复合埋入式元件结构及其制造方法.pdf
一吃****瀚文
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复合埋入式元件结构及其制造方法.pdf
本发明提供一种复合埋入式元件结构及其制造方法。复合埋入式元件结构包括至少两核心基板构成的一复合基板结构,至少两核心基板之间是通过一粘结层结合。一第一开口于一上层核心基板中,及一第二开口于一下层核心基板中,其中该第一开口大于该第二开口构成一倒凸字型空间。一芯片具有第一组电性接触垫,固定于至少两绝缘材料叠层上,并镶入该倒凸字型空间,其中该芯片埋入该第二开口中,并与该下层核心基板之间具有一空隙。多个导盲孔穿透至少两材料叠层,对应并电性连接多个电性接触垫,以及一绝缘层设置于该复合基板结构上,且覆盖多个导盲孔与至少
组件埋入式电路板结构及其制造方法.pdf
本发明提供的组件埋入式电路板结构包含第一核心板具有第一侧和相对于第一侧的第二侧且具有开口,半导体组件设置于第一核心板的开口中,且半导体组件与第一核心板之间具有第一间隙,导热胶填满第一间隙,以及第一线路增层结构设置于第一侧上并覆盖第一核心板、半导体组件和导热胶,具有第一盲孔位于第一核心板上,且具有第一散热导线设置于第一盲孔中。本发明亦提供组件埋入式电路板结构的制造方法。
埋入式字线结构及其制作方法.pdf
本发明提供一种埋入式字线结构及其制备方法,该结构包括半导体衬底、字线沟槽、栅介质层、氧阻隔内衬层及漏电抑制层。字线金属填充于字线沟槽中,且字线金属的第二顶面低于所述有源区的第一顶面,以形成一容置槽于字线金属上方,氧阻隔内衬层覆盖于字线金属表面,且氧阻隔内衬层上方保留有容置空间,氧阻隔内衬层用以抑制氧渗入至字线金属而造成字线金属的氧化;漏电抑制层,填充于容置空间,漏电抑制层的介电常数低于所述氧阻隔内衬层。本发明通过在字线金属表面覆盖氧阻隔内衬层,能在随后的加热工艺其间,抑制氧渗入至字线金属而造成字线金属的氧
复合结构及其制造方法.pdf
本发明公开一种复合结构及其制造方法,其中,复合结构包括基材、底层、金属层及表层,基材表面设有底层,底层由水性漆形成,底层背离基材的表面设有金属层,表层设于金属层背离底层的表面,金属层为物理气相沉积法所制备形成的结构,表层由透光材料形成。可以理解的,本发明的技术方案采用物理气相沉积法制备的金属层替代电镀工艺制备的金属层,杜绝了由于废液所造成的环境污染问题。
具有埋入式铜块结构的电路板制造方法.pdf
本发明公开一种具有埋入式铜块结构的电路板制造方法,其包括:准备步骤、盲捞步骤、铜块塞入步骤、及树脂填充步骤。准备步骤包含提供内层电路板。盲捞步骤包含对内层电路板实施盲捞作业,以使得内层电路板形成容置结构。铜块塞入步骤包含提供散热铜块且将散热铜块塞入容置结构中。散热铜块与容置结构之间形成填充间隙。树脂填充步骤包含将油墨树脂填充至填充间隙中,并且将油墨树脂进行固化,从而形成埋入式铜块结构。