用于气体气相沉积的负载膜暗盒.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102597315A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102597315A(43)申请公布日2012.07.18(21)申请号201080049087.1代理人王伦伟李炳爱(22)申请日2010.08.31(51)Int.Cl.(30)优先权数据C23C16/458(2006.01)12/5507662009.08.31USC23C16/54(2006.01)B29C35/00(2006.01)(85)PCT申请进入国家阶段日B29C59/00(2006.01)2012.04.27B65D83/00(2006.01)(86)PCT申请的申请数据B65H45/00(2006.01)PCT/US2010/0472302010.08.31C23C16/455(2006.01)(87)PCT申请的公布数据WO2011/026069EN2011.03.03(71)申请人纳幕尔杜邦公司地址美国特拉华州(72)发明人P·F·卡西亚C·埃斯特拉达R·D·基纳德R·S·麦克利恩K·H·施尔基图斯(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司72001权利要求书权利要求书2页2页说明书说明书1414页页附图附图1313页(54)发明名称用于气体气相沉积的负载膜暗盒(57)摘要本发明公开了在气体气相沉积期间用于支撑膜的暗盒，所述暗盒具有第一端板和第二端板。每个端板上的肋均形成螺旋凹槽，所述螺旋凹槽沿边缘接纳具有大于300mm宽度的螺旋膜缠绕。膜缠绕的圈之间的空间限定气体流导槽，并且肋的相邻圈之间的空间在一个端板中限定多个与所述导槽连通的入口开口。每个肋均具有预定宽度尺寸、预定平均厚度尺寸、以及至少2∶1的宽度-厚度纵横比。端板之间的间距为至少三百毫米(300mm)并且也大于膜基质在气体沉积温度下的宽度尺寸。每个肋的宽度尺寸均介于端板间距的约0.5％至约2.0％之间。CN1025973ACN102597315A权利要求书1/2页1.用于气体气相沉积方法的膜暗盒，所述暗盒包括：中心轴，所述中心轴具有从其中穿过的轴线；第一端板和第二端板，每个端板均被安装到所述轴上，每个端板均包括中心毂，从所述中心毂辐射出多个以角度间隔的轮辐，所述每个端板的轮辐均具有内表面，所述内表面位于被取向成基本上垂直于所述轴的轴线的基准平面上，每个端板均具有安装到其所述内表面上的螺旋肋，每个螺旋肋均具有预定数目的均匀间隔的圈和与其相关联的预定节距，所述螺旋肋的相邻圈之间的空间限定每个端板上的螺旋凹槽；膜基质，所述膜基质在其上具有第一边缘和第二边缘并且具有大于三百毫米(300mm)的预定宽度尺寸，所述膜基质的每个边缘均被接纳在所述端板中的一个上的螺旋凹槽内以限定具有多个圈的螺旋膜缠绕，所述螺旋膜缠绕的相邻圈之间的空间协作以限定气体流导槽，所述导槽在所述端板之间横跨所述暗盒轴向延伸，每个肋均在包含所述轴的轴线的径向平面中具有横截面构型，所述横截面构型表现出大致线性的主要边缘，每个肋均具有在平行于所述轴的轴线的方向上从其上安装有所述肋的轮辐的内表面测量的预定宽度尺寸、针对所述轴的轴线在径向上测量的预定平均厚度尺寸、以及至少2∶1的宽度对平均厚度纵横比，其中所述轮辐的内表面被间隔开一定距离，所述距离大于由所述膜基质在气体沉积温度下所表现出的宽度尺寸，并且每个端板上的所述肋的宽度尺寸均为介于所述轮辐的内表面之间的间距的约0.5％至约2.0％；并且在一个端板上设置在相邻轮辐之间的所述螺旋安装的肋的相邻圈之间的空间限定多个用于气态流体的入口开口，在另一个端板上在相邻轮辐之间延伸的所述螺旋安装的肋的相邻圈之间的空间限定多个用于气态流体的出口开口，所述入口开口和所述出口开口与所述气体流导槽连通。2.权利要求1的暗盒，其中所述螺旋肋具有预定节距，每个螺旋肋的节距均小于所述轮辐间的间距的约1.2％。3.权利要求2的暗盒，其中每个螺旋肋的节距均小于所述轮辐间的间距的约0.5％。4.权利要求2的暗盒，其中每个端板上的所述肋的厚度尺寸均小于所述节距的约百分之五十。5.权利要求1的暗盒，其中每个螺旋肋均在其上具有预定厚度的涂层，所述涂层厚度处在约100埃至约2000埃的范围内，所述涂层具有小于约五十微米(50微米)的预定表面粗糙度以及大于30肖氏硬度D的硬度。2CN102597315A权利要求书2/2页6.权利要求5的暗盒，其中所述涂层为氧化铝，并且其中所述涂层厚度处在约100埃至约1000埃的范围内。7.权利要求1的暗盒，其中所述一个端板具有限定在其上的预定面积，并且其中所述入口开口的面积为所述一个端板的预定面积的至少百分之五十。8.权利要求1的暗盒，其中所述膜缠绕具有内端，并且其中所述轴为中空构件，所述中空构件具有设置在其中的轴向延伸的缝槽，所述缝槽平行