激光退火片台装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102306620A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102306620A(43)申请公布日2012.01.04(21)申请号201110256442.9(22)申请日2011.09.01(71)申请人清华大学地址100084北京市海淀区100084-82信箱(72)发明人张建富冯平法吴志军郁鼎文荣子光张云亮郑书友(74)专利代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201代理人黄德海(51)Int.Cl.H01L21/00(2006.01)H01L21/268(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图4页(54)发明名称激光退火片台装置(57)摘要本发明公开一种激光退火片台装置，包括：底座、炉壳、加热组件、隔热组件、托盘和卸片组件。炉壳内限定有炉腔，炉腔的上表面敞开，炉壳支撑在底座上；加热组件设在炉腔内；隔热组件设在加热组件与炉壳的内壁之间；托盘设在炉壳的顶面上且设有沿托盘轴向贯通的通孔；卸片组件设在底座上且位于炉壳与底座之间，卸片组件包括多个顶针和驱动组件，驱动组件用于驱动多个顶针沿上下方向移动以便每个顶针能够向上穿过对应的通孔向上伸出托盘的上表面。根据本发明的激光退火片台装置结构简单，对硅晶片加热均匀。在安放、卸载硅晶片时卸片组件起到辅助作用，使安放、卸载硅晶片更加方便。CN10236ACCNN110230662002306627A权利要求书1/1页1.一种激光退火片台装置，其特征在于，包括：底座；炉壳，所述炉壳内限定有炉腔，所述炉腔的上表面敞开，所述炉壳支撑在所述底座上；加热组件，所述加热组件设在所述炉腔内；隔热组件，所述隔热组件设在所述加热组件与所述炉壳的内壁之间；托盘，所述托盘设在所述炉壳的顶面上且设有沿托盘轴向贯通的通孔；和卸片组件，所述卸片组件设在所述底座上且位于所述炉壳与所述底座之间，所述卸片组件包括多个顶针和驱动组件，所述驱动组件用于驱动所述多个顶针沿上下方向移动以便每个所述顶针能够向上穿过对应的所述通孔向上伸出所述托盘的上表面。2.根据权利要求1所述的激光退火片台装置，其特征在于，进一步包括第一和第二导轨，所述第一导轨沿第一方向可平移地设在所述第二导轨上，其中所述底座沿正交于所述第一方向的第二方向可平移地设在所述第一导轨上。3.根据权利要求1所述的激光退火片台装置，其特征在于，进一步包括调平组件，所述调平组件连接在所述炉壳与所述底座之间用于调整所述托盘的水平度。4.根据权利要求3所述的激光退火片台装置，其特征在于，所述调平组件包括：第一螺柱，所述第一螺柱设在所述底座的上表面上；第二螺柱，所述第二螺柱设在所述炉壳的底面上且与所述第一螺柱对应；螺套，所述螺套两端分别与所述第一和第二螺柱螺纹连接；和第一和第二螺母，所述第一和所述第二螺母分别配合在所述第一螺柱和第二螺柱上且分别位于所述螺套两端。5.根据权利要求1所述的激光退火片台装置，其特征在于，所述驱动组件包括：支撑盘，每个所述顶针的下端固定在支撑盘上；转轴，所述转轴可旋转地支撑在所述底座上；和凸轮，所述凸轮安装在所述转轴上用于随所述转轴旋转以驱动所述支撑盘升降。6.根据权利要求1所述的激光退火片台装置，其特征在于，所述托盘为石墨盘，且所述石墨盘的外表面上镀有碳化硅膜。7.根据权利要求1所述的激光退火片台装置，其特征在于，所述加热组件与所述托盘间隔开预定距离且包括铠装电热丝。8.根据权利要求1所述的激光退火片台装置，其特征在于，所述隔热组件包括多个套筒，每个套筒的顶端敞开且底端封闭，所述多个套筒嵌套在一起且相邻两个套筒的底面之间以及周面之间彼此间隔开。9.根据权利要求1所述的激光退火片台装置，其特征在于，所述托盘上设置有用于将硅晶片固定在所述托盘上的弹簧拨片。10.根据权利要求1-9中任一项所述的激光退火片台装置，其特征在于，还包括托盘温度控制系统，所述托盘温度控制单元系统包括：用于检测所述托盘的温度的测温件；和温控单元，所述温控单元分别与所述测温件和所述加热组件相连以根据所述测温件检测到的温度控制所述加热组件。2CCNN110230662002306627A说明书1/5页激光退火片台装置技术领域[0001]本发明涉及集成电路制造领域，特别涉及一种用于集成电路制造中的硅晶片激光退火片台装置。背景技术[0002]激光退火是超浅结制作工艺中重要的热处理环节。在进行硅晶片激光退火处理时，需要实现硅晶片相对激光光源的精密平面运动，同时为了降低能量阈值，需要对硅晶片辅以加热。而较高温度的热源又会对下方运动平台的直线电机、精密导轨等产生影响，导致运动误差加大。在装片和取片时，通过真空镊子等工具将硅晶片安放在托盘上，后从托盘上取下，同时，需要有装卸辅助机构进行辅助以使硅晶片放置的位置准确、方便装片和卸片。而现