一种靶材托及镀膜设备.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115747738A(43)申请公布日2023.03.07(21)申请号202211401178.8(22)申请日2022.11.09(71)申请人北京大学地址100871北京市海淀区颐和园路5号申请人常州隆斯克普电子科技有限公司(72)发明人鞠晶张莉马玉国刘晓斌宋岚张科阳李涛张谷一(74)专利代理机构北京清诚知识产权代理有限公司11691专利代理师何怀燕李博(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图8页(54)发明名称一种靶材托及镀膜设备(57)摘要本发明提供一种靶材托及镀膜设备，涉及镀膜技术领域，所述靶材托包括：可旋转的靶材托本体，所述靶材托本体的第一表面上沿圆周分布有多个安装位，所述安装位包括：一个盲板位和多个安装靶材的靶材位。在镀膜起始阶段，旋转靶材托本体，使工作气体对准盲板位，由于盲板位的材料不能被离子溅射，因此，不会出现溅射束流，避免不稳定溅射束流对镀膜效果的影响，提升镀膜精细度。在更换镀膜材料时，旋转靶材托本体，使工作气体对准对应的靶材位即可，免去对镀膜头的拆装，操作简单省时。CN115747738ACN115747738A权利要求书1/1页1.一种靶材托，其特征在于，包括：可旋转的靶材托本体，所述靶材托本体的第一表面上沿圆周分布有多个安装位，所述安装位包括：盲板位和安装靶材的靶材位。2.根据权利要求1所述的靶材托，其特征在于，所述安装位设于安装面上，各个安装面均与所述第一表面之间存在固定夹角，所有安装面围成封闭侧面。3.根据权利要求2所述的靶材托，其特征在于，所述安装面由圆弧边、两个相对的侧边及与所述圆弧边相对的顶边构成，相邻安装面的侧边重合围成封闭侧面，相邻安装面的顶边相连形成上底面，相邻安装面的圆弧边相连并通过过渡侧面与所述第一表面封闭连接。4.根据权利要求2所述的靶材托，其特征在于，所述靶材位为圆形，所述靶材位内凹或者外凸于所述靶材面，所述靶材位的侧面设有螺纹。5.根据权利要求2所述的靶材托，其特征在于，所述靶材位上设有内凹或者外凸于靶材面的外框。6.根据权利要求1‑5任一项所述的靶材托，其特征在于，所述第一表面的背面设有连杆，所述连杆上套设有旋转盘，所述旋转盘上设有刻度。7.根据权利要求6所述的靶材托，其特征在于，所述盲板位上安装有溅射筒，所述溅射筒上设有供离子束入射的窗口。8.一种镀膜设备，其特征在于，包括：工作腔，设于所述工作腔内的离子枪和如权利要求1‑7任意一项所述的靶材托。9.根据权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，所述靶材托与所述离子枪垂直设置。10.根据权利要求9所述的镀膜设备，其特征在于，所述离子枪包括：腔体，所述腔体上设有相互垂直的枪口和中空连杆，所述工作腔上设有通孔，所述连杆穿过所述通孔与外部工作气体提供设备连接。2CN115747738A说明书1/6页一种靶材托及镀膜设备技术领域[0001]本发明涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种靶材托及镀膜设备。背景技术[0002]目前，为了改善电子显微镜的成像效果，通常会对对样品表面预先进行镀膜。其中：镀膜方式可以分为：磁控溅射、碳蒸发、电子束蒸发等，磁控溅射是最常见的一种镀膜方式。[0003]现有电子显微镜制样用的磁控溅射镀膜设备包括：样品仓，样品仓内设有一个安装靶材的镀膜头。在磁控溅射操作中，将样品置于样品仓内后将样品仓密封并抽真空，然后向密封的样品仓体内注入工作气体(例如氩气)，再通过电极施加高压电，工作气体在高压电激励下电离得到阳离子，阳离子在电场的作用下，冲向镀膜头上的靶材，使靶材发生溅射，被溅射出来的靶材原子(或分子)沉积到样品表面，形成膜，从而完成镀膜过程。[0004]通过对上述镀膜设备的分析发现，其存在以下问题：[0005]1、在工作气体刚刚开始电离的时候，离子束流并不稳定，溅射出来的靶材原子(或分子)也不稳定，影响镀膜的均匀性和稳定性。[0006]2、镀膜设备中只有一个镀膜头，因此只能安装一块靶材，如果需要更换不同的镀膜材料，需要经常拆装靶材，费时费力。[0007]3、电离发生在整个样品仓内，对靶材的所有区域都进行溅射，因此靶材、工作气体的消耗量都比较大，对小样品镀膜时，浪费比较明显。发明内容[0008]本发明旨在提出一种靶材托及镀膜设备，以期至少部分地解决上述技术问题中的至少之一。[0009]第一方面，为解决上述技术问题，本发明提供了一种靶材托，包括：可旋转的靶材托本体，所述靶材托本体的第一表面上沿圆周分布有多个安装位，所述安装位包括：盲板位和安装靶材的靶材位。[0010]根据本发明一种优选的实施方式，所述安装位设于安装面上，各个安装面均与所述第一表面之间存在固定夹角，所有安装面围成封闭侧面。[0011]根据本发明一种优选