工艺参数对化学气相沉积ZrC涂层形貌和组分的影响.docx
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工艺参数对化学气相沉积ZrC涂层形貌和组分的影响.docx
工艺参数对化学气相沉积ZrC涂层形貌和组分的影响摘要本文通过对化学气相沉积ZrC涂层的工艺参数,如温度、气压和反应物流量等进行控制实验,研究了它们对涂层形貌和组分的影响。结果表明,温度和反应物流量对涂层形貌和组分的影响较大,而气压对其影响较小。涂层形貌和组分随着温度的升高而改善,但是这种改善却受到反应物流量的限制。本文的结果具有一定的参考价值,能够为优化化学气相沉积工艺提供科学依据。关键词:化学气相沉积;ZrC涂层;工艺参数;形貌;组分引言化学气相沉积技术是一种常用的表面改性技术,在各个行业都有着广泛的应
化学气相沉积法涂层系统及工艺.pdf
本发明涉及化学气相沉积法涂层系统及工艺。采用的技术方案是:涂层工艺如下:将基体置于托盘内,然后将托盘码于支撑筒内的沉积区;控制系统控制不同的反应气体分别经气体入口引入气体混合室;混合后的反应气体经进气管进入反应炉内,经预热区预热,挡板和隔板的分散,进入沉积区;控制系统控制加热炉升温,控制沉积区反应温度为900~2000℃,于常压下对基体涂层;产生的尾气经排气帽、尾气入口Ⅰ,预热板和尾气出口Ⅰ进入点火装置,中和液经喷淋装置喷淋,吸收中和尾气,净化后的尾气经尾气出口Ⅱ排出,吸收液经吸收液出口收集,集中处理。采
化学气相沉积涂层新技术和应用.docx
化学气相沉积涂层新技术和应用化学气相沉积涂层新技术和应用引言:化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)涂层技术是一种重要的表面处理技术,在多个行业中得到广泛应用。随着科技的进步和需求的增加,不断涌现出新的CVD涂层技术和应用。本文将介绍近年来出现的一些新的CVD涂层技术以及它们在不同领域的应用。一、气相催化沉积(CatalyticChemicalVaporDeposition,CCVD)涂层技术CCVD涂层技术是一种利用催化剂促进反应的CVD技术。相比传统的CVD技术,CCV
内涂层及SAPS工艺参数对HfC涂层结构和形貌的影响.pptx
汇报人:目录PARTONE内涂层的材料选择内涂层的厚度对HfC涂层的影响内涂层的表面粗糙度对HfC涂层的影响内涂层的热膨胀系数对HfC涂层的影响PARTTWOSAPS工艺温度对HfC涂层的影响SAPS工艺压力对HfC涂层的影响SAPS工艺气体流量对HfC涂层的影响SAPS工艺时间对HfC涂层的影响PARTTHREE内涂层对HfC涂层结构和形貌影响的实验结果SAPS工艺参数对HfC涂层结构和形貌影响的实验结果结果分析PARTFOUR结论总结未来研究方向THANKYOU
化学气相沉积法涂层装置.pdf
本发明创造涉及化学气相沉积法涂层装置。采用的技术方案是:包括反应炉,反应炉内设有支撑筒,支撑筒上端设有排气帽,反应炉和支撑筒之间为尾气通道,支撑筒内从上到下依次为沉积区、气体分配区和预热区;沉积区内:设有若干托盘),托盘上设有若干通气孔Ⅰ;气体分配区内:支架Ⅰ固定挡板,挡板上端安装至少三层隔板,支架Ⅱ固定隔板,隔板上设有若干通气孔Ⅱ;预热区内:安装若干层预热板,进气管的出口端与气体分配区相通,支撑筒在预热区部位的下端设有尾气入口,预热区的下端设有尾气出口。还设有加热炉,反应炉置于加热炉内。采用本发明创造的