原子层沉积方法及炉管设备.pdf
猫巷****奕声
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相关资料
原子层沉积方法及炉管设备.pdf
本发明提供一种原子层沉积方法及炉管设备,其中一种原子层沉积方法包括步骤S1至步骤S6共六个步骤,本发明一方面通过改进炉管设备中真空泵系统,另一方面通过原子层沉积方法的控制,使得原子层沉积的两种反应气体分别从不同的真空泵通过,致使真空泵内沉积薄膜大幅减少,降低了真空泵中的累积膜厚,提高真空泵的寿命,可以提高真空泵寿命达到两倍或两倍以上。
一种多炉管的原子层沉积设备.pdf
本发明属于真空设备领域,提供了一种多炉管的原子层沉积设备,包括至少两个炉管,每个炉管的炉尾通过连接管共同连接有一个总管路,总管路的另一端连接有一个真空抽吸装置。本发明提供的多炉管的原子层沉积设备,各炉管共用一套真空系统,保证薄膜沉积均匀性的同时提高了设备的总产能,降低了相同产能配置所需的设备成本。
原子层沉积设备.pdf
本发明涉及原子层沉积设备技术领域,涉及一种原子层沉积设备,其包括反应室、基片架、承载装置和供气装置;承载装置包括承载件和旋转组件,承载件可转动地容置于反应腔内,基片架设于承载件上,旋转组件分别连接于反应室和承载件并用于驱动承载件旋转;供气装置包括进气组件和排气组件,进气组件和排气组件分别连通于反应腔,且进气组件用于朝向基片架输送反应气体,排气组件用于排出反应腔内的尾气。在本实施例的原子层沉积设备中,通过设置承载装置和供气装置配合,可以在一次加工过程中驱使基片架与多种不同的反应物接触反应,并且无需再经历冲洗
工艺气体传输装置、原子层沉积方法及沉积设备.pdf
本发明公开了一种工艺气体传输装置、原子层沉积方法及沉积设备。包括:至少两个工艺气体源;至少两个供气管路,每个所述供气管路连接在工艺腔室和对应的所述工艺气体源之间;其中,每个所述供气管路均包括并联的至少两个供气支路,各所述供气支路用于选择性地将所述工艺气体源和所述工艺腔室连通。对于K值较低的前驱体,可以在工艺气体源内存储该前驱体,这样,该前驱体可以经由两个并联的供气支路进入到工艺腔室内,可以降低该前躯体在供气管路的滞留,并且增加单次该前驱体进入工艺腔室的输入量。根据Langmuir模型(也即公式1),增加该
原子层沉积装置及方法.pdf
本申请公开了一种原子层沉积装置及方法,原子层沉积装置采用了额外添加吹扫管路的设计,通过将吹扫管路并联在原有的前驱体传输管路中,从而将吹扫气体的流量从前驱体的设定流量中解放出来,可以显著加大吹扫气体的流量,由于吹扫气流的增强,其吹扫工序所消耗的时间可以进一步减小,从而间接提高了整个装置的生产效率,同时还可以更彻底的对反应腔室中喷淋头及喷淋头边缘焊接处进行吹扫,避免了前驱体的残留,提高了生产薄膜的均匀性及薄膜质量。