具有基板进动的基板抛光的工艺参数的控制.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115026715A(43)申请公布日2022.09.09(21)申请号202210225634.1B24B37/10(2012.01)(22)申请日2022.03.07B24B37/30(2012.01)B24B7/22(2006.01)(30)优先权数据H01L21/67(2006.01)63/157,6062021.03.05US(71)申请人应用材料公司地址美国加利福尼亚州(72)发明人E·刘C·C·加勒森H·张Z·朱B·切里安B·J·布朗T·H·奥斯特海德(74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公司31100专利代理师侯颖媖张鑫(51)Int.Cl.B24B37/005(2012.01)B24B49/12(2006.01)权利要求书3页说明书10页附图7页(54)发明名称具有基板进动的基板抛光的工艺参数的控制(57)摘要生成用于抛光工艺的配方，包括：接收目标移除曲线，所述目标移除曲线包括针对围绕基板中心成角度地间隔开的位置的要移除的目标厚度；存储提供随时间变化的相对于承载头的基板方向的第一函数；存储将所述区域中的区域下方的抛光速率定义为因变于承载头的一个或多个区域的一个或多个压强的第二函数；以及对于所述多个区域中的每个特定区域，计算定义该特定区域的随时间变化的压强的配方。计算所述配方包括：从定义抛光速率的第二函数和提供随时间变化的相对于该区域的基板方向的第一函数来计算抛光后的预期厚度曲线；以及应用最小化算法以减小预期厚度曲线和目标厚度曲线之间的差异。CN115026715ACN115026715A权利要求书1/3页1.一种用于生成用于控制抛光系统的配方的计算机程序产品，所述计算机程序产品被编码在非瞬态计算机可读介质上并且包括指令，以用于使一台或多台计算机：接收目标移除曲线，所述目标移除曲线包括针对围绕基板中心成角度地间隔开的多个位置的要移除的目标厚度；存储提供随时间变化的相对于承载头的基板方向的第一函数；存储第二函数，所述第二函数将可加压区域下方的抛光速率定义为因变于来自所述承载头的多个可加压区域中的一个或多个区域的一个或多个压强，所述多个可加压区域围绕旋转轴线成角度地间隔开；以及对于所述多个区域中的每个特定区域，计算定义所述特定区域的随时间变化的压强的配方，其中用于计算所述配方的所述指令包括从定义所述抛光速率的所述第二函数和提供随时间变化的相对于所述区域的基板方向的所述第一函数来计算抛光后的预期厚度曲线的指令，以及应用最小化算法以减小所述预期厚度曲线和目标厚度曲线之间的差异的指令。2.如权利要求1所述的计算机程序产品，其中所述第一函数将所述头的物理区域映射到所述基板上的位置。3.如权利要求1所述的计算机程序产品，其中所述第一函数假定所述基板相对于所述承载头具有恒定的进动速率。4.如权利要求3所述的计算机程序产品，其中所述第一函数包括基于初始角度偏移和所述进动速率计算角度偏移。5.如权利要求4所述的计算机程序产品，其中所述第一函数包括基于承载头旋转速率计算所述进动速率。6.如权利要求1所述的计算机程序产品，其中计算所述配方包括：使成本函数最小化，所述成本函数结合所述第一函数和所述第二函数。7.如权利要求6所述的计算机程序产品，其中所述成本函数与x[t]＝B[t]*u[t]一致，其中，x[t]是将所述基板上的压强表示为时间的函数的向量，u[t]是将抛光参数表示为时间的函数的向量，并且B[t]是与所述第一函数一致的随时间变化的选择器矩阵。8.如权利要求7所述的计算机程序产品，其中所述B[t]计算所述基板上的分区相对于所述承载头上的区域的角位置作为时间(t)的函数。9.如权利要求6所述的计算机程序产品，其中所述成本函数受制于x[t+1]＝A*x[t]+B[t]*u[t]的演变约束。10.如权利要求9所述的计算机程序产品，其中A是基于随时间变化的相对于所述承载头的基板方向的旋转而变换坐标位置的矩阵。11.如权利要求7所述的计算机程序产品，其中B[t]计算所述基板上的分区相对于所述承载头上的区域的角位置作为时间(t)的函数。12.如权利要求6所述的计算机程序产品，其中所述成本函数受制于所述约束x[t]＝C[t]*y[t]，其中，y[t]表示来自原位监控系统的随时间变化的测量值。13.如权利要求12所述的计算机程序产品，其中C[t]表示提供各个测量值从所述承载头上的区域到所述基板上的位置的映射。14.一种生成用于控制抛光系统的配方的方法，所述方法包括：2CN115026715A权利要求书2/3页接收目标移除曲线，所述目标移除曲线包括针对围绕基板中心成角度地间隔开的多个位置的要移除的目标厚度；存储提供随时间变化的相对于承载头的基板方向的第一函数；存储第二函数，所述第