基板输送系统的控制方法和基板输送系统.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114121740A(43)申请公布日2022.03.01(21)申请号202110949142.2(22)申请日2021.08.18(30)优先权数据2020-1462962020.08.31JP(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本东京都(72)发明人松本航新藤健弘(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277代理人刘新宇张会华(51)Int.Cl.H01L21/677(2006.01)H01L21/67(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图7页(54)发明名称基板输送系统的控制方法和基板输送系统(57)摘要提供一种提高输送精度的基板输送系统的控制方法和基板输送系统。一种基板输送系统的控制方法，基板输送系统包括：输送机构，其具有保持基板的保持部，输送机构用于输送基板；以及测量部，其对由输送机构输送的基板的外缘进行检测，并对基板的中心位置进行测量，基板输送系统将基板向目标位置输送，其中，基于保持部的基准位置和由测量部测量到的基板的中心位置之间的偏移量、利用测量部对基板的外缘进行检测的测量位置处的输送机构的由热膨胀所引起的保持部的基准位置的热位移量、以及输送基板的目标位置处的输送机构的由热膨胀所引起的保持部的基准位置的热位移量来校正目标位置，控制输送机构，以使保持部的基准位置成为校正后的目标位置。CN114121740ACN114121740A权利要求书1/1页1.一种基板输送系统的控制方法，该基板输送系统包括：输送机构，其具有保持基板的保持部，该输送机构用于输送所述基板；以及测量部，其对由所述输送机构输送的所述基板的外缘进行检测，并对所述基板的中心位置进行测量，该基板输送系统将所述基板向目标位置输送，其中，基于所述保持部的基准位置和由所述测量部测量到的所述基板的中心位置之间的偏移量、利用所述测量部对所述基板的外缘进行检测的测量位置处的所述输送机构的由热膨胀所引起的所述保持部的基准位置的热位移量、以及输送所述基板的目标位置处的所述输送机构的由热膨胀所引起的所述保持部的基准位置的热位移量来校正所述目标位置，控制所述输送机构，以使所述保持部的基准位置成为校正后的所述目标位置。2.根据权利要求1所述的基板输送系统的控制方法，其中，所述输送机构具有：臂，其以能够旋转的方式进行连结；以及驱动源，其借助动力传递机构使所述臂旋转，所述保持部的基准位置的热位移量根据基于所述臂的温度推断的所述臂的热膨胀量、基于所述动力传递机构的温度推断的所述动力传递机构的角度传递误差量、以及基于所述驱动源的加减速状态推断的所述角度传递误差的方向来推断。3.根据权利要求2所述的基板输送系统的控制方法，其中，所述动力传递机构是多个齿轮，所述角度传递误差量基于所述齿轮的齿隙。4.根据权利要求2或3所述的基板输送系统的控制方法，其中，所述输送机构具有用于对所述输送机构的温度进行检测的温度检测部。5.一种基板输送系统，其中，该基板输送系统包括：输送机构，其具有保持基板的保持部，该输送机构用于输送所述基板；测量部，其对由所述输送机构输送的所述基板的外缘进行检测，并对所述基板的中心位置进行测量；以及控制部，其对所述输送机构进行控制，所述控制部基于所述保持部的基准位置和由所述测量部测量到的所述基板的中心位置之间的偏移量、利用所述测量部对所述基板的外缘进行检测的测量位置处的所述输送机构的由热膨胀所引起的所述保持部的基准位置的热位移量、以及输送所述基板的目标位置处的所述输送机构的由热膨胀所引起的所述保持部的基准位置的热位移量来校正所述目标位置，该控制部控制所述输送机构，以使所述保持部的基准位置成为校正后的所述目标位置。2CN114121740A说明书1/7页基板输送系统的控制方法和基板输送系统技术领域[0001]本公开涉及基板输送系统的控制方法和基板输送系统。背景技术[0002]公知有包括用于输送晶圆等基板的输送机构的基板输送系统。[0003]在专利文献1中公开有一种对基板实施规定的处理的处理系统，其特征在于，该处理系统包括：多个处理腔室，其用于对所述基板实施规定的处理；共用输送室，其在一个方向上具有规定的长度，并且所述处理腔室共用地连结于该共用输送室的侧部；滑动机构，其在一端部具有驱动源，并且该滑动机构具有能够在所述共用输送室沿着该共用输送室的长度方向移动的基台；基板输送机构，其安装于所述基台，并且该基板输送机构能够曲伸和旋转，以保持并输送所述基板而相对于所述处理腔室送入送出所述基板；多个位置偏移检测单元，其与应该使所述基台停止的位置相对应地空开规定的间隔地配置，以对在所述基板输送机构保持的所述基板的位置偏移进行检测；以及单元控制部，其控制所述基板输送机构的动作，以