

一种晶圆减薄抛光装置.pdf
书生****aa
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一种晶圆减薄抛光装置.pdf
一种晶圆减薄抛光装置,包括贴胶单元、运输单元、减薄抛光单元。贴胶单元用于在晶圆正面贴胶。运输单元设于贴胶单元一侧,用于翻转并运送贴胶后的晶圆。减薄抛光单元设于运输单元一侧,包括第六无杆直线气缸,其滑动端一侧设有第三旋转电机,第三旋转电机输出轴一端设有组合架,其上设有一对第四旋转电机,其输出轴均设有研磨盘,一研磨盘为粗磨盘,另一研磨盘为精磨盘,丝杆升降组件的滑块一侧面设有第五旋转电机,其输出轴一端设有抛光轮,丝杆升降组件两侧设有两组喷液管,丝杆升降组件一侧还设有多个激光测距传感器。本发明的晶圆减薄抛光装置可
一种晶元抛光减薄装置.pdf
本发明涉及芯片制造技术领域,且公开了一种晶元抛光减薄装置,通过动齿轮与静齿轮相啮合,使得吸盘顶部放置的晶元外侧与内侧的位置不断发生交换,当晶元上一点在转动的过程中运动至靠近抛光盘外侧的时候与抛光盘之间的相对线速度最大即受到的抛光效率达到最大,当晶元上一点在转动的过程中运动至靠近抛光盘中心的时候与抛光盘之间的相对线速度最小即受到的抛光效率达到最小,从而使得晶元表面各处所受到的抛光程度的均值,避免了传统抛光减薄机由于晶元表面各处与抛光板之间的线速度不一致使得晶元表面各处所收到的抛光程度不一致导致抛光时间过长和
一种晶圆片减薄装置.pdf
本实用新型涉及半导体产品加工设备技术领域,特别涉及一种晶圆片减薄装置,包括用于固定晶圆片的吸附单元和对晶圆片表面进行磨削的磨削单元,所述吸附单元包括真空吸盘,所述真空吸盘通过气管与外部抽真空机连通,所述磨削单元包括竖直设置于所述真空吸盘上方的超声磨削头,所述真空吸盘包括盘体,所述盘体内均布多个气流道和吸附孔,多个吸附孔竖直设置,所述吸附孔内密封滑动设置支撑柱,支撑柱下方设置阻碍支撑柱向下滑动的弹性件,所述支撑柱的上端向上伸出所述盘体的上表面。本实用新型能有效防止晶圆片被吸附产生变形碎裂。
一种晶圆减薄方法.pdf
本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种晶圆减薄方法,应用于一设备晶圆的背面,设备晶圆的正面与一承载晶圆连接;包括:步骤S1,采用一第一研磨工艺对设备晶圆的背面进行研磨,以将设备晶圆的背面减薄第一预设厚度;步骤S2,采用一第二研磨工艺对设备晶圆的背面进行研磨,以将设备晶圆的背面减薄第二预设厚度;其中,步骤S1中,第一研磨工艺为采用第一研磨液对设备晶圆的背面进行研磨;步骤S2中,第二研磨工艺为采用用于清除残留物的第二研磨液进行研磨;能够去除研磨产生的杂质和残留,同时避免氧化层和/或氮化层对研磨效果的影响,保证
一种清洗装置及晶圆减薄设备.pdf
本实用新型公开了一种清洗装置及晶圆减薄设备,属于晶圆制造技术领域。清洗装置包括箱体、设于箱体上的第一清洗机构和第二清洗机构,第一清洗机构和第二清洗机构分别位于箱体的第一端和第二端,且二者均能够在箱体上沿第一方向移动;清洗装置还包括:第一罩体,设于箱体的第一端与第一清洗机构之间;第二罩体,设于箱体的第二端与第二清洗机构之间;第三罩体,设于第一清洗机构和第二清洗机构之间。晶圆减薄设备包括上述的清洗装置。本实用新型通过第一罩体、第二罩体和第三罩体的设置对箱体进行充分罩设,避免飞屑或者水雾进入箱体内部,对清洗机构