涂敷装置以及涂敷方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105457836A(43)申请公布日2016.04.06(21)申请号201510621723.8(22)申请日2015.09.25(30)优先权数据2014-1970672014.09.26JP(71)申请人株式会社思可林集团地址日本国京都府京都市(72)发明人古市考次真田雅和(74)专利代理机构隆天知识产权代理有限公司72003代理人金相允(51)Int.Cl.B05C5/00(2006.01)B05C11/10(2006.01)B05D1/02(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图4页(54)发明名称涂敷装置以及涂敷方法(57)摘要本发明提供涂敷装置及涂敷方法，旨在实现即使是现有难以涂敷的高粘度的液体也能够在被涂敷体形成良好的涂敷层的技术。本发明的涂敷装置将非牛顿性的膏状液体涂敷至被涂敷体(S)，具有：喷嘴(5)，具有喷出液体的喷出口开口的唇面(53)；液体供给单元(22)，将液体压送至喷嘴(5)；以及相对移动单元(72)，以使唇面(53)与被涂敷体(S)的表面邻近且对置的状态，来使喷嘴(5)与被涂敷体(S)相对移动；通过将液体从喷出口连续地注入唇面(53)与被涂敷体(S)表面之间的间隙空间，并且在间隙空间由唇面(53)与被涂敷体(S)表面对液体进行加压来施加剪切，从而将被低粘度化的液体涂敷至被涂敷体(S)。CN105457836ACN105457836A权利要求书1/2页1.一种涂敷装置，将非牛顿性的膏状液体涂敷至被涂敷体，其特征在于，具有：喷嘴，具有喷出口开口的唇面，该喷出口喷出所述液体，液体供给单元，将所述液体压送至所述喷嘴，以及相对移动单元，以使所述唇面与所述被涂敷体的表面邻近对置的状态，来使所述喷嘴与所述被涂敷体相对移动；将所述液体从所述喷出口连续地注入所述唇面与所述被涂敷体表面之间的间隙空间，在所述间隙空间中，由所述唇面与所述被涂敷体表面对所述液体进行加压来施加剪切，从而将粘度较之于所述喷嘴内的液体更低的所述液体涂敷至所述被涂敷体。2.如权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，该涂敷装置具有用于规定所述唇面与所述被涂敷体表面之间的间隙量的间隙决定单元。3.如权利要求2所述的涂敷装置，其特征在于，所述间隙决定单元具有变更所述唇面与所述被涂敷体表面之间的间隙量的功能。4.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，所述相对移动单元具有：搬运机构，保持片状的所述被涂敷体并以规定速度搬运所述被涂敷体；以及支撑构件，按照与所述喷嘴包夹所述被涂敷体的方式在与所述喷嘴相反的一侧背支撑所述被涂敷体，所述被涂敷体与所述唇面对置。5.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，所述喷嘴经由与所述喷出口相连通且具有与所述喷出口相同的断面形状的流路将所述液体输送至所述喷出口。6.如权利要求5所述的涂敷装置，其特征在于，所述喷出口与所述被涂敷体的表面平行，且开口为缝状，所述缝状将与所述喷嘴相对于所述被涂敷体相对移动的方向垂直的方向作为长边方向，并且所述唇面与所述被涂敷体表面的间隙量比该缝的所述相对移动方向上的开口间隙小。7.如权利要求3所述的涂敷装置，其特征在于，该涂敷装置具有用于检测从所述液体供给单元供给至所述喷嘴的所述液体的压力的压力检测单元，所述间隙决定单元根据所述压力检测单元的检测结果来设定所述间隙量。8.如权利要求1～3以及7中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，在所述间隙空间中，向所述液体施加所述液体的屈服值以上的剪切应力。9.如权利要求1～3以及7中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，在剪切速度为10s-1时，所述间隙空间中的所述液体的粘度为25Pa·s以下。10.一种涂敷方法，将非牛顿性的膏状液体涂敷至被涂敷体，其特征在于，具有：液体供给工序，将所述液体压送至喷嘴，该喷嘴具有设置有能够喷出所述液体的喷出口的唇面；移动工序，以使所述唇面与所述被涂敷体的表面邻近对置的状态，来使所述喷嘴与所述被涂敷体相对移动；以及涂敷工序，使由所述液体供给工序压送的所述液体从所述喷出口连续地喷出，在所述2CN105457836A权利要求书2/2页间隙空间中，由所述唇面与所述被涂敷体表面对所述液体进行加压来施加剪切，从而将粘度较之于所述喷嘴内的液体更低的所述液体涂敷至所述被涂敷体。11.如权利要求10所述的涂敷方法，其特征在于，控制所述唇面与所述被涂敷体的表面的间隙量，来调整在所述间隙空间中施加于所述液体的压力。12.如权利要求11所述的涂敷方法，其特征在于，根据压送至所述喷嘴的所述液体的压力来调整所述间隙量。13.如权利要求10～12中任一项所述的涂敷方法，其特征在于，控制供给至所述喷嘴的所述液体的量，来调整涂敷至所述被涂敷体的所述液体的膜厚