倾斜装置及晶圆片同侧倾斜方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114267619A(43)申请公布日2022.04.01(21)申请号202111618256.5(22)申请日2021.12.27(71)申请人新阳硅密（上海）半导体技术有限公司地址201616上海市松江区思贤路3600号(72)发明人史蒂文·贺·汪王亦天(74)专利代理机构上海弼兴律师事务所31283代理人蔡烨平何桥云(51)Int.Cl.H01L21/673(2006.01)H01L21/68(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图7页(54)发明名称倾斜装置及晶圆片同侧倾斜方法(57)摘要本发明公开了一种倾斜装置及晶圆片同侧倾斜方法，倾斜装置包括：存取单元具有多个单元格，各单元格沿水平方向阵列排布，且用于容纳片状板，单元格具有供片状板进出单元格的敞口的，其下部具有开口；支撑座能够定位存取单元；顶板设置在所述支撑座朝向存取单元一侧的表面上，并沿各单元格的阵列排布方向延伸，顶板的上表面倾斜设置，并通过开口与各单元格内的片状板相接触。该倾斜装置及晶圆片同侧倾斜方法通过设置倾斜的顶板于支撑座上，存取单元内的片状板与顶板接触，达到片状板同侧倾斜的目的，节约成本，结构简单，稳定性高。同时，实现片状板的同侧倾斜、均匀排列，使得片状板在特定环境下处理的更加均匀流畅，对于处理的提升有积极意义。CN114267619ACN114267619A权利要求书1/2页1.一种倾斜装置，其特征在于，所述倾斜装置还包括：存取单元，所述存取单元具有多个单元格，各所述单元格沿水平方向阵列排布，各所述单元格用于容纳片状板，所述单元格具有供所述片状板进出所述单元格的敞口的，所述单元格的下部具有开口；支撑座，所述支撑座能够定位所述存取单元；顶板，所述顶板设置在所述支撑座朝向所述存取单元一侧的表面上，并沿各所述单元格的阵列排布方向延伸，所述顶板的上表面倾斜设置，并通过所述开口与各单元格内的片状板相接触。2.如权利要求1所述的倾斜装置，其特征在于，各个所述单元格在所述存取单元内等间距设置。3.如权利要求1所述的倾斜装置，其特征在于，所述片状板和所述顶板之间的摩擦力小于所述片状板的下滑力。4.如权利要求1所述的倾斜装置，其特征在于，所述支撑座为底座，所述底座朝向所述存取单元的一侧为水平面。5.如权利要求1所述的倾斜装置，其特征在于，所述倾斜装置还包括限位挡板，所述限位挡板安装在沿所述顶板方向的所述支撑座的两端上。6.如权利要求5所述的倾斜装置，其特征在于，所述顶板在所述支撑座上的位置被设置为：当所述存取单元定位于所述支撑座上时，使所述顶板位于所述片状板的正中心的下方。7.如权利要求5所述的倾斜装置，其特征在于，所述限位挡板垂直于所述顶板的延伸方向设置。8.如权利要求1所述的倾斜装置，其特征在于，所述顶板接触所述片状板的一端设置倒角结构。9.如权利要求1所述的倾斜装置，其特征在于，所述片状板为晶圆片。10.如权利要求9所述的倾斜装置，其特征在于，所述存取单元包括侧挡板和连接板，所述侧挡板分布在所述晶圆片的两侧，所述连接板的两端连接两块所述侧挡板，所述侧挡板和所述连接板围设形成所述单元格，所述侧挡板与其内部的所述晶圆片有多个接触支撑点。11.如权利要求10所述的倾斜装置，其特征在于，所述侧挡板朝向底座方向为收缩状。12.一种晶圆片同侧倾斜方法，其特征在于，包括如权利要求1‑8任意一项所述的倾斜装置，包括以下步骤：S11、将片状板分别放置在所述存取单元的各所述单元格内；S12、将所述存取单元定位在支撑座上，使所述顶板通过所述开口与各单元格内的片状板相接触。13.如权利要求12所述的倾斜装置的实施方法，其特征在于，在S12中将所述存取单元沿所述顶板的延伸方向定位在支撑座上。14.一种晶圆片同侧倾斜方法，其特征在于，其采用存取单元倾斜晶圆片，所述存取单元具有多个单元格，各所述单元格沿水平方向阵列排布，各所述单元格用于容纳晶圆片，所述单元格具有供所述晶圆片进出所述单元格的敞口的，所述单元格的下部具有开口；所述晶圆片同侧倾斜方法包括以下步骤：2CN114267619A权利要求书2/2页将多块晶圆片分别放置在各所述单元格内；在能够承载该所述存取单元的平台上设置一个上表面倾斜的顶板；将存取单元摆放在所述平台上，并且，使存取单元中的各所述单元格的朝向与所述顶板的延伸方向一致，并使所述顶板的上表面通过开口与各所述单元格的晶圆片相接触。3CN114267619A说明书1/9页倾斜装置及晶圆片同侧倾斜方法技术领域[0001]本发明涉及一种倾斜装置及晶圆片同侧倾斜方法。背景技术[0002]在片盒槽式湿处理工艺中，需要先将片盒内的晶圆片朝向同一侧再进行湿处理工艺，所以将晶圆片在湿处理工艺的处理槽中如何倾斜设置，