同端进出式连续溅射镀膜设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102181839A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102181839A(43)申请公布日2011.09.14(21)申请号201110149168.5(22)申请日2011.06.03(71)申请人浙江大学地址310009浙江省杭州市玉古路154号(72)发明人王德苗金浩顾为民任高潮沈小虎冯斌周剑(74)专利代理机构杭州浙科专利事务所33213代理人吴秉中(51)Int.Cl.C23C14/34(2006.01)C23C14/56(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称同端进出式连续溅射镀膜设备(57)摘要本发明涉及一种同端进出式连续溅射镀膜设备，它包括真空腔体和真空抽气装置，所述真空抽气装置与真空腔体相连通，其特征在于所述真空腔体由相邻且相通的预抽室和溅射室两个真空室构成，两个真空室之间设有隔离阀，腔体的末端和前端分别设有盲法兰和真空锁阀，所述真空锁阀外侧设有一个装卸片台，在溅射室内设置有工件架传输装置，在预抽室内装有复合传输装置，所述溅射室内装有至少三对相对布置的磁控溅射靶，所述工件架传输装置能够与工件架相配合；具有结构紧凑、占地面积小，需要的超净区域少、吞吐量大，能耗低、膜层质量好等优点。CN102839ACCNN110218183902181843A权利要求书1/1页1.同端进出式连续溅射镀膜设备，包括真空腔体和真空抽气装置，所述真空抽气装置与真空腔体相连通，其特征在于所述真空腔体由相邻且相通的预抽室和溅射室两个真空室构成，两个真空室之间设有隔离阀，腔体的末端和前端分别设有盲法兰和真空锁阀，所述真空锁阀外侧设有一个装卸片台，在溅射室内设置有可往复传输的工件架传输装置，在预抽室内装有复合传输装置，所述溅射室内装有至少三对相对布置的磁控溅射靶，所述工件架传输装置能够与工件架相配合，并能将工件架从装卸片台依次输送到预抽室、溅射室，并从原路输回到所述装卸片台。2.根据权利要求1所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述真空室均由不锈钢或碳钢材料制成，腔体型式为立式结构和卧式结构中的一种。3.根据权利要求1所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述预抽室复合传输装置由平移器，至少由两套互相平行的驱动导轨构成，所述两套互相平行的驱动导轨均装有摩擦式驱动轮、同步轮和轴承，每套驱动导轨单独连接一个可逆电机，可逆电机的轴与摩擦驱动轮同步轮相配合，所述直线导轨的滑块与驱动导轨固定连接，直线导轨的滑轨固定在真空腔体的底部，所述平移器的驱动轴与驱动导轨固定连接。4.根据权利要求1和3所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述复合传输装置上布置一个能够随复合传输装置一道平移的加热式或等离子清洗装置，所述清洗装置由焊接在复合工件架传输装置上的两个T字形不锈钢支架、布置在所述两个支架直档构成的平面上的清洗器、布置在所述T字形支架横档上的至少两条平行的、用来稳住片架的槽钢形上导轨以及由抛光不锈钢板制成的用来反射热辐射或限制等离子区的屏蔽板等部件构成，所述清洗器是红外灯管、紫外灯管或不锈钢网的一种。5.根据权利要求1和2所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述溅射室至少设有三对相对布置、溅射面指向对方、不同靶材或同种靶材的磁控溅射靶，所述的磁控溅射靶为柱型旋转磁控靶、平面磁控溅射靶以及弧源靶中的一种。6.根据权利要求1所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述工件架由不锈钢板和焊接在该不锈钢板上的用来装载基片的载片框架构成，所述工件架与传输导轨的摩擦轮以及槽钢型上导轨配合，带动工件架往复移动。2CCNN110218183902181843A说明书1/4页同端进出式连续溅射镀膜设备技术领域[0001]本发明属于溅射镀覆技术领域，特别是涉及一种用于电子器件的同端进出式连续溅射镀膜设备。背景技术[0002]几乎所有电子器件都要对其一个或多个表面镀以金属薄膜，以便进行电极制作等后续工艺。现有技术多是采用炉装式真空蒸发镀膜，其缺点是蒸镀的薄膜与基片的结合力差、薄膜的均匀性与一致性不佳、生产效率低下，容易导入操作工的人为因素影响。中国200610049197.3号专利公布了一种连续式溅射设备，该设备由预抽室、前过渡室、溅射室、后过渡室和减压室五个真空腔体以及进片台、出片台、工件架返回装置等构成，工件架依次通过进片台、预抽室、前过渡室、溅射室、后过渡室和减压室被输送出机体到达出片台，再由体外的工件架返回装置将工件架传输回进片端，该设备的缺陷在于：由于工件架是从设备一端进，另一端出，真空腔体多，设备庞大，造价高，占地面积大；为了防止被灰尘污染，电子器件的生产一般都需要将工件架、进出片台处在超净环境中进行，由于该设备庞大，还带有一个很长的体外片架返回装置，相应需要一个