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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103372559A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103372559103372559A(43)申请公布日2013.10.30(21)申请号201210123365.4(22)申请日2012.04.24(71)申请人无锡华润上华科技有限公司地址214028江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号(72)发明人陈勇刘理想(74)专利代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司44224代理人邓云鹏(51)Int.Cl.B08B9/08(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书3页说明书3页附图1页附图1页(54)发明名称炉管清洗方法(57)摘要本发明公开一种炉管清洗方法,包括如下步骤:对炉管升温;向炉管内通入二氯乙烯以去除可动金属离子;向炉管内通入氧气以清除残留的二氯乙烯。上述方法通过在二氯乙烯吹扫之后通入氧气清除二氯乙烯的残留,使得炉管在质量控制之后即可立即进行下一步的生产,不用担心二氯乙烯残留带来的问题。CN103372559ACN1037259ACN103372559A权利要求书1/1页1.一种炉管清洗方法,包括如下步骤:对炉管升温;向炉管内通入二氯乙烯,以去除可动金属离子;向炉管内通入氧气,以清除残留的二氯乙烯。2.根据权利要求1所述的炉管清洗方法,其特征在于,所述向炉管内通入二氯乙烯,以去除可动金属离子的步骤中,通入二氯乙烯的时间为70~90分钟。3.根据权利要求1所述的炉管清洗方法,其特征在于,所述向炉管内通入氧气,以清除残留的二氯乙烯的步骤中,通入氧气的时间为20分钟以上。4.根据权利要求1所述的炉管清洗方法,其特征在于,所述向炉管内通入二氯乙烯,以去除可动金属离子的步骤中,通入二氯乙烯的时间为80分钟,所述向炉管内通入氧气,以清除残留的二氯乙烯的步骤中,通入氧气的时间为30分钟。5.根据权利要求1所述的炉管清洗方法,其特征在于,在对炉管升温的步骤之前,还包括将监控晶圆载入炉管的步骤。6.根据权利要求1所述的炉管清洗方法,其特征在于,通入所述二氯乙烯和氧气以保持监控晶圆表面的氧化层生长至预定的厚度。7.根据权利要求1至6任一项所述的炉管清洗方法,其特征在于,所述通入二氯乙烯和氧气的步骤由机台的质量控制菜单控制执行。2CN103372559A说明书1/3页炉管清洗方法技术领域[0001]本发明涉及半导体工艺,特别是涉及一种炉管清洗方法。背景技术[0002]炉管工艺是半导体工艺中一种重要的加工工艺,可进行批量加工,主要用于热氧化制程、热退火、热烘烤、化学气相沉积等。在炉管工艺中,批量的晶圆放置在晶舟中,然后将晶舟放入炉管,为炉管施加各种条件,例如加热、通入反应气体等,即可进行炉管工艺。[0003]由于炉管工艺中会产生诸如可动金属离子等残留物,每隔固定的周期(如两周),都会用二氯乙烯对炉管进行吹扫以清除残留物。在利用二氯乙烯吹扫炉管后,输送二氯乙烯的管道通常都会有二氯乙烯的残留。[0004]随着半导体制程的不断发展,关键尺寸(criticaldimension)越来越小,因此半导体工艺中对栅氧化层厚度的控制上精度要求越来越高,以0.13微米工艺为例,其低压栅氧层的厚度已将至1.8纳米。[0005]在栅氧化层厚度控制精度要求变高的前提下,管道中二氯乙烯的残留会给后续的炉管工艺,特别是掺氯氧化制程带来影响。发明内容[0006]基于此,有必要针对管道中残留二氯乙烯的问题,提供一种炉管清洗方法。[0007]一种炉管清洗方法,包括如下步骤:对炉管升温;向炉管内通入二氯乙烯,以去除可动金属离子;向炉管内通入氧气,以清除残留的二氯乙烯。[0008]在其中一个实施例中,所述向炉管内通入二氯乙烯,以去除可动金属离子的步骤中,持续通入二氯乙烯的时间为70~90分钟。[0009]在其中一个实施例中,所述向炉管内通入氧气,以清除残留的二氯乙烯的步骤中,通入氧气的时间为20分钟以上。[0010]在其中一个实施例中,所述向炉管内通入二氯乙烯,以去除可动金属离子的步骤中,通入二氯乙烯的时间为80分钟,所述向炉管内通入氧气,以清除残留的二氯乙烯的步骤中,通入氧气的时间为30分钟。[0011]在其中一个实施例中,在对炉管升温的步骤之前,还包括将监控晶圆载入炉管的步骤。[0012]在其中一个实施例中,通入所述二氯乙烯和氧气以保持监控晶圆表面的氧化层生长至预定的厚度。[0013]在其中一个实施例中,所述通入二氯乙烯和氧气的步骤由机台的质量控制菜单控制执行。[0014]上述方法通过在二氯乙烯吹扫之后通入氧气清除二氯乙烯的残留,使得炉管在质量控制之后即可立即进行下一步的生产,不用担心二氯乙烯残留带来的问题。3CN103372559A说明书2/3页附图说明[0015]图1为炉管