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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113388391A(43)申请公布日2021.09.14(21)申请号202110277216.2B82Y40/00(2011.01)(22)申请日2021.03.15H01L27/32(2006.01)(30)优先权数据10-2020-00316172020.03.13KR(71)申请人三星电子株式会社地址韩国京畿道水原市(72)发明人金泰坤李锺敏安珠娫杨惠渊田信爱(74)专利代理机构北京铭硕知识产权代理有限公司11286代理人刘灿强韩芳(51)Int.Cl.C09K11/70(2006.01)C09K11/02(2006.01)B82Y20/00(2011.01)权利要求书2页说明书32页附图5页(54)发明名称量子点、其制造方法及包括该量子点的复合物和显示装置(57)摘要公开了一种量子点、其制造方法以及包括其的量子点复合物和装置,其中,量子点包括包含铟(In)、镓、锌(Zn)、磷(P)和硫(S)的合金半导体纳米晶体,在量子点中,镓相对于铟的摩尔比(Ga:In)大于或等于约0.2:1,磷相对于铟的摩尔比(P:In)大于或等于约0.95:1,量子点不包括镉,在量子点的UV‑Vis吸收光谱中,第一吸收峰存在于小于或等于约520nm的范围内。CN113388391ACN113388391A权利要求书1/2页1.一种量子点,所述量子点包括合金半导体纳米晶体,所述合金半导体纳米晶体包括铟、镓、锌、磷和硫,其中,在所述量子点中,镓相对于铟的摩尔比大于或等于0.2:1,其中,在所述量子点中,磷相对于铟的摩尔比大于或等于0.95:1,其中,所述量子点不包括镉,并且其中,在所述量子点的紫外‑可见吸收光谱中,第一吸收峰存在于小于或等于520纳米的范围内。2.根据权利要求1所述的量子点,其中,在所述量子点中,镓相对于铟的摩尔比大于或等于0.35:1。3.根据权利要求1所述的量子点,其中,在所述量子点中,镓相对于铟的摩尔比小于或等于1:1。4.根据权利要求1所述的量子点,其中,在所述量子点中,磷相对于铟的摩尔比大于或等于1:1。5.根据权利要求1所述的量子点,其中,在所述量子点中,铟和镓的总和相对于磷的摩尔比大于或等于0.8:1且小于或等于1.3:1。6.根据权利要求1所述的量子点,其中,在所述合金半导体纳米晶体的紫外‑可见吸收光谱中,第一吸收峰的波长在大于或等于400纳米且小于或等于450纳米的范围内。7.根据权利要求6所述的量子点,其中,在所述合金半导体纳米晶体中,锌相对于铟的摩尔比大于或等于0.9:1。8.根据权利要求6所述的量子点,其中,在所述合金半导体纳米晶体中,铟、镓和锌的总和相对于硫和磷的总和的摩尔比大于或等于1:1且小于或等于1.8:1。9.根据权利要求1所述的量子点,其中,在所述量子点中,锌相对于铟和镓的总和的摩尔比大于或等于1:1。10.根据权利要求1所述的量子点,其中,在所述量子点中,硫相对于铟的摩尔比大于或等于0.3:1。11.根据权利要求1所述的量子点,其中,所述量子点还包括设置在包括所述合金半导体纳米晶体的核上的半导体纳米晶体壳,所述半导体纳米晶体壳包括锌、硫和硒。12.根据权利要求11所述的量子点,其中,在所述量子点中,硫相对于硒的摩尔比小于或等于2.5:1。13.根据权利要求11所述的量子点,其中,所述半导体纳米晶体壳包括:第一层,包括包含锌和硒的第一半导体纳米晶体;以及第二层,设置在所述第一层上,所述第二层包括包含锌和硫的第二半导体纳米晶体。14.根据权利要求13所述的量子点,其中,所述第一层不包括硫,并且所述第一层直接设置在所述核的表面上,并且其中,所述第二层是所述量子点的最外层,并且所述第二层直接设置在所述第一层的表面上。15.根据权利要求1所述的量子点,其中,所述合金半导体纳米晶体具有大于或等于2纳米的尺寸。16.根据权利要求1所述的量子点,其中,所述量子点具有大于或等于4纳米的尺寸。17.根据权利要求1所述的量子点,其中,所述量子点在450纳米处具有大于或等于1.22CN113388391A权利要求书2/2页×105M‑1cm‑1的每摩尔消光系数。18.根据权利要求1所述的量子点,其中,在所述量子点的所述紫外‑可见吸收光谱中,450纳米处的吸光度相对于350纳米处的吸光度的比例大于或等于0.08:1。19.根据权利要求1所述的量子点,其中,所述量子点发射绿光,并且所述绿光的最大发光峰值波长在500纳米至560纳米的范围内。20.根据权利要求1所述的量子点,其中,所述量子点的量子效率大于或等于75%。21.一种制造根据权利要求1所述的量子点的方法,所述方法包括以下步骤:在有机溶剂中活化包括铟前驱体、锌前驱体、硫前驱体和可选的有机