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卸载用于气体气相沉积的薄膜暗盒的设备和方法.pdf
2023-06-27
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慧娇****文章
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卸载用于气体气相沉积的薄膜暗盒的设备和方法.pdf
本发明是卸载用于气体气相沉积的薄膜暗盒的设备和方法。将涂覆的薄膜从薄膜暗盒转移并且立刻层压到保护性薄膜，同时使之与所述涂覆的薄膜的接触最小化、使所述涂覆的薄膜的折皱或使所述涂覆的薄膜的破裂最小化。
2023-06-27
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用于气态气相沉积的薄膜暗盒.pdf
用于在气态气相沉积工艺期间支撑薄膜的暗盒包括具有第一端板和第二端板的中心转轴。每个端板上的脊均形成能够接纳薄膜的边缘的螺旋槽。每个脊均具有含有大致线性主要边缘的横截面构型、预定的宽度尺寸和预定的平均厚度尺寸以及至少2∶1的宽度与厚度纵横比。所述脊可为在自由端具有任选的扰流器的大致矩形或者大致楔形。端板之间的轮辐间的间距为至少三百毫米(300mm)并且也大于在气态沉积温度下薄膜基质的宽度尺寸。每个脊的宽度尺寸均介于所述轮辐间的间距的约0.5％至约2.0％之间。
2023-06-27
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用于气体气相沉积的负载膜暗盒.pdf
本发明公开了在气体气相沉积期间用于支撑膜的暗盒，所述暗盒具有第一端板和第二端板。每个端板上的肋均形成螺旋凹槽，所述螺旋凹槽沿边缘接纳具有大于300mm宽度的螺旋膜缠绕。膜缠绕的圈之间的空间限定气体流导槽，并且肋的相邻圈之间的空间在一个端板中限定多个与所述导槽连通的入口开口。每个肋均具有预定宽度尺寸、预定平均厚度尺寸、以及至少2∶1的宽度-厚度纵横比。端板之间的间距为至少三百毫米(300mm)并且也大于膜基质在气体沉积温度下的宽度尺寸。每个肋的宽度尺寸均介于端板间距的约0.5％至约2.0％之间。
2023-06-27
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用于化学气相沉积设备中的气体墙结构.pdf
本发明涉及一种用于化学气相沉积设备中的气体墙结构，包括设置于外管内腔中的内管，内、外管之间留有均匀间隙，该间隙与设置在外管上的进气口连通，内管上沿轴向分布多个连通内管内腔和上述均匀间隙的气隙结构，其中每一气隙结构包括沿周向均匀分布的多个进气缝隙、一延伸壁和一导流壁，延伸壁和导流壁沿进入该气隙结构的气流运动方向依次分布在内管内腔中，延伸壁一端固定在内管内壁上，另一端盖过进气缝隙，导流壁为设置在内管内壁上的倾斜面。本发明藉设于一系列交错相连的壁面之间的进气缝隙，令由进气缝隙进入的气体在壁面内侧形成气体墙，从而
2023-11-26
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用于化学气相沉积工艺的设备.pdf
本发明提供了一种用于化学气相沉积工艺的设备，该设备包括：公共腔、多个工艺腔、控制阀、真空泵及氮气系统，其中，公共腔上连接有多个工艺腔，用于为多个工艺腔输送工件，且工艺腔通过控制阀与真空泵及氮气系统连通。该技术方案，利用控制阀直接将氮气系统与工艺腔相连通，从而不需要公共腔便可将工艺腔内恢复成大气状态，一方面工艺腔内的残留物质不能进入到公共腔，从而确保了公共腔及其它工艺腔的整洁度，进而确保了其它工艺腔内的工件的质量，另一方面，减少了清洗公共腔及将公共腔抽成真空的环节，从而提高了工件的加工效率。
2023-11-20
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