中空分子印迹聚合物、固相萃取柱及其制备方法和应用.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107189011A(43)申请公布日2017.09.22(21)申请号201611191091.7G01N30/60(2006.01)(22)申请日2016.12.21(71)申请人哈尔滨师范大学地址150025黑龙江省哈尔滨市利民经济开发区师大路1号(72)发明人田苗苗胡月黄玮佟育奎夏琴飞(74)专利代理机构西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙)61223代理人潘宏伟(51)Int.Cl.C08F222/14(2006.01)C08F230/06(2006.01)C08J9/26(2006.01)B01D15/22(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图1页(54)发明名称中空分子印迹聚合物、固相萃取柱及其制备方法和应用(57)摘要本发明提供了一种苯硼酸修饰的中空分子印迹聚合物及采用该聚合物制成的萃取柱，该聚合物的合成方法为以3-氨基苯硼酸为修饰剂，对甲基丙烯酸单体进行化学修饰，以尿苷为模板，修饰的甲基丙烯酸作为功能单体，加入基质、交联剂和引发剂制备分子印迹材料，对制得的分子印迹材料进行洗脱模板，并采用氢氟酸腐蚀掉基质，制得中空分子印迹聚合物。本发明提供的硼亲和中空分子印迹固相主要是由于分子印迹对模板分子及结构类似物的选择性吸附、并且中空分子印迹的大部分结合位点分布在载体基质材料表面及中空腔内，提高了吸附效率，此外，硼酸基团对含有顺式二醇结构的核苷类物质能实现可逆的吸附和解离，因此对核苷类物质具有明显的富集效果。CN107189011ACN107189011A权利要求书1/2页1.一种苯硼酸修饰的中空分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：以3-氨基苯硼酸为修饰剂，对甲基丙烯酸单体进行化学修饰，使得甲基丙烯酸表面修饰有对核苷具有硼亲和作用的苯硼酸结构，所述甲基丙烯酸单体和3-氨基苯硼酸的物质的量比1：1～3；S2：以介孔分子筛MCM-48为基质，具有顺式二醇结构的尿苷为模板，S1制得的表面修饰有苯硼酸结构的甲基丙烯酸作为功能单体，加入交联剂和引发剂制备分子印迹材料，对制得的分子印迹材料进行洗脱模板，并采用氢氟酸腐蚀掉基质介孔分子筛MCM-48，制得中空分子印迹聚合物；其中，模板、功能单体、交联剂、引发剂的物质的量之比为：2.5～4：10：40～100：0.6～5，每1g基质中添加的功能单体为1.5～5mmol。2.根据权利要求1所述的苯硼酸修饰的中空分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述介孔分子筛MCM-48是以正硅酸乙酯为硅源，以十六烷基三甲基溴化胺为活性剂，采用水热合成法合成得到的。3.根据权利要求1所述的苯硼酸修饰的中空分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述交联剂为二甲基丙烯酸乙二醇酯，所述引发剂为偶氮二异丁腈。4.根据权利要求1所述的苯硼酸修饰的中空分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，S1的具体过程为：将甲基丙烯酸单体与3-氨基苯硼酸按照物质的量比为1:1～3的比例混合，溶解于乙腈中，室温下搅拌12～18h，得到表面修饰有苯硼酸结构的甲基丙烯酸。5.根据权利要求2所述的苯硼酸修饰的中空分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，S2的具体过程为：向表面修饰有苯硼酸结构的甲基丙烯酸中加入模板尿苷，静置4～6h；依次加入交联剂二甲基丙烯酸乙二醇酯和引发剂偶氮二异丁腈，使模板、功能单体、交联剂和引发剂的物质的量之比为：2.5～4：10：40～100：0.6～5，通N210～30min，40～80℃下搅拌1～2h；之后，向体系中加入介孔分子筛MCM-48，超声15～30min，通N2密封，在40～70℃下搅拌2h，65～80℃下搅拌18～20h，80～100℃下搅拌6～8h，制得聚合物微球；将制备得到的聚合物微球抽滤乙醇洗涤后，用含有HF的乙醇溶液浸泡刻蚀10h，过滤洗涤后，将聚合物微球置于索式提取器中，用甲醇/乙酸混合溶剂洗去模板分子后，放入真空干燥器中干燥至恒重，得到中空分子印迹聚合物；所述甲醇/乙酸混合溶剂中甲醇与乙酸的体积比为10-X：X，X选自1～3之间的任意数值。6.一种苯硼酸修饰的中空分子印迹聚合物，其特征在于，由权利要求1-5任一项所述的制备方法制得。7.一种苯硼酸修饰的中空分子印迹固相萃取柱，其特征在于，包括中空固相萃取柱，所述中空固相萃取柱内填充有填充层，所述填充层的底部和顶部均安装有筛板；所述填充层所填材料为权利要求6所述的苯硼酸修饰的中空分子印迹聚合物。8.根据权利要求7所述的苯硼酸修饰的中空分子印迹固相萃取柱，其特征在于，与高效液相色谱检测方法结合，在药品中检测含有顺式二醇结构的核苷类物质含量的应用。9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，所述核苷类物质为胞苷、鸟苷、尿苷或肌2CN10718