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2022年拓荆科技产业细分及业务布局分析1、拓荆科技作为国产薄膜沉积设备龙头,产品覆盖PECVD/ALD/SACVD1.1公司概况:深耕半导体薄膜沉积设备,营收高速增长公司聚焦半导体薄膜沉积设备的生产和研发,主要产品有等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,2021年营收分别占比89.11%、3.78%、5.43%。公司是目前国内唯一一家产业化应用集成电路PECVD、SACVD设备的厂商,产品已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。公司成立于2010年,多次承担国家重大专项并获“中国半导体设备五强企业”称号,2011年首台12英寸PECVD到中芯国际验证,2013年PF-300T产品线通过测试,2014年获得首批订单,2016年首台ALD设备和8寸PECVD交付客户,2018年ALD通过客户14nm产业化验证,2019年SACVD研制成功并出厂到客户端,2022年4月,在科创板上市。公司无控股股东和实际控制人,大基金为第一大股东。公司前三大股东分别为国家集成电路基金、国投上海、中微公司,分别持股19.86%、13.68%、8.40%。公司6名非独立董事中,国家集成电路基金有权提名2名,国投上海、中微公司分别有权提名1名,姜谦及其一致行动人有权提名2名,均不足董事会席位一半,因此公司不存在实际控制人。公司分两批次设立了11个员工持股平台,实现了广泛的员工持股,以此吸引海外专家和境内优秀人才,使员工与公司共享发展成果。公司主要有三个子公司:(1)拓荆北京,主要为华北区客户提供高端薄膜装备研发、设备供应以及零部件备货等服务;(2)拓荆上海,是ALD设备研发与产业化项目实施主体;(3)拓荆键科(持股55%),主要从事高端半导体新兴工艺设备研发与生产制造。公司最初由中科仪与姜谦设立,其他高管和核心技术人员也多有在诺发、LamResearch等业内知名公司任职经历。公司已经建成了一支国际化、专业化的半导体薄膜沉积设备研发技术团队。收入端:公司营收快速增长,近三年CAGR74%。受益于半导体设备行业快速发展和公司技术的突破,公司产品不断通过客户验证,2021年公司实现营收7.58亿元,同比+74%;实现归母净利润0.68亿元,同比扭亏。2022Q1已实现营收1.08亿元,同比+86%,持续维持高增长。收入结构:(1)分产品:PECVD为营收的主要来源,SACVD、ALD开始放量。PECVD设备销量逐年增长,2020年PECVD销量31台;2021Q1-Q3销量23台。SACVD在2020年和2021Q1-Q3分别售出1台。2021年PECVD贡献了6.75亿元的营业收入,SACVD、ALD年分别实现了0.41亿元、0.29亿元的收入。2020年PF-300T和PF200T分别贡献3.21亿元、0.97亿元营收。(2)分地区:公司业务主要在中国大陆,2021年中国大陆营收占比达98.32%。但是随着公司规模的扩大以及技术的成熟,未来有望拓展海外客户。(3)分季度:公司下游客户,通常于年初作出全年的资本性支出计划,此后开展采购、安装、调试、验收,导致公司大部分设备取得客户验收、确认收入的时点相对集中于下半年,尤其集中于Q4,呈现一定的季节性。盈利端:毛利率稳步提升,已高于行业平均水平。公司毛利率持续提升,主要原因为(1)随着公司技术水平、市场地位的提升,公司的议价能力有所提高,平均单价有所上升;(2)随着公司产品工艺和制程的演进,公司的产品开始进入先进制程设备市场,先进制程设备的市场价格较高,进而提高了毛利率;(3)随着销售规模的增长,公司的规模经济效应开始显现,平均成本有所降低。2021年公司毛利率44.01%,已高于行业平均值,盈利能力增强。公司销售、管理、财务费用率常年维持在较低水平,研发费用率增长较快,主要是因为公司保持高强度的研发投入,持续推进技术创新。1.2上下游关系:原材料成本不断降低,客户集中度较高上游:直接材料为主要成本来源,公司供应链稳定,采购价格呈下降趋势。公司主要成本来自于直接材料,其中直接材料2019到2021Q1-Q3占比分别为91%、90%、94%。公司采购的原材料主要包括机械类、机电一体类、电气类、气体输送系统类、真空系统类、附属设备等。供应商:公司供应链稳定。公司上游前五大供应商的集中度不到40%,避免了过度依赖部分供应商的风险。近四年前五大供应商较为稳定,供应商和公司合作时间长,合作关系友好,保障了原材料的供应。原材料价格:随着公司出货量的增长,原材料成本逐渐降低,未来规模优势下成本有望进一步降低。以2018年原材料的价格为基础计算出价格指数后可以看到,由于公司供应链管理不断优