硬磨粒层的内周侧边缘相接且以所述旋转中心为中心。3.根据权利要求1或者权利要求2所述的超硬磨料砂轮,其中所述多个超硬磨粒层中的每一个在所述表面上都配置在同心圆上。4.根据权利要求1或者权利要求2所述的超硬磨料砂轮,其用于晶圆的磨削加工,该晶圆包括选自由硅、蓝宝石、玻璃、陶瓷、石英、SiC以及化合物半导体组成的组中的至少一种。2CN111409018A说明书1/10页超硬磨料砂轮技术领域[0001]本发明涉及一种超硬磨料砂轮。本申请基于2019年1月8日提出的日本专利申请特愿2019-001014号要求优先权。该日本专利申请中所记载的全部记载内容通过引用援引在本说明书中。背景技术[0002]作为公开了超硬磨料砂轮的构成的现有文献,有日本实开昭56-94267号公报、日本特开2002-331459号公报以及日本特开2006-205314号公报。发明内容[0003]对于超硬磨料砂轮来说,要求长时间维持良好的锐度。[0004]本发明是为解决上述问题而完成的,目的是提供一种能够长时间维持良好锐度的超硬磨料砂轮。[0005]基于本发明的超硬磨料砂轮具备环状的基底金属和圆柱状的多个超硬磨粒层。多个超硬磨粒层的每一个在基底金属的表面上相互间隔开地配置。多个超硬磨粒层中的至少一部分超硬磨粒层被配置为使得在相对于基底金属的旋转中心以旋转对称方式排列的多条曲线上,沿着基底金属的内周侧向外周侧方向而位于基底金属的旋转方向的上游侧。超硬磨粒层中的超硬磨粒的浓度为1以上12以下。[0006]本发明的上述以及其它目的、特征、方面以及优点,将从结合附图所理解的本发明的以下详细说明中变得显而易见。附图说明[0007]图1为本发明的实施方式1涉及的超硬磨料砂轮的主视图。[0008]图2为从箭头II方向观察图1的超硬磨料砂轮时的侧视图。[0009]图3为从箭头III方向观察图2的超硬磨料砂轮时的后视图。[0010]图4为从正面观察本发明的实施方式1涉及的超硬磨料砂轮时的斜视图。[0011]图5为从V-V线箭头方向观察图1的超硬磨料砂轮时的剖面图。[0012]图6为表示利用本发明的实施方式1涉及的超硬磨料砂轮对晶圆进行磨削加工的状态的示意图。[0013]图7为本发明的实施方式2涉及的超硬磨料砂轮的主视图。[0014]图8为本发明的实施方式3涉及的超硬磨料砂轮的主视图。[0015]图9为本发明的实施方式4涉及的超硬磨料砂轮的主视图。[0016]图10为本发明的实施方式5涉及的超硬磨料砂轮的主视图。[0017]图11为本发明的实施方式6涉及的超硬磨料砂轮的主视图。