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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115917247A(43)申请公布日2023.04.04(21)申请号202080102462.8(74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公(22)申请日2020.12.22司31100专利代理师胡秋瑾宋俊寅(30)优先权数据2020-1133482020.06.30JP(51)Int.Cl.G01B11/26(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2022.12.26(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2020/0479712020.12.22(87)PCT国际申请的公布数据WO2022/004006JA2022.01.06(71)申请人日本电产株式会社地址日本京都府(72)发明人牧野修之村上浩二橘高昂志权利要求书2页说明书15页附图12页(54)发明名称倾斜测量装置及倾斜测量方法(57)摘要倾斜测量装置具有第一激光位移计和第二激光位移计。第一激光位移计对测量对象物照射第一激光来测量测量对象物的位移。第二激光位移计对测量对象物照射第二激光来测量测量对象物的位移。反射构件位于相对于第一激光的光路和第二激光的光路的退避位置或进入位置。在反射构件位于退避位置的情况和位于进入位置的情况这两者时,第一激光位移计和第二激光位移计测量测量对象物的位移。反射构件在进入位置时改变第一激光和第二激光的前进方向,使第一激光和第二激光朝向测量对象物进行反射。CN115917247ACN115917247A权利要求书1/2页1.一种倾斜测量装置,是测量测量对象物的倾斜的倾斜测量装置,其特征在于,具有:第一激光位移计,该第一激光位移计对所述测量对象物照射第一激光,测量所述测量对象物的位移;第二激光位移计,该第二激光位移计对所述测量对象物照射第二激光,测量所述测量对象物的位移;以及反射构件,该反射构件位于相对于所述第一激光的光路和所述第二激光的光路的退避位置或进入位置,在所述反射构件位于所述退避位置的情况和位于所述进入位置的情况这两者时,所述第一激光位移计和所述第二激光位移计测量所述测量对象物的位移,所述反射构件在所述进入位置时改变所述第一激光和所述第二激光的前进方向,使所述第一激光和所述第二激光朝向所述测量对象物反射。2.如权利要求1所述的倾斜测量装置,其特征在于,所述测量对象物的第一旋转轴与第一虚拟平面交叉,所述第一虚拟平面包括所述反射构件位于所述退避位置时的所述第一激光的光路和所述第二激光的光路,所述测量对象物的第二旋转轴与第二虚拟平面交叉,所述第二虚拟平面包括经所述反射构件反射后的所述第一激光的光路和所述第二激光的光路。3.如权利要求2所述的倾斜测量装置,其特征在于,还具有计算部,该计算部根据所述反射构件位于所述退避位置时所述第一激光位移计得到的测量结果和所述第二激光位移计得到的测量结果,计算绕所述第一旋转轴的所述测量对象物的倾斜,所述计算部根据所述反射构件位于所述进入位置时所述第一激光位移计得到的测量结果和所述第二激光位移计得到的测量结果,计算绕所述第二旋转轴的所述测量对象物的倾斜。4.如权利要求3所述的倾斜测量装置,其特征在于,激光点距离表示基准状态下所述测量对象物中所述第一激光的照射点和所述第二激光的照射点之间的距离,激光点位移量是与所述测量对象物的倾斜相对应的物理量,表示所述第一激光的所述照射点的位移量与所述第二激光的所述照射点的位移量之和,所述计算部根据所述激光点距离和所述激光点位移量,利用三角法计算表示所述测量对象物相对于所述基准状态的倾斜的倾斜角度。5.如权利要求4所述的倾斜测量装置,其特征在于,预先设定所述反射构件位于所述退避位置时的所述激光点距离。6.如权利要求2至5中任一项所述的倾斜测量装置,其特征在于,还具有第三激光位移计,该第三激光位移计对所述测量对象物照射第三激光,测量所述测量对象物的位移,所述测量对象物的第三旋转轴与第三虚拟平面交叉,所述第三虚拟平面包括所述反射构件位于所述退避位置时的所述第二激光的光路和所述第三激光的光路。7.如权利要求6所述的倾斜测量装置,其特征在于,所述第一激光、所述第二激光和所述激光相互平行,2CN115917247A权利要求书2/2页所述第一虚拟平面与所述第三虚拟平面正交。8.如权利要求6或7所述的倾斜测量装置,其特征在于,所述第一虚拟平面与所述第一旋转轴正交,所述第二虚拟平面与所述第二旋转轴正交,所述第三虚拟平面与所述第三旋转轴正交。9.如权利要求2至8中任一项所述的倾斜测量装置,其特征在于,第一方向表示与所述第一虚拟平面交叉的方向,第二方向表示与所述第二虚拟平面交叉的方向,还具有移动机构,该移动机构沿着所述第一方向和所述第二方向移动所述反射构件。10.如权利要求1至9中任一项所述的倾斜测量装置,其特征