

等离子蚀刻机的晶圆偏移矫正装置及方法.pdf
纪阳****公主
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相关资料
等离子蚀刻机的晶圆偏移矫正装置及方法.pdf
本发明涉及了等离子蚀刻机的领域,公开了一种等离子蚀刻机的晶圆偏移矫正装置及方法,所述装置包括:偏移检测机构,置于等离子刻蚀机的内部,用于在所述等离子刻蚀机对所述晶圆进行刻蚀时,检测所述晶圆在X轴、Y轴和/或Z轴方向上相对于目标位置的各偏移角度;以及偏移矫正机构,连接于承载所述晶圆的固定机构,用于在所述晶圆在X轴、Y轴和/或Z轴方向上的各偏移角度中任意一者大于预设定的角度阈值时,对所述固定机构进行调整,以使得所述晶圆处于目标位置。本发明可以对偏移的晶圆进行矫正,避免了晶圆刻蚀不彻底。
传送晶圆过程中矫正晶圆偏移的装置及其矫正方法.pdf
本申请提供一种传送晶圆过程中矫正晶圆偏移的装置及其矫正方法,该装置包括:晶圆角度定位器;光感应元件,包括信号光发射端及信号光接收端,置于晶圆角度定位器的一侧,且信号光发射端发出的光信号与晶圆角度定位器之间的距离为晶圆半径值±预设误差值;数据采集模块;数据处理模块;机械手臂。可自动识别晶圆的偏移并自动矫正晶圆的偏移位置,消除了晶圆在晶圆盒中初始位置偏移,机械手臂拖片、抓片偏移等需要人工处理的宕机问题,有效提高了生产效率,减少晶圆传送因位置偏移而产生的刮伤,碰撞风险;同时采用自动矫正晶圆的偏移,提高偏移精度。
等离子体蚀刻方法和等离子体蚀刻装置.pdf
本发明提供一种等离子体蚀刻方法和等离子体蚀刻装置,能够控制蚀刻率的轮廓,能够抑制因处理容器等被蚀刻而引起的颗粒的产生。每当实施清洁工序(a),利用使该清洁气体等离子体化得到的等离子体除去附着在处理容器(2)内的附着物;成膜工序(b),利用使含碳和氟的成膜气体等离子体化得到的等离子体,在处理容器内部的暴露于等离子体的部位形成CF膜;蚀刻工序(c),将晶片W载置在处理容器内的载置台上,利用使蚀刻气体等离子体化得到的等离子体对晶片W进行蚀刻;和在该蚀刻工序(c)之后将晶片W从处理容器搬出的工序(d
等离子体蚀刻方法和等离子体蚀刻装置.pdf
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晶圆研磨装置与晶圆研磨方法.pdf
一种晶圆研磨装置与晶圆研磨方法。晶圆研磨装置包括一支撑板、一修整垫以及一研磨轮。支撑板用以放置一晶圆于其上。修整垫设置邻近于支撑板。研磨轮能够在支撑板与修整垫之间移动,以研磨放置在支撑板上的晶圆或经由修整垫修整研磨轮的一研磨面。