中微公司深度解析：ICP开启刻蚀第二成长曲线_打造泛半导体平台.docx

中微公司深度解析：ICP开启刻蚀第二成长曲线_打造泛半导体平台一、21H1营收和利润维持快速成长，刻蚀设备为主要驱动力中微公司为国产半导体设备龙头，主营业务包括刻蚀设备和MOCVD设备。中微成立于2004年，公司主要业务是开发大型真空的微观器件工艺设备，包括等离子体刻蚀设备和薄膜沉积设备。其中等离子体刻蚀设备又可以分为电容性等离子体刻蚀设备（CCP）和电感性等离体刻蚀设备（ICP）。CCP主要用于刻蚀氧化物、氮化物等硬度高、需要高能量离子反应刻蚀的介质材料。ICP主要用于刻蚀单晶硅、多晶硅等材料。通过核心技术的创新，公司的产品已达到国际先进水平。公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，公司已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商。公司2016-2020年营收呈现稳步增长趋势，CAGR高达30.12%。分产品来看，1）刻蚀设备贡献主要成长动力，2016-2020年营收CAGR高达22.36%，公司为国内刻蚀设备龙头厂商，凭借双反应台配置的高生产效率及国际领先的性能在国内主流晶圆厂刻蚀设备份额不断提升；2）MOCVD在2016-2018年呈现高增长，营收从2016年的0.16亿增长至2018年的8.32亿，CAGR高达276.61%，主要系公司MOCVD市场份额大幅提升所致。2019年后全球LED进入下行周期，LED厂商纷纷削减资本支出，带来MOCVD营收下滑。21H1公司营收增长进一步提速，行业高景气+ICP新品推出助力刻蚀设备营收高增长。21H1公司实现营收13.39亿元，同比提升36.82%，其中刻蚀设备达8.58亿元，同比提升83.79%，一方面由于全球晶圆厂加速扩产带来刻蚀设备需求量大幅提升，另一方面ICP新品的快速放量也带来刻蚀设备的高增长。21H1公司MOCVD设备达2.19亿元，同比下滑10.08%，主要系LED行业景气度依旧疲软。2021年上半年新签订单金额达18.89亿元，同比增长超过70%，且有部分MiniLEDMOCVD设备规模订单已进入最后签署阶段，有望带来新的营收增量。分产品毛利率来看，刻蚀设备毛利率位于40%-50%区间，MOCVD降价策略导致整体毛利率走低，21H1有所回升。16-18年公司毛利率整体呈下滑趋势，主要由于MOCVD设备业务上公司为保持扩大市场份额和提升销售额，策略性地降低产品销售价格所致。16-18年MOCVD毛利率从33.82%下滑至26.33%。21H1MOCVD毛利率回升至30.77%，拉动整体毛利率提升至40.92%。公司经营性净利润相对承压，主要系较高的销售费用率和研发费用率。自2004年成立以来公司曾经历长时间的亏损，主要由于高端半导体设备研发周期长、研发投入大，以及过去国内半导体市场需求不足。2017年开始公司扭亏为盈归母净利润回正，但是扣非归母净利润依旧为负。2018年首次实现扣非归母净利润为正，2018-2020年扣非净利率为6.34%/7.60%/1.01%。公司总体利润率为个位数，主要系公司毛利率水平为40%，而三费率+研发费率就高达30%以上（其中研发费用率一般为5%-15%，销售费用率10%-16%左右，管理费用率6-10%）。2020年公司归母净利润大幅提升至4.92亿元，原因系①2020年政府补助相较2019年增加2.26亿元；②2020年中芯国际科创板股票投资公允价值变动收益约2.62亿元。然而，剔除政府补助和公允价值变动等非经常性损益，2020年扣非归母净利润同比不升反降，原因系2020年公司增加股份支付费用1.24亿元。2020年公司实施股权激励计划，20-24年预计分别分摊1.26/1.61/0.85/0.42/0.11亿元。股份支付费用纳入经常性损益，影响当期利润。剔除股份支付费用后公司2020年扣非归母净利润为1.47亿元，与19年基本持平。21H1公允价值变动损益和政府补助持续推高公司归母净利润，剔除非经常性影响公司利润端表现良好。21H1公司归母净利润为3.97亿元，同比提升233.17%；扣非归母净利润0.62亿元，同比提升53.35%。1）归母净利润同比增速大于扣非归母净利润原因包括：①21H1公允价值变动损益为1.71亿元。②计入当期损益的政府补助（非经常性损益）较上年同期增加约1.44亿元。2）剔除股份支付费用后的扣非归母净利润：21H1增长迅速，达2.06亿元，已经超过20年全年（1.47亿元）。二、全球设备高景气行情下，本土设备厂商充分受益于1、全球主流晶圆厂上修Capex，北美和日本设备出货数据彰显设备高景气代工龙头产能利用率及资本支出维持较高水平。据Gartner预测，20