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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109037114A(43)申请公布日2018.12.18(21)申请号201810986610.1(22)申请日2018.08.28(71)申请人德淮半导体有限公司地址223302江苏省淮安市淮阴区长江东路599号(72)发明人喻泽锋周冬成吴宗祐林宗贤(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227代理人武振华吴敏(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图4页(54)发明名称炉管设备及其清洗方法(57)摘要一种炉管设备及其清洗方法,所述炉管设备包括:加热腔室;石英管,所述石英管位于所述加热腔室内,且所述石英管内具有用于放置晶舟的晶舟腔室;一组或多组光电传感器,每组光电传感器包括相互匹配的发射传感器和接收传感器,在工作状态下,所述接收传感器适于透过所述石英管接收匹配的发射传感器的光线。本发明方案可以有效地降低清洗不足或过清洗的可能性。CN109037114ACN109037114A权利要求书1/2页1.一种炉管设备,其特征在于,包括:加热腔室;石英管,所述石英管位于所述加热腔室内,且所述石英管内具有用于放置晶舟的晶舟腔室;一组或多组光电传感器,每组光电传感器包括相互匹配的发射传感器和接收传感器,在工作状态下,所述接收传感器适于透过所述石英管接收匹配的发射传感器的光线。2.根据权利要求1所述的炉管设备,其特征在于,还包括:升降机构,所述一组或多组光电传感器设置于所述升降机构上,在工作状态下,所述升降机构带动所述一组或多组光电传感器上升至所述加热腔室内的预设位置;在非工作状态下,所述升降机构带动所述一组或多组光电传感器下降以离开所述加热腔室。3.根据权利要求2所述的炉管设备,其特征在于,所述升降机构包括:升降式的连杆结构,包括至少一组连杆,每组连杆包括分别位于所述石英管相对两侧的第一连杆和第二连杆,对于每组光电传感器,所述发射传感器设置于所述第一连杆,所述接收传感器设置于第二连杆;驱动结构,与所述升降式的连杆结构耦接以驱动所述连杆结构上升或下降。4.根据权利要求1所述的炉管设备,其特征在于,在所述石英管的横截面所处的平面上,多组光电传感器中的发射传感器以及接收传感器呈中心对称分布,对称中心为所述石英管的横截面的中心。5.根据权利要求1所述的炉管设备,其特征在于,所述光电传感器设置于冷却组件内,所述冷却组件适于对所述光电传感器进行冷却。6.根据权利要求5所述的炉管设备,其特征在于,所述冷却组件包括:密封的冷却腔室,所述光电传感器位于所述冷却腔室内;进液管以及出液管,用于输入以及输出冷却液体;线路通孔,用于导出所述光电传感器的线路;光线通孔,所述光电传感器发射或接收的光线通过所述光线通孔传输。7.根据权利要求6所述的炉管设备,其特征在于,在工作状态下,所述冷却液体自所述进液管流入并自出液管流出;在非工作状态下,所述冷却液体停止流动。8.根据权利要求1至7任一项所述的炉管设备,其特征在于,还包括:光电转换器,适于将所述接收传感器接收到的光线转换为电信号;控制器,适于在所述电信号的参数值超过预设阈值时产生指示信号,所述指示信号用于指示停止对所述炉管设备的清洗操作。9.一种权利要求1至8任一项所述的炉管设备的清洗方法,其特征在于,包括:在工作模式下,控制所述一组或多组光电传感器进入所述加热腔室内且位于所述石英管外;对所述炉管设备进行清洗,并在清洗过程中,监测各组光电传感器中的接收传感器接收到的光线强度;当监测到光线强度超出预设强度阈值的光电传感器的组数达到预设组数时,停止对所2CN109037114A权利要求书2/2页述炉管设备进行清洗。10.根据权利要求9所述的炉管设备的清洗方法,其特征在于,还包括:在非工作模式下,将所述一组或多组光电传感器移动至离开所述加热腔室。3CN109037114A说明书1/6页炉管设备及其清洗方法技术领域[0001]本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种炉管设备及其清洗方法。背景技术[0002]在半导体制造工艺中,炉管设备用于沉积材料层,为重要的半导体制造设备,然而在使用一段时间后,容易发生材料附着或残留在炉管设备内的问题,需要予以去除。[0003]在现有技术中,通常采用腐蚀性气体对反应管(例如为石英管)进行干法清洗,以腐蚀去除附着的材料。[0004]然而,对于干法清洗的清洗时长,均采用预先设定的方式,也即对于不同的炉管设备、不同的沉积材料,有可能采用同样的清洗时长,容易产生清洗不足的问题,影响工艺效果,还容易产生反应管过腐蚀的问题,降低反应管的使用寿命。发明内容[0005]本发明解决的技术问题是提供一种炉管设备及其清洗方法,可以有效地降低清洗不足或过清洗的可能性。[0006]