半导体器件与工艺综合.pdf
是你****晨呀
在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便
相关资料
半导体器件与工艺综合.pdf
第23卷第7期半导体学报Vol.23,No.72002年7月CHINESEJOURNALOFSEMICONDUCTORSJuly,2002半导体器件与工艺综合鲁勇谢晓锋张文俊杨之廉(清华大学微电子学研究所,北京100084)摘要:利用器件与工艺综合的思想,开发出自顶向下的新的器件和工艺设计方法,实现了该设计方法的MOSPAD软件,并利用MOSPAD系统做出了一定的综合结果.做出了关于器件与工艺综合的两个实例,即对FIB器件的器件综合和对阱形成工艺模块进行的工艺综合,并证明了自顶向下的器件与工艺综合思想的可
半导体器件与工艺综合.pdf
2222第23卷第7期半导体学报Vol.23No.72002年7
半导体器件半导体工艺掺杂.pptx
掺杂工艺目的扩散扩散形成的掺杂区和结扩散工艺步骤扩散方式淀积工艺受控制或约束的因素淀积工艺受控制或约束的因素扩散源扩散源扩散源2、推进氧化drive-in-oxidation氧化的影响离子注入离子注入概念离子注入系统离子注入系统离子注入系统束流聚焦:离开加速管后,束流由于相同电荷的排斥作用而发散。发散导致离子密度不均匀和晶体掺杂不均一。成功的离子注入,束流必须聚焦。静电或磁透镜用于将离子束聚焦为小尺寸束流或平行束流。束流中和:尽管真空去除了系统中大部分空气,但是束流附近还是有些残存的气体分子。离子和这些气
半导体器件原理与工艺(器件)1.ppt
半导体器件微电子学研究领域半导体中的缺陷电子:带负电的导电载流子是价电子脱离原子束缚后形成的自由电子对应于导带中占据的电子空穴:带正电的导电载流子是价电子脱离原子束缚后形成的电子空位对应于价带中的电子空位半导体、绝缘体和导体半导体器件突变结耗尽区的电场与电势分布电场分布电势分布耗尽层宽度耗尽层宽度VA0条件下的突变结反偏PN结线性缓变结定量方程耗尽层边界(续)准中性区载流子浓度理想二极管方程理想二极管方程(1)电子电流PN结电流空间电荷区的产生与复合空间电荷区的产生与复合-1VA
半导体器件与工艺(6).ppt
第六章硅片的制备与清洗硅是用来制造芯片的主要半导体材料,也是半导体产业中最重要的材料。对于可用于制造半导体器件的硅而言,使用一种特殊纯度级以满足严格的材料和物理要求。用来做芯片的高纯硅被称为半导体级硅(semiconductor-gradesilicon),或者SGS,有时也被称做电子级硅。不仅半导体级硅的超高纯度对制造半导体器件非常关键,而且它也要有近乎完美的晶体结构。只有这样才能避免对器件特性非常有害的电学和机械缺陷。单晶是一种固体材料,在许多的原子长程范围内原子都在三维空间中保持有序且重复的结构。非