化学气相沉积法涂层装置.pdf
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化学气相沉积法涂层装置.pdf
本发明创造涉及化学气相沉积法涂层装置。采用的技术方案是:包括反应炉,反应炉内设有支撑筒,支撑筒上端设有排气帽,反应炉和支撑筒之间为尾气通道,支撑筒内从上到下依次为沉积区、气体分配区和预热区;沉积区内:设有若干托盘),托盘上设有若干通气孔Ⅰ;气体分配区内:支架Ⅰ固定挡板,挡板上端安装至少三层隔板,支架Ⅱ固定隔板,隔板上设有若干通气孔Ⅱ;预热区内:安装若干层预热板,进气管的出口端与气体分配区相通,支撑筒在预热区部位的下端设有尾气入口,预热区的下端设有尾气出口。还设有加热炉,反应炉置于加热炉内。采用本发明创造的
化学气相沉积法涂层系统及工艺.pdf
本发明涉及化学气相沉积法涂层系统及工艺。采用的技术方案是:涂层工艺如下:将基体置于托盘内,然后将托盘码于支撑筒内的沉积区;控制系统控制不同的反应气体分别经气体入口引入气体混合室;混合后的反应气体经进气管进入反应炉内,经预热区预热,挡板和隔板的分散,进入沉积区;控制系统控制加热炉升温,控制沉积区反应温度为900~2000℃,于常压下对基体涂层;产生的尾气经排气帽、尾气入口Ⅰ,预热板和尾气出口Ⅰ进入点火装置,中和液经喷淋装置喷淋,吸收中和尾气,净化后的尾气经尾气出口Ⅱ排出,吸收液经吸收液出口收集,集中处理。采
化学气相沉积装置.pdf
一种化学气相沉积装置,具备在内部进行气相生长的反应炉和从所述反应炉排出气体的排气配管,所述排气配管具有至少1个弯曲部,在所述弯曲部具备从所述弯曲部向不同的方向延伸出且在内部具有堆积物的存积空间的至少1个配管延长部。
一种化学气相沉积法装置.pdf
本发明公开了一种化学气相沉积法装置,属于二维材料的制备技术领域。一种化学气相沉积法装置,包括:反应炉以及加热装置,加热装置围绕反应炉设置;反应炉的两端分别设有进气口和出气口,反应炉的内部设有反应室,反应室内设有多层金属基底,相邻两层金属基底的边缘之间设有呈多孔的隔条,使相邻两层金属基底之间具有间隙S。本发明在不阻隔呈气态的前躯体流通、同时避免金属基底高温烧结或粘连的情况下,充分利用了反应室的空间,增加了可放置的金属基底的面积以及进而可形成的二维材料薄膜的面积,适用于工业生产制备,此外,本发明的装置制备的二
化学气相沉积法.docx
化学气相沉积法摘要:本文从化学气相沉积法的概念出发,详细阐述了利用化学气相沉积法制备石墨烯以及薄膜,并展望了未来化学气相沉积法可能的发展方向。关键词:化学气相沉积法;制备;应用前言近年来,各国科学工作者对化学气相沉积进行了大量的研究,并取得一定的显著成果。例如,从气态金属卤化物(主要是氯化物)还原化合沉积制取难熔化合物粉末及各种涂层(包括碳化物、硼化物、硅化物、氮化物)的方法。其中化学沉积碳化钛技术已十分成熟。化学气相沉积还广泛应用于薄膜制备,主要为Bchir等使用钨的配合物Cl4(RCN)W(NC3H5