一种连续式磁控溅射装置及连续式磁控溅射的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107779835A(43)申请公布日2018.03.09(21)申请号201711267226.8(22)申请日2017.12.05(71)申请人江西金力永磁科技股份有限公司地址341000江西省赣州市经济技术开发区金岭西路81号(72)发明人毛华云梁礼渭(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227代理人赵青朵(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)C23C14/56(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图1页(54)发明名称一种连续式磁控溅射装置及连续式磁控溅射的方法(57)摘要本发明提供了一种连续式磁控溅射装置，包括含有真空腔室、磁控溅射腔室和冷却腔室的磁控溅射炉；所述真空腔室设置在所述磁控溅射腔室的一侧，所述真空腔室和磁控溅射腔室之间用第一可活动装置隔开；所述冷却腔室设置在所述磁控溅射腔室的另一侧，所述冷却腔室和磁控溅射腔室之间用第二可活动装置隔开；所述真空腔室设置于所述磁控溅射炉的入口处，所述冷却腔室设置于述磁控溅射炉的出口处。本发明提供了一种连续式磁控溅射装置，具有连续的三个腔室，按工作顺序分别为真空腔室、磁控溅射腔室、冷却腔室。三个腔室之间以可活动装置隔开，各自工作，互不干扰，从而实现了生产连续性，减少抽真空和冷却的等待时间，提高生产效率。CN107779835ACN107779835A权利要求书1/2页1.一种连续式磁控溅射装置，其特征在于，包括含有真空腔室、磁控溅射腔室和冷却腔室的磁控溅射炉；所述真空腔室设置在所述磁控溅射腔室的一侧，所述真空腔室和磁控溅射腔室之间用第一可活动装置隔开；所述冷却腔室设置在所述磁控溅射腔室的另一侧，所述冷却腔室和磁控溅射腔室之间用第二可活动装置隔开；所述真空腔室设置于所述磁控溅射炉的入口处，所述冷却腔室设置于所述磁控溅射炉的出口处。2.根据权利要求1所述的连续式磁控溅射装置，其特征在于，所述第一可活动装置包括挡板阀或插板阀；所述第二可活动装置包括挡板阀或插板阀。3.根据权利要求1所述的连续式磁控溅射装置，其特征在于，所述第一可活动装置位于磁控溅射腔室的一侧设置有刮板；所述第二可活动装置位于磁控溅射腔室的一侧设置有刮板。4.根据权利要求1～3任意一项所述的连续式磁控溅射装置，其特征在于，所述真空腔室内还设置有第一物料传送装置；所述磁控溅射腔室内还设置有第二物料传送装置；所述冷却腔室内还设置有第三物料传送装置。5.根据权利要求4所述的连续式磁控溅射装置，其特征在于，所述第一物料传送装置、第二物料传送装置和第三物料传送装置中的两个或多个，在使用时能够实现物料的连续传送。6.根据权利要求4所述的连续式磁控溅射装置，其特征在于，所述第一物料传送装置包括导轨、传送带和传送滚筒中的一种或多种；所述第二物料传送装置包括导轨、传送带和传送滚筒中的一种或多种；所述第三物料传送装置包括导轨、传送带和传送滚筒中的一种或多种。7.根据权利要求1所述的连续式磁控溅射装置，其特征在于，所述磁控溅射炉内还设置有密封材料。8.根据权利要求1所述的连续式磁控溅射装置，其特征在于，所述真空腔室的尺寸为1200～4200mm长*200～3000mm宽*500～3000mm高；所述磁控溅射腔室的尺寸为1200～4200mm长*200～3000mm宽*500～3000mm高；所述冷却腔室的尺寸为1200～4200mm长*200～3000mm宽*500～3000mm高。9.一种连续式磁控溅射的方法，其特征在于，包括以下步骤：1)从磁控溅射炉的进口，将第一批原料置于真空腔室内，打开第一可活动装置和第二可活动装置，真空腔室、磁控溅射腔室和冷却腔室连通，进行抽真空；2)将第一批原料送入磁控溅射腔室，关闭第一可活动装置和第二可活动装置，进行测控溅射，再将第二批原料，从磁控溅射炉的进口，送入真空腔室内，再次进行抽真空；3)打开第二可活动装置，将完成磁控溅射的第一批原料，送入冷却腔室进行冷却，关闭第二可活动装置，再打开第一可活动装置，将第二批原料送入磁控溅射腔室，关闭第一可活动装置，进行再次测控溅射，然后将第三批原料从磁控溅射炉的进口，送入真空腔室内，第2CN107779835A权利要求书2/2页三次进行抽真空；重复上述步骤，进行连续式磁控溅射。10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述原料包括钕铁硼磁体；所述抽真空的真空度为(1～9)×10-3Pa；所述磁控溅射的温度为100～400℃所述磁控溅射的时间为1～5h；所述冷却的时间为0.2～2h。3CN107779835A说明书1/9页一种连续式磁控溅射装置及连续式磁控溅射的方法技术领域[0001]本发明属于磁体制备技术领域，涉及一种连续式磁控溅射装置及连续式磁控溅射