一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112828762A(43)申请公布日2021.05.25(21)申请号202110074745.2(22)申请日2021.01.20(71)申请人巩铁凡地址714300陕西省渭南市潼关县太要镇老虎城村十组(72)发明人巩铁凡(51)Int.Cl.B24B41/047(2006.01)B24B55/02(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图5页(54)发明名称一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置(57)摘要本发明涉及芯片加工技术领域，且公开了一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，包括支撑架，所述支撑架的内部固定连接有安装架，所述安装架的内部开设有水槽，所述水槽的内部转动连接有扇叶，所述扇叶的下端固定连接有线圈，所述水槽靠近线圈的侧壁固定连接有永磁体，所述水槽的下端固定连接有弹性腔，所述弹性腔的内部固定连接有磁块，所述弹性腔的内部转动连接有活动连杆。通过电磁杆与磁铁相互排斥，滑槽与活动腔相互滑动，使得支撑杆能够被支撑起来，且弹性腔与弹簧气囊相互连通，弹簧气囊的内部充满液体，从而达到了能够在一侧发生倾斜时给与支撑，使磨盘水平，防止打磨时不光滑的效果。CN112828762ACN112828762A权利要求书1/1页1.一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，包括支撑架(1)，其特征在于：所述支撑架(1)的内部固定连接有安装架(2)，所述安装架(2)的内部开设有水槽(3)，所述水槽(3)的内部转动连接有扇叶(4)，所述扇叶(4)的下端固定连接有线圈(5)，所述水槽(3)靠近线圈(5)的侧壁固定连接有永磁体(6)，所述水槽(3)的下端固定连接有弹性腔(7)，所述弹性腔(7)的内部固定连接有磁块(8)，所述弹性腔(7)的内部转动连接有活动连杆(9)，所述活动连杆(9)远离弹性腔(7)的一端转动连接有挡板(10)，所述弹性腔(7)的侧面固定连接有软管(11)，所述软管(11)远离弹性腔(7)的一端固定连接有支撑杆(12)，所述支撑杆(12)的侧面固定连接有弹簧气囊(13)，所述弹簧气囊(13)的内部固定连接有复位弹簧(14)，所述支撑杆(12)的内部固定连接有电磁杆(15)，所述弹簧气囊(13)的内部固定连接有滑槽(16)，所述滑槽(16)的内部滑动连接有活动腔(17)，所述滑槽(16)的内部固定连接有推杆(18)，所述推杆(18)的端部固定连接有金属触头(19)，所述活动腔(17)内部的侧壁固定连接有电阻条(20)，所述活动腔(17)端部的内部固定连接有磁铁(21)，所述弹性腔(7)的下端固定连接有水腔(22)，所述水腔(22)的内部滑动连接有滑板(23)，所述水腔(22)靠近滑板(23)的侧面固定连接有压力开关(24)，所述水腔(22)的侧壁固定连接有脉冲喷头(25)。2.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述安装架(2)的底部固定连接有打磨块，打磨块的内部开设有通孔，通孔的内部固定连接有脉冲喷头(25)。3.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述磁块(8)有两个，分别固定连接在弹性腔(7)内部的两端，且磁块(8)位于同一水平面上，磁块(8)的相近端为同名磁极。4.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述永磁体(6)环绕在水槽(3)的内部，所述线圈(5)位于永磁体(6)的中间，线圈(5)通过电线与内部电路连接。5.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述支撑杆(12)的一端转动连接在支撑架(1)的下表面，另一端转动连接在安装架(2)的上表面，所述弹簧气囊(13)与软管(11)连通。6.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述金属触头(19)与内部电路连接，金属触头(19)滑动连接在电阻条(20)的表面，所述电阻条(20)通过电线与电磁杆(15)连接。7.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述电磁杆(15)与磁铁(21)位于同一竖线上，且电磁杆(15)与磁铁(21)的相近端为同名磁极，所述压力开关(24)通过电线与脉冲喷头(25)连接。2CN112828762A说明书1/4页一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置技术领域[0001]本发明涉及芯片加工技术领域，具体为一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置。背景技术[0002]在芯片加工的过程中，通过对晶圆的表面进行镀铜，再将多余的铜进行清洗磨削，实现将电路连通的效果，现在的晶圆磨削装置在磨削的过程中会遇到磨盘两侧高度不一致情况，导致晶圆表面一侧被过度磨削，另一