一种管式PECVD设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103088320A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103088320103088320A(43)申请公布日2013.05.08(21)申请号201110341002.3(22)申请日2011.11.01(71)申请人洛阳尚德太阳能电力有限公司地址471003河南省洛阳市高新技术产业开发区华夏路8号申请人无锡尚德太阳能电力有限公司(72)发明人陈华伟王广军沈杨张琪虎潘淑阳陈兵兵邓雷尤朝华吕海强(74)专利代理机构北京金信立方知识产权代理有限公司11225代理人黄威郭迎侠(51)Int.Cl.C23C16/50(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书3页说明书3页附图3页附图3页(54)发明名称一种管式PECVD设备(57)摘要本发明涉及一种管式PECVD设备，包括上下料区、炉体和控制系统，还设有用于存储从炉体内出来的石墨舟的下料存储区，所述下料存储区设置有对石墨舟进行冷却的冷却装置。本发明克服了采用现有的PECVD设备时，操作人员的工作环境差、工作效率低的缺点，提供一种可大大改善工作环境并提高工作效率的管式PECVD设备。CN103088320ACN10382ACN103088320A权利要求书1/1页1.一种管式PECVD设备，包括上下料区、炉体、抽真空系统和控制系统，其特征在于：还设有用于存储从炉体内出来的石墨舟的下料存储区，所述下料存储区设置有对石墨舟进行冷却的冷却装置。2.根据权利要求1所述的管式PECVD设备，其特征在于：所述下料存储区位于所述上下料区的下方。3.根据权利要求1或2所述的管式PECVD设备，其特征在于：下料存储区设有用于架设并存储石墨舟的下料存储架，所述冷却装置位于所述下料存储架的下方。4.根据权利要求1所述的管式PECVD设备，其特征在于：所述冷却装置包括至少一个冷却风机。5.根据权利要求4所述的管式PECVD设备，其特征在于：所述冷却风机为四个。6.根据权利要求4或5所述的管式PECVD设备，其特征在于：所述冷却风机为可调速冷却风机。7.根据权利要求6所述的管式PECVD设备，其特征在于：还包括与所述冷却风机电连接的风冷控制装置。8.根据权利要求6所述的管式PECVD设备，其特征在于：所述冷却风机与所述控制系统电连接。9.根据权利要求1所述的管式PECVD设备，其特征在于：还设有用于存储进入炉体前的石墨舟的上料存储区，所述上料存储区位于所述上下料区的下方且位于所述下料存储区的上方。10.根据权利要求9所述的管式PECVD设备，其特征在于：所述上料存储区设有用于架设并存储石墨舟的上料存储架。2CN103088320A说明书1/3页一种管式PECVD设备技术领域[0001]本发明涉及太阳电池片制造领域。具体为一种对硅片进行镀膜的管式PECVD设备。背景技术[0002]PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)设备，即等离子增强化学气象沉积设备，用于对硅片进行镀膜，如图1所示，其包括上下料区、炉体、抽真空系统和控制系统，硅片装在石墨舟中，通过上下料区进入炉体进行镀膜，镀膜后在上下料区将石墨舟卸下，即下舟。等离子增强化学气象沉积设备对硅片进行镀膜的原理为：借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在硅片上沉积出所期望的薄膜。PECVD方法区别于其它CVD方法的特点在于等离子体中含有大量高能量的电子，它们可以提供化学气相沉积过程所需的激活能。电子与气相分子的碰撞可以促进气体分子的分解、化合、激发和电离过程，生成活性很高的各种化学基团，因而显著降低CVD薄膜沉积的温度范围，使得原来需要在高温下才能进行的CVD过程得以在低温(小于450°)实现。尽管如此，从炉体中出来的石墨舟的温度仍然在150°以上，因此运用管式PECVD设备的车间内需设置冷却房，操作人员需要将从炉体内出来的石墨舟装入石墨舟承载车，并通过石墨舟承载车将石墨舟推入冷却房9进行冷却，之后再推回装片房8将硅片从石墨舟中卸下并装进相应的设备中。其缺陷在于，首先操作人员在下舟时会有强烈的炙热感，对其健康不利；其次，操作人员需推着石墨舟到冷却房，之后再推往装片房，推行石墨舟的距离和时间较长，因此工作效率不高；另外，冷却房的工作原理为：将车间内的新鲜空气抽入冷却房，并将冷却房内被石墨舟加热的空气排出，这样车间内的空气质量下降，工作环境较差。发明内容[0003]本发明解决的技术问题在于克服采用现有的PECVD设备时，操作人员的工作环境差、工作效率低的缺点，提供一种可大大改善工作环境并提高工作效率的管式PECVD设备。[0004]本发明的一种管式PECVD设备，包括上下