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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111304627A(43)申请公布日2020.06.19(21)申请号201911253610.1C23C16/46(2006.01)(22)申请日2019.12.09(30)优先权数据2018-2319582018.12.11JP(71)申请人丰田自动车株式会社地址日本爱知县申请人国立大学法人京都工芸纤维大学(72)发明人永冈达司川井文彰西中浩之吉本昌广(74)专利代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司44224代理人郎伊琳(51)Int.Cl.C23C16/44(2006.01)C23C16/34(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图2页(54)发明名称成膜装置及成膜方法(57)摘要本发明抑制在成膜装置中生长的膜中混入意料不到的杂质。本发明提供一种成膜装置,其通过向基体的表面供给溶液的喷雾而使膜在所述基体的所述表面生长,该成膜装置具有:加热炉,其收容并加热所述基体;以及喷雾供给装置,其向所述加热炉供给所述溶液的所述喷雾。所述成膜装置中的暴露在所述喷雾中的部分的至少其中一部分由含有氮化硼的材料制成。CN111304627ACN111304627A权利要求书1/1页1.一种成膜装置,其通过向基体的表面供给溶液的喷雾而使膜在所述基体的所述表面生长,该成膜装置的特征在于,具有:加热炉,其收容并加热所述基体;以及喷雾供给装置,其向所述加热炉供给所述溶液的所述喷雾,所述成膜装置中的暴露在所述喷雾中的部分的至少其中一部分由含有氮化硼的材料制成。2.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,所述加热炉的内表面的至少其中一部分由含有氮化硼的所述材料制成。3.一种成膜方法,其利用权利要求1的成膜装置使膜生长,其特征在于,具有:涂敷工序,在该工序中,通过向含有氮化硼的所述材料供给具有所述溶液所含有的成分的液体、或所述液体的喷雾,从而在含有氮化硼的所述材料的表面进行涂敷;以及生长工序,在该工序中,在进行涂敷的所述工序之后,在所述加热炉内配置了所述基体的状态下,将所述溶液的所述喷雾从所述喷雾供给装置向所述加热炉供给,从而使所述膜在所述基体的所述表面生长。2CN111304627A说明书1/6页成膜装置及成膜方法技术领域[0001]本发明公开的技术涉及成膜装置及成膜方法。背景技术[0002]专利文献1公开了一种成膜装置,其将溶液的喷雾向基体的表面供给,使膜在基体的表面生长。该成膜装置具有:加热炉,其收容基体并加热;以及喷雾供给装置,其将溶液的喷雾向加热炉供给。通过在加热炉内使喷雾附着在基体的表面,从而膜在基体的表面生长。[0003]专利文献1:日本特开2015-070248号公报发明内容[0004]专利文献1的成膜装置中,暴露在喷雾中的部分通常由耐热性以及化学稳定性优异的石英制成。然而,对利用这种成膜装置生长的膜进行分析的结果发现,膜中含有硅。认为是硅从成膜装置的石英在喷雾中溶出而混入了膜中。这样,在成膜时,有时由制成成膜装置的材料产生的意料不到的杂质(硅等)会引入膜中,从而无法准确地控制膜的特性。在本说明书中,提出一种能够抑制意料不到的杂质混入膜中的成膜装置。[0005]本说明书所公开的成膜装置,通过向基体的表面供给溶液的喷雾而使膜在所述基体的所述表面生长。该成膜装置具有:加热炉,其收容所述基体并加热;以及喷雾供给装置,其将所述溶液的所述喷雾向所述加热炉供给。所述成膜装置中的暴露在所述喷雾中的部分的至少其中一部分由含有氮化硼的材料制成。[0006]该成膜装置的暴露在喷雾中的部分的至少其中一部分由含有氮化硼的材料制成。氮化硼具有高耐热性,并且具有优异的化学稳定性。因此,通过由含有氮化硼的材料制成成膜装置的暴露在喷雾中的部分的至少其中一部分,能够抑制意料不到的杂质混入要生长的膜中。附图说明[0007]图1为实施例1的成膜装置的结构图。图2为实施例2的成膜装置的结构图。图3为实施例3的成膜装置的结构图。具体实施方式[0008]图1所示的成膜装置10是使膜在基板70的表面外延生长的装置。成膜装置10具备:加热炉12,其配置有基板70;加热器14,其对加热炉12进行加热;喷雾供给装置20,其与加热炉12连接;以及排出管80,其与加热炉12连接。[0009]加热炉12的具体结构并不特别限定。作为一个例子,图1所示的加热炉12是从上游端12a延伸至下游端12b为止的管状炉。加热炉12的垂直于长度方向的剖面为圆形。但加热炉12的剖面不限于圆形。加热炉12的内表面涂敷有涂层90。在实施例1中,涂层90为氮化硼3CN111304627A说明书2/6页(PBN:PyrolyticBoronNitride(热解氮化硼))。即,加热炉12中的暴露在喷雾中的部分由氮化硼制成。[0010]