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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115717258A(43)申请公布日2023.02.28(21)申请号202211582938.X(22)申请日2022.12.09(71)申请人上海天承化学有限公司地址201515上海市金山区金山卫镇秋实路688号1号楼5单元359室S座(72)发明人熊海平牟星宇(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司11332专利代理师刘二艳(51)Int.Cl.C25D3/38(2006.01)C25D5/02(2006.01)C25D5/18(2006.01)H05K3/42(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图2页(54)发明名称一种用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂及其应用(57)摘要本发明提供了一种用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂及其应用。本发明提供的整平剂被用于电铜镀液中时,具有良好的盲孔填充效果,既能确保盲孔填镀满足常规要求,又能够降低镀层孔隙率和镀层内应力,减少添加剂的用量,降低镀层中杂质含量,且添加有本发明整平剂的电镀液具有耐高温、耐氧化的优点,适合在脉冲电镀线上使用,适用于高盐含量的硫酸铜脉冲电镀槽。CN115717258ACN115717258A权利要求书1/2页1.一种用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂,其特征在于,所述整平剂的结构包括:其中Ar表示苯环或萘环;R独立地选自氢、卤素、巯基、硝基、羟基、醛基、C1‑10烷基、C1‑8烷氧基中的任意一种;n独立地为1‑5中任意的整数。2.根据权利要求1所述的用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂,其特征在于,所述醛基选自甲醛基或乙醛基。3.根据权利要求1或2所述的用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂,其特征在于,所述C1‑10烷基选自甲基、乙基或正丙基中的任意一种;优选地,所述C1‑8烷氧基选自甲氧基、乙氧基或辛氧基中的任意一种。4.根据权利要求1‑3中任一项所述的整平剂在印制线路板脉冲填孔电镀中的应用。5.一种电镀液,其特征在于,所述电镀液包括权利要求1‑3中任一项所述的用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂。6.根据权利要求5所述的电镀液,其特征在于,所述电镀液按照质量浓度计包括如下组分:权利要求1‑3中任一项所述的整平剂0.0005‑0.015g/L。7.根据权利要求6所述的电镀液,其特征在于,所述铁离子的提供物包括含铁的可溶性无机盐及其衍生物、或电解条件下可溶解的无机铁盐及其衍生物;优选地,所述铁离子的提供物包括硫酸铁和/或氯化铁;优选地,所述铁离子的质量浓度为1.5‑10g/L;优选地,所述氯离子的提供物包括氯化盐和/或盐酸;优选地,所述氯化盐包括氯化钾和/或氯化钠。8.根据权利要求6或7所述的电镀液,其特征在于,所述加速剂包括聚二硫二丙烷磺酸钠、3‑巯基‑1‑丙烷磺酸钠、N,N‑二甲基二硫代甲酰胺丙烷磺酸钠中的任意一种或至少两种2CN115717258A权利要求书2/2页的组合;优选地,所述加速剂为聚二硫二丙烷磺酸钠、3‑巯基‑1‑丙烷磺酸钠和N,N‑二甲基二硫代甲酰胺丙烷磺酸钠的组合;优选地,所述聚二硫二丙烷磺酸钠、3‑巯基‑1‑丙烷磺酸钠和N,N‑二甲基二硫代甲酰胺丙烷磺酸钠的质量比为1:(0.1‑0.8):(0.1‑1)。9.根据权利要求6‑8中任一项所述的电镀液,其特征在于,所述载剂包括分子量为3000‑20000的聚乙二醇;优选地,所述载剂为聚乙二醇10000、聚乙二醇8000、聚乙二醇4000的组合;优选地,所述聚乙二醇10000、聚乙二醇8000、聚乙二醇4000的质量比为1:(0.1‑1):(0.1‑0.6)。10.根据权利要求5‑9中任一项所述的电镀液的电镀方法,其特征在于,所述电镀方法包括如下步骤:将带有盲孔的印制电路板进行化学镀铜,浸酸,再浸入权利要求5‑9中任一项所述的电镀液中,进行脉冲电镀。3CN115717258A说明书1/9页一种用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂及其应用技术领域[0001]本发明属于电镀技术领域,具体涉及一种用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂及其应用。背景技术[0002]为了提高印制电路板(PCB或PWB)的机械强度,布线密度,散热性能、电信号性能等,在高密度(HDI)线路板中存在大量的微盲孔设计,这些盲孔需要进行电镀铜进行填充。目前所采取的电镀方式主要有两种,一种是采用直流电源,在硫酸铜为主盐的电镀槽中进行电镀铜填充盲孔,这种电镀工艺大多数在龙门线或者VCP电镀线上完成;另一种是采用脉冲电源进行电镀铜填充盲孔,这种电镀工艺几乎都在水平电镀线上完成。水平电镀线中由于阳极结构和分布特殊、阴阳极间距极小,喷流及喷嘴特殊设计等构造特点,可以使用脉冲电源进行高电流密度填充盲孔,填孔效果良好而且板面电镀铜层厚度薄。多年来,水平电镀线设备、各制程中化学药