一种激光蚀刻工艺的高铝硅玻璃蚀刻液制备装置及其方法.pdf
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一种激光蚀刻工艺的高铝硅玻璃蚀刻液制备装置及其方法.pdf
本发明公开了一种激光蚀刻工艺的高铝硅玻璃蚀刻液制备装置及其方法,属于玻璃化学蚀刻技术领域。一种激光蚀刻工艺的高铝硅玻璃蚀刻液制备装置,包括过滤箱、制备罐,还包括:滑动连接在所述过滤箱内壁的框架、支撑杆;喷头,固定连接在所述支撑杆上;过滤网,固定连接在所述框架底部;加热箱,固定安装在所述过滤箱底部;本发明,可在对高铝硅蚀刻液进行调配时,提高混合液混合搅拌的均匀性,以及能够达到对混合液混合搅拌时产生的有害气体进行收集利用,从而减少有害气体的排放,提高了装置的环保效果,并且能够在高铝硅蚀刻液制备完成后对制备罐内
高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液及其制备工艺.pdf
本发明涉及一种高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液,其特征在于:所述铝蚀刻液包括磷酸、醋酸、硝酸、无机氯基化合物、无机硝酸盐化合物、表面活性剂和纯水;所述表面活性剂为阴离子表面活性剂和聚氧乙烯型非离子表面活性剂的混合物。所述工艺是先按配比称重配置;将磷酸加入配料罐中,搅拌下加入醋酸,将磷酸和醋酸搅拌均匀后,搅拌下加入硝酸,因为浓硝酸稀释时将放出大量热,而后将磷酸、醋酸和硝酸混合均匀;往混匀的磷酸、醋酸和硝酸中加入氯化钾或硝酸钾和表面活性剂,然后加入纯水,充分搅拌;将混合物通入过滤器中过滤,得到所述铝蚀刻液。本发明
玻璃蚀刻液及其制备方法、超薄玻璃基板及其蚀刻方法.pdf
本申请公开一种玻璃蚀刻液及其制备方法、超薄玻璃基板及其蚀刻方法,玻璃蚀刻液以质量份数计,包括以下组分:氢氟酸4份~6份、作为弱电解质的无机酸8份~12份、硫酸或硝酸3份~5份、有机酸10份~15份、氟化物15份~20份、螯合剂5份~9份、表面活性剂1份~3份、增稠剂2份~4份和水21份~49份;其中,组分包括硫酸时,玻璃蚀刻液包括3份~5份硝酸盐;组分包括硝酸时,玻璃蚀刻液包括3份~5份硫酸盐。上述玻璃蚀刻液,能够以较为稳定的蚀刻速率将玻璃基板减薄至超薄玻璃基板,得到厚度均匀性较好、表面光洁的超薄玻璃基板
玻璃蚀刻液及采用该蚀刻液制备绸缎效果黑色玻璃的方法.pdf
本发明属于化学蚀刻技术领域,具体涉及一种玻璃蚀刻液及采用该蚀刻液制备具有绸缎效果的黑色玻璃的方法。所述玻璃蚀刻液,包括以下重量百分比的原料:氟化氢铵20‑25%、氟化钾5‑10%、硫酸10‑15%、硝酸8‑12%、盐酸5‑10%、硫酸铵3‑8%、三聚磷酸钠2‑5%、氟硅酸钠1‑3%、氯化锌2‑5%、烷基硫酸钠0.5‑1.5%、硼砂0.2‑0.5%、十二烷基苯磺酸钠1‑3%、淀粉5‑8%、树胶0.1‑0.3%、余量为水。本发明的蚀刻液可以在玻璃表面生成纳米级鹅卵石状微晶颗粒附着层,从而达到了玻璃蒙砂面犹如绸
蚀刻液添加剂、蚀刻液及其应用、蚀刻工艺.pdf
本发明涉及材料加工技术领域,特别是涉及蚀刻液添加剂、蚀刻液及其应用、蚀刻工艺。本发明通过按照一定用量比例复配特定种类的唑类化合物、有机酸以及二价铜盐,制得了性能优越的蚀刻液添加剂,该蚀刻液添加剂用于蚀刻液中时,能有效对金属铜的蚀刻速度进行控制,不易造成过蚀、侧蚀等不良现象,且使得蚀刻可以在较低温度下进行,不会对蚀刻液的溶铜能力和稳定性造成影响,能有效提升金属铜蚀刻的品质,并降低生产成本。