成膜装置以及成膜方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN101905205A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CNCN101905205101905205A(43)申请公布日2010.12.08(21)申请号201010200797.1B05B15/02(2006.01)(22)申请日2010.06.08B05B9/04(2006.01)B05D1/02(2006.01)(30)优先权数据B05D1/40(2006.01)2009-1371922009.06.08JPH01L21/00(2006.01)(71)申请人株式会社东芝地址日本东京都申请人中外炉工业株式会社(72)发明人大城健一佐藤强德本隆男夏贞雄岩崎聪一郎(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人张斯盾(51)Int.Cl.B05B13/04(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图6页(54)发明名称成膜装置以及成膜方法(57)摘要本发明所要解决的技术问题是，实现材料利用效率以及作业率的提高，且防止以涂覆喷嘴的污染为起因的膜厚均匀性的降低。本发明中，成膜装置(1)中，具备：具有载置涂覆对象物(W)的载置面(2a)的台架(2)、使台架(2)在沿载置面(2a)的旋转方向旋转的旋转机构(3)、将材料排出到台架(2)上的涂覆对象物(W)上并进行涂覆的涂覆喷嘴(4)、使台架(2)和涂覆喷嘴(4)在与旋转方向相交的交差方向沿载置面(2a)相对移动的移动机构(5)、一面通过旋转机构(3)使载置了涂覆对象物(W)的台架(2)旋转，一面通过移动机构(5)使台架(2)和涂覆喷嘴(4)在交差方向沿载置面(2a)相对移动，进行通过涂覆喷嘴(4)将向台架(2)上的涂覆对象物(W)涂覆材料的控制的控制部(10)、清洗涂覆喷嘴(4)的清洗装置(7)。CN10952ACN101905205ACCNN110190520501905207A权利要求书1/2页1.一种成膜装置，其特征在于，具备：具有载置涂覆对象物的载置面的台架、使上述台架在沿上述载置面的旋转方向旋转的旋转机构、将材料排出到上述台架上的上述涂覆对象物上并进行涂覆的涂覆喷嘴、使上述台架和上述涂覆喷嘴在与上述旋转方向相交的交差方向沿上述载置面相对移动的移动机构、一面通过上述旋转机构使载置了上述涂覆对象物的上述台架旋转，一面通过上述移动机构使上述台架和上述涂覆喷嘴在上述交差方向沿上述载置面相对移动，进行通过上述涂覆喷嘴向上述台架上的上述涂覆对象物涂覆上述材料的控制的控制部、清洗上述涂覆喷嘴的清洗装置。2.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，还具备检查相对于上述涂覆喷嘴的附着物的有无的检查装置，在上述涂覆喷嘴上存在附着物的情况下，上述清洗装置清洗上述涂覆喷嘴。3.如权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，还具备获取相对于上述台架上的上述涂覆对象物排出上述材料的上述涂覆喷嘴的图像的图像获取部，上述控制部根据由上述图像获取部获取的上述涂覆喷嘴的图像判断上述材料相对于上述涂覆喷嘴的迁移程度。4.如权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，在发生了上述材料的迁移的情况下，上述控制部停止相对于上述涂覆对象物的上述材料的涂覆。5.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，还具备对上述台架上的上述涂覆对象物的由上述材料产生的涂覆膜进行观察的观察装置。6.如权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，根据上述观察装置对上述涂覆膜的观察的结果，在上述涂覆膜上产生遗漏的情况下，进行局部涂覆，在上述涂覆膜上存在异物的情况下，发出警报，在上述涂覆膜上存在膜厚异常的情况下，发出警报，调整成膜用的参数。7.一种成膜方法，其特征在于，包括：一面使在载置面上载置了涂覆对象物的台架在沿上述载置面的旋转方向旋转，一面使上述台架和涂覆喷嘴在与上述旋转方向相交的交差方向沿上述载置面相对移动，并且，一面使上述台架和上述涂覆喷嘴相对移动，一面通过上述涂覆喷嘴向上述台架上的上述涂覆对象物涂覆材料，在上述涂覆对象物上成膜的工序、在上述材料的涂覆待机过程中，清洗上述涂覆喷嘴的工序、在执行上述材料的涂覆的过程中，获取相对于上述台架上的上述涂覆对象物排出上述材料的上述涂覆喷嘴的图像，根据该图像判断相对于上述涂覆喷嘴的上述材料的迁移程度的工序。8.如权利要求7所述的成膜方法，其特征在于，在发生了上述材料的迁移的情况下，停止相对于上述涂覆对象物的上述材料的涂覆。9.如权利要求7或8所述的成膜方法，其特征在于，还包括在上述材料的涂覆待机过程中，检查相对于上述涂覆喷嘴的附着物的有无的工序，在上述涂覆喷嘴存在附着物的情况下，清洗上述涂覆喷嘴。2CCNN110190520501905207A权利要求书2/2页10.如权利要求7所述的成膜方法，其特征在于，还包括在执行了上述材料的涂覆后，对