化学气相沉积法涂层系统及工艺.pdf
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化学气相沉积法涂层系统及工艺.pdf
本发明涉及化学气相沉积法涂层系统及工艺。采用的技术方案是:涂层工艺如下:将基体置于托盘内,然后将托盘码于支撑筒内的沉积区;控制系统控制不同的反应气体分别经气体入口引入气体混合室;混合后的反应气体经进气管进入反应炉内,经预热区预热,挡板和隔板的分散,进入沉积区;控制系统控制加热炉升温,控制沉积区反应温度为900~2000℃,于常压下对基体涂层;产生的尾气经排气帽、尾气入口Ⅰ,预热板和尾气出口Ⅰ进入点火装置,中和液经喷淋装置喷淋,吸收中和尾气,净化后的尾气经尾气出口Ⅱ排出,吸收液经吸收液出口收集,集中处理。采
化学气相沉积法涂层装置.pdf
本发明创造涉及化学气相沉积法涂层装置。采用的技术方案是:包括反应炉,反应炉内设有支撑筒,支撑筒上端设有排气帽,反应炉和支撑筒之间为尾气通道,支撑筒内从上到下依次为沉积区、气体分配区和预热区;沉积区内:设有若干托盘),托盘上设有若干通气孔Ⅰ;气体分配区内:支架Ⅰ固定挡板,挡板上端安装至少三层隔板,支架Ⅱ固定隔板,隔板上设有若干通气孔Ⅱ;预热区内:安装若干层预热板,进气管的出口端与气体分配区相通,支撑筒在预热区部位的下端设有尾气入口,预热区的下端设有尾气出口。还设有加热炉,反应炉置于加热炉内。采用本发明创造的
化学气相沉积法制备TiB_2涂层工艺的研究.docx
化学气相沉积法制备TiB_2涂层工艺的研究化学气相沉积法制备TiB_2涂层工艺的研究摘要TiB_2是一种具有优异力学性能和高温稳定性的陶瓷材料,广泛应用于航空、汽车等领域。本论文研究了化学气相沉积法制备TiB_2涂层的工艺,主要包括前驱体选择、沉积温度、沉积时间等参数的优化。通过SEM、XRD等表征手段对涂层的形貌和结构进行了分析。结果显示,在适宜的工艺条件下,制备的TiB_2涂层具有致密且均匀的微观结构。此外,还探究了TiB_2涂层的性能及其在实际应用中的潜力。关键词:化学气相沉积法、TiB_2涂层、优
工艺参数对化学气相沉积ZrC涂层形貌和组分的影响.docx
工艺参数对化学气相沉积ZrC涂层形貌和组分的影响摘要本文通过对化学气相沉积ZrC涂层的工艺参数,如温度、气压和反应物流量等进行控制实验,研究了它们对涂层形貌和组分的影响。结果表明,温度和反应物流量对涂层形貌和组分的影响较大,而气压对其影响较小。涂层形貌和组分随着温度的升高而改善,但是这种改善却受到反应物流量的限制。本文的结果具有一定的参考价值,能够为优化化学气相沉积工艺提供科学依据。关键词:化学气相沉积;ZrC涂层;工艺参数;形貌;组分引言化学气相沉积技术是一种常用的表面改性技术,在各个行业都有着广泛的应
化学气相沉积法.docx
化学气相沉积法摘要:本文从化学气相沉积法的概念出发,详细阐述了利用化学气相沉积法制备石墨烯以及薄膜,并展望了未来化学气相沉积法可能的发展方向。关键词:化学气相沉积法;制备;应用前言近年来,各国科学工作者对化学气相沉积进行了大量的研究,并取得一定的显著成果。例如,从气态金属卤化物(主要是氯化物)还原化合沉积制取难熔化合物粉末及各种涂层(包括碳化物、硼化物、硅化物、氮化物)的方法。其中化学沉积碳化钛技术已十分成熟。化学气相沉积还广泛应用于薄膜制备,主要为Bchir等使用钨的配合物Cl4(RCN)W(NC3H5