防边缘漏电的晶硅电池及其制备方法.pdf
静芙****可爱
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防边缘漏电的晶硅电池及其制备方法.pdf
本发明公开了一种防边缘漏电的晶硅电池机及其制备方法,包括在电池片的边缘涂覆一层高温绝缘膜,所述的高温绝缘膜的膜厚厚度25‑40μm。所制备的电池片包括位于四周边缘的耐高温绝缘膜,所述的高温绝缘膜的高度与硅基质层厚度相同,膜的厚度为25‑40μm。本发明能够杜绝了丝网印刷工序的金属浆料造成的边缘漏电,同时得益于更大的铝背场面积,提高了电池转换效率。
一种防边缘漏电的晶硅电池及其制备方法.pdf
本发明涉及太阳能电池生产领域。一种防边缘漏电的晶硅电池,在晶硅电池的每片电池片的周侧有一层25‑40μm的高温绝缘膜,该高温绝缘膜在1000摄氏度时具有稳定性。该防边缘漏电的晶硅电池制备方法为,在电池片制备正负电极前在硅片的周侧制备一层25‑40μm的高温绝缘膜,然后在制备正负电极。本发明所设计的晶硅电池的电池片利用四周形成的耐高温绝缘膜杜绝了丝网印刷工序的金属浆料造成的边缘漏电,同时得益于更大的铝背场面积,提高了电池转换效率。
一种无边缘切割损失的钝化接触晶硅电池及其制备方法.pdf
本发明涉及一种无边缘切割损失的钝化接触晶硅电池及其制备方法,属于电池制备技术领域。生产钝化接触晶硅电池步骤中首先进行切割步骤,将硅片分成至少两片分片、和/或在硅片表面切割形成切割槽。本发明提供的一种无边缘切割损失的钝化接触晶硅电池的制备方法,将对电池的切割工序优化改变成对硅片的切割,设置到钝化接触电池生产工序之前,从根源上解决了电池片的切割损失。通过背面处理工艺步骤和正面钝化及背面钝化等步骤对切割面进行化学腐蚀修复和钝化修复,使得切割面被包裹在钝化层中,杜绝与空气的接触,解决了边缘切割损失,避免了电池少子
晶硅电池的制备方法.pdf
本申请实施例提供了一种晶硅电池的制备方法,该制备方法包括:在半导体基底的背面上依次形成隧穿钝化层以及掩膜层;其中,半导体基底具有相背的正面以及背面;对掩膜层进行构图,形成掩膜图案;其中,掩膜图案露出部分隧穿钝化层;利用刻蚀液去除未被掩膜图案遮挡的隧穿钝化层,以露出部分半导体基底,并利用刻蚀液对露出的半导体基底进行抛光;在半导体基底的背面形成保护层,保护层覆盖掩膜图案以及露出的半导体基底;在半导体基底的正面进行制绒;去除保护层,并在半导体基底的正面和背面分别形成钝化层;在半导体基底的背面形成第一电极和第二电
降低N型晶硅太阳能电池漏电比例的制备方法.pdf
本发明提供了一种降低N型晶硅太阳能电池漏电比例的制备方法,属于太阳能电池制备技术领域,包括湿法刻蚀后,利用槽式设备对硅片进行二次酸洗,再进行硼扩散;二次酸洗的时间为300s‑500s。本发明提供的降低N型晶硅太阳能电池漏电比例的制备方法,湿法刻蚀工序后,使用槽式设备,硅片放入篮具内,杜绝了滚轮接触导致的漏电;加入二次酸洗工艺,提高了酸洗时间,通过优化酸洗工艺,获得更低的漏电值,达到提升合格率的目的。