溅射镀膜装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114107920A(43)申请公布日2022.03.01(21)申请号202111204280.4(22)申请日2021.10.15(71)申请人万津实业（赤壁）有限公司地址437300湖北省咸宁市赤壁市中伙光谷产业园纵5路(72)发明人杨鹏(74)专利代理机构华进联合专利商标代理有限公司44224代理人刘宁(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)C23C14/02(2006.01)C23C14/50(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图3页(54)发明名称溅射镀膜装置(57)摘要本发明涉及一种溅射镀膜装置，包括具有容纳腔的壳体、至少两个带有磁性的喷射组件以及至少一个带有磁性的偏压组件。至少两个喷射组件沿壳体的周向固设于壳体的内侧壁，至少一个偏压组件沿壳体的周向收容于容纳腔中，每个偏压组件的磁极与一个喷射组件的磁极相反，每个偏压组件能够绕壳体的中心轴线相对于壳体旋转产生镀膜工艺所需要的负偏压。从而不需增加额外的直流电源，只在每个偏压组件经过喷射组件与壳体的中心轴的连线，并且每个偏压组件相向面对喷射组件的时候才产生镀膜工艺所需要的负偏压，达到了精准偏压以及节约电资源的目的。CN114107920ACN114107920A权利要求书1/1页1.一种溅射镀膜装置，其特征在于，包括：壳体，具有容纳腔；至少两个带有磁性的喷射组件，沿所述壳体的周向固设于所述壳体的内侧壁；以及至少一个带有磁性的偏压组件，沿所述壳体的周向收容于所述容纳腔中，所述偏压组件的磁极与所述喷射组件的磁极相反；每个所述偏压组件受控地绕所述壳体的中心轴线相对于所述壳体旋转，以循环经过每个所述喷射组件与所述壳体的中心轴的连线而产生溅射镀膜所需要的负偏压。2.根据权利要求1所述的溅射镀膜装置，其特征在于，所述溅射镀膜装置还包括旋转件，所述旋转件收容于所述容纳腔中并与所述壳体同轴设置，所述旋转件受控地绕自身轴线相对于所述壳体旋转，所述偏压组件安装于所述旋转件的外周面。3.根据权利要求2所述的溅射镀膜装置，其特征在于，每个所述喷射组件包括喷射源，所述喷射源固设于所述壳体的内周面并与所述旋转件的外周面相向间隔设置。4.根据权利要求3所述的溅射镀膜装置，其特征在于，部分所述喷射组件的所述喷射源为射频离子源，其余所述喷射组件的所述喷射源为靶材。5.根据权利要求3所述的溅射镀膜装置，其特征在于，每个所述喷射组件还包括第一磁性件，所述第一磁性件固设于所述壳体沿自身轴线的一端的外周缘。6.根据权利要求5所述的溅射镀膜装置，其特征在于，每个所述偏压组件包括与所述第一磁性件的磁极相反的第二磁性件，所述第二磁性件的一侧固设于所述旋转件沿自身轴线的一端的外周缘；所述第二磁性件能够跟随所述旋转件旋转以使所述第二磁性件在相向于所述第一磁性件时产生磁场。7.根据权利要求6所述的溅射镀膜装置，其特征在于，每个所述偏压组件包括切割件，所述切割件沿所述壳体的径向方向的一端电连接于所述旋转件，另一电连接待镀产品。8.根据权利要求7所述的溅射镀膜装置，其特征在于，所述切割件包括至少两根金属杆，至少两根所述金属杆沿垂直于所述壳体的径向方向的方向依次间隔安装于所述第二磁性件靠近所述第一磁性件的一侧，位于沿垂直于所述壳体的径向方向一端的一根所述金属杆的一端电连接于所述旋转件，位于沿垂直于所述壳体的径向方向的另一端的一根所述金属杆的一端电连接于所述待镀产品，相邻两根所述金属杆之间相互绝缘地电连接。9.根据权利要求8所述的溅射镀膜装置，其特征在于，每个所述偏压组件还包括挂架，所述挂架固设于所述旋转件的外周面，所述挂架用于挂载所述待镀产品，且所述挂架靠近所述第二磁性件的一端电连接于其中一根所述金属杆沿长度方向的一端。10.根据权利要求2所述的溅射镀膜装置，其特征在于，所述溅射镀膜装置还包括驱动组件，所述壳体的一端开设有安装孔，所述驱动组件的一端穿过所述安装孔伸入于所述容纳腔中，并连接所述旋转件沿自身轴线方向的一端以驱动旋转件绕自身轴线方向旋转。2CN114107920A说明书1/6页溅射镀膜装置技术领域[0001]本发明涉及真空镀膜技术领域，特别是涉及一种溅射镀膜装置。背景技术[0002]溅射镀膜是在真空中利用荷能粒子轰击靶材表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。靶材作为阴极，由镀膜材料制成，基片作为阳极，通常在真空室中通入0.1Pa～10Pa的氩气或其它惰性气体，在基片上加20V～300V的负电压，这样在等离子体环境中电离的氩离子在偏压的作用下加速飞向基片并沉积在基片表面，形成薄膜。[0003]在现有的镀膜装置中，通常是将基片安装在一个滚筒上，利用滚筒旋转使基片跟随滚筒