化学气相沉积法.pptx
胜利****实阿
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化学气相沉积法(CVD)制备石墨烯化学气相沉积(CVD)CVD反应体系应满足的条件:1CVD技术在无机合成时的特点01CVD装置渗碳析碳机制:对于镍等具有较高溶碳量的金属基体,碳源裂解产生的碳原子在高温时渗入金属基体内,在降温时再从其内部析出成核,最终生长成石墨烯。CVD法制备石墨烯碳源CVD法制备石墨烯生长基体CVD法制备石墨烯生长条件
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化学气相沉积法涂层装置.pdf
本发明创造涉及化学气相沉积法涂层装置。采用的技术方案是:包括反应炉,反应炉内设有支撑筒,支撑筒上端设有排气帽,反应炉和支撑筒之间为尾气通道,支撑筒内从上到下依次为沉积区、气体分配区和预热区;沉积区内:设有若干托盘),托盘上设有若干通气孔Ⅰ;气体分配区内:支架Ⅰ固定挡板,挡板上端安装至少三层隔板,支架Ⅱ固定隔板,隔板上设有若干通气孔Ⅱ;预热区内:安装若干层预热板,进气管的出口端与气体分配区相通,支撑筒在预热区部位的下端设有尾气入口,预热区的下端设有尾气出口。还设有加热炉,反应炉置于加热炉内。采用本发明创造的
化学气相沉积.ppt
化学气相沉积23456789101112131415161718192021222324252627282024/2/930313233343536373839404142434445464748495051525354552024/2/9
一种化学气相沉积法装置.pdf
本发明公开了一种化学气相沉积法装置,属于二维材料的制备技术领域。一种化学气相沉积法装置,包括:反应炉以及加热装置,加热装置围绕反应炉设置;反应炉的两端分别设有进气口和出气口,反应炉的内部设有反应室,反应室内设有多层金属基底,相邻两层金属基底的边缘之间设有呈多孔的隔条,使相邻两层金属基底之间具有间隙S。本发明在不阻隔呈气态的前躯体流通、同时避免金属基底高温烧结或粘连的情况下,充分利用了反应室的空间,增加了可放置的金属基底的面积以及进而可形成的二维材料薄膜的面积,适用于工业生产制备,此外,本发明的装置制备的二