预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/7
2/7
3/7
4/7
5/7
6/7
7/7

在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106565102A(43)申请公布日2017.04.19(21)申请号201610933745.2(22)申请日2016.10.25(71)申请人伯恩高新科技(惠州)有限公司地址516267广东省惠州市惠阳区永湖镇伯恩科技园(72)发明人王灵歌(74)专利代理机构广州三环专利代理有限公司44202代理人温旭(51)Int.Cl.C03C15/00(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图1页(54)发明名称一种玻璃盲孔加工方法(57)摘要本发明涉及玻璃盲孔加工技术领域,尤其涉及一种玻璃盲孔加工方法,包括以下步骤:1)、对玻璃上除盲孔区域外的区域进行抗酸防护处理;2)、将玻璃浸泡在鼓泡反应器内的蚀刻液内,鼓泡反应器对玻璃进行鼓泡及抛动,鼓泡反应器内的蚀刻液完成盲孔的蚀刻;3)、采用CNC对盲孔的边缘进行加工。本发明的发明目的在于提供一种玻璃盲孔加工方法,采用本发明提供的技术方案不需要通过CNC进行盲孔雕刻,降低了加工成本;还能够同时对多块玻璃进行盲孔加工,提高了盲孔加工效率;采用鼓泡反应器对玻璃进行鼓泡及抛动,不仅使得蚀刻液能够对盲孔进行均匀蚀刻,改善玻璃蚀刻后的小细纹现象,还能降低蚀刻液的用量,进一步降低了加工成本。CN106565102ACN106565102A权利要求书1/1页1.一种玻璃盲孔加工方法,其特征在于,包括以下步骤:1)、对玻璃上除盲孔区域外的区域进行抗酸防护处理;2)、将玻璃浸泡在鼓泡反应器内的蚀刻液内,鼓泡反应器对玻璃进行鼓泡及抛动,鼓泡反应器内的蚀刻液完成盲孔的蚀刻;3)、采用CNC对盲孔的边缘进行加工。2.根据权利要求1所述的一种玻璃盲孔加工方法,其特征在于:步骤1中对玻璃上除盲孔区域外的区域进行抗酸防护处理;所述除盲孔区域外的区域包括玻璃的上下面以及四周边缘。3.根据权利要求2所述的一种玻璃盲孔加工方法,其特征在于:步骤2中用于蚀刻的蚀刻液,以质量百分比表示,包括以下组分:HF:2-10%,H2SO4:2-8%,H2PO4:2-10%,助剂:5%,其他为纯水。4.根据权利要求3所述的一种玻璃盲孔加工方法,其特征在于:在步骤2的蚀刻过程中,蚀刻液的温度为20℃-40℃。5.根据权利要求4所述的一种玻璃盲孔加工方法,其特征在于:在步骤2中,盲孔的深度为50um-400um,蚀刻时间与盲孔的深度相对应,为30min-400min。2CN106565102A说明书1/4页一种玻璃盲孔加工方法技术领域[0001]本发明涉及玻璃盲孔加工技术领域,尤其涉及一种玻璃盲孔加工方法。背景技术[0002]为了在电子产品上实现隐藏式指纹识别功能,需要在玻璃盖板上开设凹槽形式的盲孔。目前玻璃的盲孔是通过CNC直接雕刻成型,再次通过磨机将盲孔倒角扫亮加工,玻璃盲孔的加工时间较长,并且不能同时对多块玻璃进行雕刻成型,盲孔加工效率低;在对批量玻璃进行盲孔雕刻时,需要耗损的砂轮较多,造成加工成本高;对于电子产品的玻璃盲孔加工,加工精度要求较高,在砂轮雕刻盲孔的操作过程中容易出现孔崩或边崩等现象,影响玻璃的品质。发明内容[0003]本发明的发明目的在于提供一种玻璃盲孔加工方法,采用本发明提供的技术方案解决了现有玻璃盲孔加工技术加工效率低、加工成本高以及加工品质低等技术问题。[0004]为了解决上述技术问题,本发明提供一种玻璃盲孔加工方法,包括以下步骤:[0005]1)、对玻璃上除盲孔区域外的区域进行抗酸防护处理;[0006]2)、将玻璃浸泡在鼓泡反应器内的蚀刻液内,鼓泡反应器对玻璃进行鼓泡及抛动,鼓泡反应器内的蚀刻液完成盲孔的蚀刻;[0007]3)、采用CNC对盲孔的边缘进行加工。[0008]由上可见,应用本发明实施例的技术方案,有如下有益效果:本发明采用化学侵蚀的方式对盲孔进行不同程度的化学侵蚀,不需要通过CNC进行盲孔雕刻,降低了加工成本;还能够同时对多块玻璃进行盲孔加工,提高了盲孔加工效率;采用鼓泡反应器对玻璃进行鼓泡及抛动,代替现有技术中喷洒方式,不仅使得蚀刻液能够对盲孔进行均匀蚀刻,改善玻璃蚀刻后的小细纹现象,还能降低蚀刻液的用量,进一步降低了加工成本。[0009]作为本发明的进一步改进,步骤1中对玻璃上除盲孔区域外的区域进行抗酸防护处理;所述除盲孔区域外的区域包括玻璃的上下面以及四周边缘。该结构在盲孔以外的区域设置有保护层,避免蚀刻液对该区域的影响,提高玻璃加工的品质。[0010]对于采用鼓泡反应器的加工方法,步骤2中用于蚀刻的蚀刻液与现有技术中采用的蚀刻液不同,蚀刻液以质量百分比表示,包括以下组分:HF:2-10%,H2SO4:2-8%,H2PO4:2-10%,助剂:5%,其他为纯水。上述组分的蚀刻液配合鼓泡反应器的鼓泡及抛动,对控制蚀刻的